「fine shift」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a phase shift mask blank with which a fine pattern is stably transferred with high accuracy.例文帳に追加

微細なパターンを高い精度で安定的に転写することが可能な位相シフトマスクブランクを提供すること。 - 特許庁

To provide a phase shift mask for improving the accuracy of a fine structure in a semiconductor device having a concentric pattern.例文帳に追加

同心形状を有する半導体装置の微細構造の精度を高める位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To correct the dependence on the crude density of line widths depending upon the distances between the patterns of fine processing patterns using a phase shift.例文帳に追加

位相シフトを用いた微細加工パターンのパターン間距離に依存した線幅の疎密依存性を補正する。 - 特許庁

To provide a method for producing a phase shift mask by which a fine and highly precise exposure pattern is formed, to provide a method for manufacturing a flat panel display, and to provide the phase shift mask.例文帳に追加

微細かつ高精度な露光パターンを形成することが可能な位相シフトマスクの製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法及び位相シフトマスクを提供する - 特許庁

To obtain a deflection yoke that is capable of completely correcting a Yh-axis shift through fine adjustment of the volume position of the variable resistor, even when the Yh-axis shift is large.例文帳に追加

Ｙｈ軸ズレ量が大きい場合であっても、可変抵抗のボリューム位置の微調整によって、Ｙｈ軸ズレを完全に補正することが可能な偏向ヨークを得る。 - 特許庁

To realize a simple and easy changeover between coarse and fine shift adjustments, and further, to realize a speedy and precision coarse shift adjustment.例文帳に追加

この発明の目的は、簡便にして容易な粗動及び微動調整の切り替えを実現したうえで、迅速にして高精度な粗動調整を実現することにある。 - 特許庁

When the shift to the high density reading mode is dispensed with, fine scanning is executed in accordance with the fine scanning condition (120), and when case that the shift to the high density reading mode is necessitated, the image is read at a slow carrying speed and also at a long storing time.例文帳に追加

高濃度読取モードに移行が必要でない場合には、ファインスキャン条件に従ってファインスキャンし(120) 、高濃度読取モードに移行が必要な場合には、遅い搬送速度でかつ長い蓄積時間で画像を読み取る。 - 特許庁

To simultaneously display the fine movement of an arm and the whole movement of shift in an articulated object so that they are easily learned.例文帳に追加

多関節物体における腕などの細かい動きと移動など全体の動きを同時に分かり易く表示する。 - 特許庁

To widen an allowance for a positional shift of an absolute pattern to an incremental pattern, and to make the incremental pattern fine.例文帳に追加

アブソリュートパターンのインクリメンタルパターンに対する位置ずれの許容度を大きくし、インクリメンタルパターンの微細化を可能とする。 - 特許庁

Adjusting a resistance value can realize fine adjustment of a level shift quantity, thus easily obtaining, on experience values, the level shift quantity for performing smooth switching between the step-up and the step-down operations.例文帳に追加

抵抗値を調整することで微調整が可能であり、昇圧動作と降圧動作が円滑に切り換わる為の前記レベルシフト量を、経験値的に簡単に求める事が可能となる。 - 特許庁

To form a fine pattern without using an auxiliary pattern method and a phase shift mask or the like, and to easily inspect the fault of the mask.例文帳に追加

補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。 - 特許庁

To simply manufacture a molded product reduced in the positional shift of both sides and having a fine shape such as a lens or the like formed to both sides thereof.例文帳に追加

両面の位置ずれが小さい、両面にレンズ等の微細形状が形成された成形品を簡便に製造する。 - 特許庁

To provide a method for producing a semiconductor device, by which a fine pattern is formed even without using an assist pattern method or a phase shift mask and defect inspection on a mask is easily performed.例文帳に追加

補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。 - 特許庁

To provide a phase shift mask for forming a fine line pattern at a relatively low cost and to provide an exposure method using the mask.例文帳に追加

比較的低コストで微細なラインパターンを形成することが可能な位相シフトマスク及びそれを用いた露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a connector device by effectively preventing shift of a contact between connecting terminals to alleviate deterioration of the contact due to fine slide abrasion.例文帳に追加

接続端子相互間の接点移動を有効に防止して微摺動摩耗による接点劣化の軽減を図ったコネクタ装置を提供する。 - 特許庁

In another way of patterning, the stage 5 is periodically moved to shift the irradiation position and the fine pattern is formed on the surface of the substrate by laser beam machining.例文帳に追加

また、ステージ５の周期的移動により照射位置を変え、レーザ加工により基板表面に微細形状を形成することもできる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of reducing a driving voltage, making elements micro-fine, and reducing flat band voltage shift amounts.例文帳に追加

駆動電圧が低く、素子の微細化が可能であり、かつフラットバンド電圧シフト量が小さい半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a halftone type phase shift mask on which a fine photomask pattern is formed with high accuracy, and to provide a mask blank for producing the above mask.例文帳に追加

微細なフォトマスクパターンが高精度で形成されたハーフトーン型位相シフトマスクおよびこれを作製するためのマスクブランクを提供すること。 - 特許庁

To provide an eaves type Levenson phase shift mask for transferring a fine pattern in which fragments of eaves are restored with high accuracy, and to provide a mask defect modifying method for restoring broken parts of the eaves of the eaves type phase shift mask.例文帳に追加

ひさし折れが修復された、微細パターンを高精度に転写できるひさし型レベンソン位相シフトマスクと、ひさし型位相シフトマスクのひさし折れ部分を修復できるマスク欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a shift control device of an automatic transmission for vehicle capable of carrying out fine learning when shipping from a factory and when a dealer performs maintenance.例文帳に追加

工場出荷時やディーラでのメンテナンス時においてきめ細かな学習を実行できる車両用自動変速機の変速制御装置を提供する。 - 特許庁

Since the pattern size control is effective to a fine pattern and both dose and the extent of shift are used as size control parameters, exposure with sufficient tolerance is enabled.例文帳に追加

微細なパターンに有効でかつ寸法制御パラメータとして照射量とシフト量の両方でできるので裕度のある露光が可能である。 - 特許庁

One layer is formed by plural times of exposure including high- resolution exposure using plural fine patterns (gate finger parts) and plural phase shift patterns (shifters) which are respectively arranged on both sides in the fine line width direction of the fine patterns and negate the interference of light by the phase difference of the light passing the same and ordinary exposure exclusive of the fine pattern points.例文帳に追加

複数の微細パターン（ゲートフィンガ部）と、当該微細パターンの微細線幅方向両側にそれぞれ配置され、透過する光の位相差により光の干渉を打ち消す複数の位相シフトパターン（シフタ）と用いた高解像度露光と、微細パターン箇所以外の通常露光とを含む複数回露光により一つの層を形成する。 - 特許庁

The diameter of the fine pore 110 in a state that shift reaction catalysts are arranged on the inside of the fine pores 110 is so made that at least one of carbon monoxide (CO) and water (H2O) is capable of being Knudsen-diffused.例文帳に追加

細孔１１０の内壁にシフト触媒１２０が配設された状態において、細孔１１０の径は、一酸化炭素（ＣＯ）及び水（Ｈ_2Ｏ）の気体分子のうち、少なくとも一方がクヌーセン拡散し得る径となるように構成されている。 - 特許庁

The display part 32r is supported on the fixed part 30r and can display a picture for the fine adjustment for displaying an adjustment amount when the shift position of a rear derailer is finely adjusted.例文帳に追加

表示部３２ｒは、固定部３０ｒに支持され、リアディレーラの変速位置を微調整する際の調整量を表示する微調整用画面を表示可能なものである。 - 特許庁

In digital register correction that corrects a polygon face tangle error by image processing, there is less blurs of the fine line, and color shift can be suppressed to the minimum.例文帳に追加

本発明は、ポリゴン面倒れを画像処理により補正するデジタル・レジ補正において、細線の滲みが少なく、かつ色ずれも最小限に抑えること特徴とする。 - 特許庁

The CrAlON film of the phase shift layer of the phase shift mask exhibits a relatively high transmittance to exposure light having a short wavelength and inverts the phase of the exposure light to 180° at a prescribed thickness and is therefore capable of forming photoresist film patterns of fine patterns.例文帳に追加

位相シフトマスクの位相シフト層のＣｒＡｌＯＮ膜は短波長を有する露光光に対して相対的に高透過率を示して所定厚さで露光光の位相を１８０°に反転させるので微細なパターンのフォトレジスト膜パターンが形成できる。 - 特許庁

With this structure, even if shift is not carried out during travelling, learning based on the first fill control can be performed, and fine learning can be carried out when shipping from a factory and when a dealer performs maintenance.例文帳に追加

すなわち、工場出荷時やディーラでのメンテナンス時においてきめ細かな学習を実行できる車両用自動変速機の変速制御装置を提供することができる。 - 特許庁

Thus, a CD shift amount is changed separately in the memory area (2) wherein the pattern becomes fine (2A≥B) and the peripheral circuit area (1) wherein the pattern is coarse (2A<B).例文帳に追加

これによって、パターンが密（２Ａ≧Ｂ）になっているメモリ部領域（２）とパターンが疎（２Ａ＜Ｂ）になっている周辺回路部領域（１）とでＣＤシフト量が別々に変更される。 - 特許庁

To provide an excellent image from which the chemical shift artifact of water signals and fat signals is removed even at a fine structure part without being affected by the duplication of the spectrum of the water signals and the fat signals.例文帳に追加

水信号と脂肪信号とのスペクトルの重複に影響されず、微細な構造部分まで水信号と脂肪信号との化学シフトアーチファクトを除去した良好な画像を得る。 - 特許庁

To provide a liquid ejector for ink jet printer and a manufacturing method thereof in which fine pitch and multinozzle can be realized easily while preventing positional shift of members at the time of assembling.例文帳に追加

狭ピッチ化及び多ノズル化が容易であり、かつ組み立て時に部材の位置ずれが生じない、インクジェットプリンタ等に用いられる液体噴射装置ないしはその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light-emitting device capable of performing a fine tuning of chromaticity in order to suppress a slight shift of chromaticity due to a concentration difference of a phosphor or the like, and a method of manufacturing the light-emitting device.例文帳に追加

蛍光体の濃度差などによる色度のわずかなズレを抑制するために、色度の微調整を行うことができる発光装置および発光装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image recorder which makes unnecessary high-speed processing for nozzle selection at the time of carrying out ink fine oscillation processing with a positional shift amount of a recording medium taken into account, and which exactly carries out ink fine oscillation processing for continuing high-quality recording processing before recording processing, and also to provide a method of ink fine oscillation processing by the apparatus, and a program.例文帳に追加

記録媒体の位置ずれ量を考慮したインク微振動処理を行う際のノズル選定のための高速処理を不要とし、高品位な記録処理を継続するためのインク微振動処理を記録処理前に的確に行うことが可能な画像記録装置、その装置によるインク微振動処理方法及びプログラムを提供する。 - 特許庁

The phase correction device executes phase correction by combining a phase shifter 14 capable of executing phase shift of a fine amount but of which the shiftable phase amount is small and a π/2 phase shifter 18 capable of executing phase shift of a rough amount (e.g. a π/2 unit) but of which the shiftable phase amount is large.例文帳に追加

微細な量の位相シフトが可能であるがシフト可能な位相量が小さい位相シフタ１４と、粗い量（例えばπ／２単位）の位相シフトのみが可能であるがシフト可能な位相量が大きいπ／２位相シフタ１８とを組み合わせて位相補正を行う。 - 特許庁

To provide a fine pattern forming method which obviates the occurrence of the deterioration in dimensional accuracy by the influence of reflected light, etc., from a light shielding body surface in projection exposing using a phase shift mask having high phase angle controllability.例文帳に追加

位相角制御性の高い位相シフトマスクを用い投影露光時に遮光体面からの反射光等の影響による寸法精度劣化の生じない微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

In other words, a time base unit 38 directly varies the resolution, and the resolution is further fragmented indirectly via a statistical shift of the center of gravity by the light emitting time fine-adjusting unit 40.例文帳に追加

即ち、時間ベースユニット３８が直接的に分解能を変更し、その分解能が発光時間微調整ユニット４０により、統計的な重心シフトを介して間接的に更に細分化される。 - 特許庁

To correct a color shift among R, G, B in main and sub scanning directions occurred due to an optical lens aberration and mechanical vibration and to correct satisfactorily a color shift at a fine line part which tends to be influenced by intrinsic noise of a sensor in an image reading apparatus to read and scan an original image by using a color line sensor.例文帳に追加

カラーラインセンサを用いて原稿画像を読み取り走査する画像読み取り装置において、光学系のレンズ収差や機械振動に起因して発生する主・副走査方向でのＲ，Ｇ，Ｂ間の色ズレを補正し、また、センサ固有のノイズの影響を受け易い細線部について良好に色ズレを補正する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display reliably preventing a shift of a columnar spacer while accurately holding a gap between substrates even when deformation or the like of the substrates is generated and avoiding generation of a blue bright spot or a fine bright spot.例文帳に追加

基板の変形等が生じても、基板間のギャップを精度よく保持しつつ、柱状スペーサのずれを信頼性よく防止し、青輝点あるいは微少輝点の発生を回避した液晶表示装置の提供。 - 特許庁

To provide a phase shift mask which is lessened in phase collision for improving productivity and reliability, thereby, substantially undesirable lines are removed and making the sizes of shapes fine is made easier.例文帳に追加

生産性および信頼性を改善するための、位相衝突が減少され、それによって実質的に望ましくない線が除去される、かつ形状のサイズの微細化を容易にする位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a fine line metal catalyst having a sufficiently high catalytic activity and a sufficiently high heat resistance and being useful for the reaction such as a water gas shift reaction and the like carried out under a high temperature condition.例文帳に追加

水性ガスシフト反応等の高温条件下で行われる反応に用いる場合に有用な、十分に高い触媒活性と十分に高い耐熱性とを有する金属細線触媒を提供すること。 - 特許庁

To provide a transfer apparatus equipped with a gimbal mechanism constituted so as not only to suppress positional shift small but also to perform mold release without damaging a fine uneven shape when the fine uneven pattern formed on the surface of a mold is transferred to the surface of a product to be molded using a lithographic technique, and a transfer method using it.例文帳に追加

リソグラフィ技術を用いて型の表面に形成された微細な凹凸パターンを被成形品の表面に転写するとき、位置ずれを小さく抑えることができると共に、微細な凹凸形状を損傷することなく離形を行うことのできる転写装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that using ink containing settleable fine particles in a conventional recording head causes the fine particles to be settled out and attached to the head inside and the vicinity of a nozzle opening, ink droplet discharge characteristics to change, and an ink flying direction to shift, and that a coated film quality and recording quality are deteriorated owing to these causes.例文帳に追加

従来の記録ヘッドで、沈降性の微粒子を含有するインクを使用すると、ヘッド内部やノズル開口近辺に微粒子が沈降して付着し、インク滴吐出特性が変化したり、インク滴の飛翔方向をずらせてしまうことがあり、これらの原因で記録品質や塗膜品質が低下する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal panel, a liquid crystal television, and a liquid crystal display device which each have a high oblique contrast ratio and a small oblique color shift quantity by reducing a light leak and fine coloration during black display on the liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置の黒表示における光漏れと微弱な色づきを低減し、斜め方向のコントラスト比が高く、斜め方向のカラーシフト量を小さい液晶パネル、液晶テレビ、および液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid crystal panel, a liquid crystal television, and a liquid crystal display device that reduce light leakage and fine coloration of black display of the liquid crystal display device and have a high oblique contrast ratio and a small oblique color shift quantity.例文帳に追加

液晶表示装置の黒表示における光漏れと微弱な色づきを低減し、斜め方向のコントラスト比が高く、斜め方向のカラーシフト量を小さい液晶パネル、液晶テレビ、および液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

Concrete trends in recent years in terms of the division of industrial processes among agglomerations also suggest increasingly fine division, as seen in the beginning of an offshore shift for the product development process in the R&D sector.例文帳に追加

ただし、このような集積地間の工程間分業について、さらに近年の具体的な動向を見ると、研究開発の中でも商品開発プロセスの海外移転が始まる等精緻な分業が行われていることがわかる。 - 経済産業省

The method includes preparing a transfer and shift mold 15 having a fine irregular pattern 13 and a metallic thin film 17 adhered to only a protruding part 13a and the vicinity thereof, pressing the mold onto a heated plastic substrate 3 to transfer the fine irregular pattern to the plastic substrate, and shifting the metallic thin film 7 to the plastic substrate side.例文帳に追加

微細凹凸パターン１３を備え凸部１３ａ及びその近傍にのみ金属薄膜１７が付着している転写・転移用モールド１５を用意し、モールドを加熱したプラスチック製基板３に押し付けて微細凹凸パターンをプラスチック製基板に転写すると共に、金属薄膜７をプラスチック製基板側に転移させるようにした。 - 特許庁