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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > height patternに関連した英語例文

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height patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 325



例文

To enhance the color change function of the decorating pattern 13 caused by the direct light D1 from the lighting apparatus 12, the decorating pattern 13 is arranged at the height level substantially the same as that of the lighting apparatus 12.例文帳に追加

また、照明器具12からの直接光D1によって生じる装飾模様13の変色機能を増大させるために、装飾模様13を照明器具12とほぼ同じ高さレベルに設ける。 - 特許庁

In a substrate for a photomask which is formed into the photomask by forming a pattern for transfer on a main surface, the maximum value ΔZmax of height variation of a pattern region on the main surface is 8.5 μm or less.例文帳に追加

主表面に転写用パターンを形成してフォトマスクとなすためのフォトマスク用基板であって、主表面上のパターン領域の高さ変動の最大値ΔZmaxが、8.5(μm)以下である。 - 特許庁

To provide a coating composition capable of performing surface treatment of a substrate that a micro-lens having small variations of a pattern diameter and pattern height can be formed by an inkjet method.例文帳に追加

インクジェット法により、パターン直径およびパターン高さのばらつきが小さいマイクロレンズを形成することができるような、基板の表面処理が可能であるコーティング組成物を提供すること。 - 特許庁

A light pattern illuminated with light by the lighting apparatus 3 has a different height for focusing depending on positions, and the control apparatus 7 calculates the height based on image data for giving best focusing in a plurality of image data.例文帳に追加

照明装置3により照射される光パターンは、位置によってピントの合う高さが異なるものであり、制御装置7は、複数の画像データのうち最もピントの合う画像データに基づき高さを演算する。 - 特許庁

例文

It is possible to indirectly measure electrode line width by measuring height from the base 3 by using a linear relation between the height from the base 3 of the tapered pattern 2 and the electrode line width after patterning.例文帳に追加

パターニング後の先細りパターン2の底辺3からの高さと電極線幅との間の線形関係を用いて、底辺3からの高さを測定することで電極線幅を間接的に測定することができる。 - 特許庁


例文

Fingering decision in each note group is executed following a rule based on a sound height change pattern of plural sounds, and another fingering rule is used together.例文帳に追加

音符群ごとの運指決めは、複数音の音高変化パターンに基づくルールに従って行われると共に、別の運指ルールが併用される。 - 特許庁

In the case of the waveform pattern, the patterning pitch PB is 5-50 mm, and the patterning height HB is 0.002-0.05 times of the patterning pitch PB.例文帳に追加

波形状の場合には、型付けピッチPBを5〜50mm、かつ型付け高さHBを型付けピッチPBの0.002〜0.05倍とする。 - 特許庁

The height and size of the optical element can be determined arbitrarily within the range of the thickness of the thermally sprayed coating by selecting a structural pattern.例文帳に追加

溶射皮膜の厚みの範囲内で、構造パターンの選択によって、光学素子の高さや大きさを任意に決定することが可能である。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a printed wiring board which reduces a size difference in height of a conductor pattern to ensure a necessary top size of the conductor pattern while narrowing gaps between conductive pattern portions, thus improves circuit reliability and circuit performance.例文帳に追加

導体パターンの高低寸法差を低減して、導体パターンの頂部必要寸法を確保しつつ導体パターン化同士の間隔を狭めることができ、回路の信頼性及び回路性能を高めることができるプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

The unevenness 22 has a maximum height Hm of 30-200 μm, and the film 13b is printed with the wood grain pattern 21b planarly modelled after the wood surface.例文帳に追加

凹凸22は30〜200μmの最大高さHmを有し、フィルム13bには木材の表面を平面的に象った杢目柄21bが印刷されている。 - 特許庁

例文

Therefore, a stepwise shape three-dimensional structure pattern having a different height can be formed by controlling the opening density of the opening part on the substrate.例文帳に追加

よって、基板上の開口部の開口密度を制御することで、高さの異なる階段状形状の三次元構造パターンを形成することが出来る。 - 特許庁

To provide a contact which has a large stroke and a low height for electrically connecting a wiring pattern of a printed-circuit board and a battery terminal or the like.例文帳に追加

印刷配線基板の配線パターンとバッテリーの端子などを電気的接続させるためのストロークが大きくて背丈の低いコンタクトを提供する。 - 特許庁

Standard size pattern information including information about a waist size and a hip size is associated with a plurality of combinations of height and a breast size to be stored in an information storage means.例文帳に追加

身長とバストの複数の組合せについて、ウエストやヒップを含んだ標準サイズパターン情報を対応づけて情報記憶手段に記憶する。 - 特許庁

A top surface of the step reducing pattern stepwisely or gradually decreases in height toward an opposite side from a side facing the first conductive film group.例文帳に追加

段差緩和パターンの上面は、第1の導電膜群に対向する側とは反対側に向かって、階段状または連続的に低くなっている。 - 特許庁

In the XRD pattern from the composite material using CuKα-radiation, a peak height ratio of the strongest TiB_2 peak and the strongest cBN peak becomes smaller than 0.02.例文帳に追加

本発明により、CuKα-輻射を用いた複合材料からのXRDパターンにおいて、最も強いTiB_2ピークと最も強いcBNピークとのピーク高さ比が、0.02より小さくなる。 - 特許庁

To provide a manufacturing mold for an anisotropic conductive sheet including a small magnetic pole part of a desired height having a desired pattern at its tip part.例文帳に追加

高さが所望で、かつその先端部が所望のパターンをした小磁極部を備えた異方導電性シートの製造用金型を提供することである。 - 特許庁

To provide a hanger shape allowing a remote control device to be mounted in a desired height position of a toilet booth wall surface with screws without measuring dimensions nor using a paper pattern.例文帳に追加

ねじで、寸法測定や型紙等を使用せずとも、トイレブース壁面の高さ希望位置に、リモコン装置を取り付けられるハンガー形状を提供する。 - 特許庁

Thus, a wiring pattern region inside the image pickup element chip 32 is reduced and the height dimension of the image pickup element chip is reduced by an arrow (a).例文帳に追加

このことにより、撮像素子チップ32内の配線パターン領域が減少して撮像素子チップの高さ寸法が矢印aだけ減少する。 - 特許庁

To provide a mold having a uniform height of concavities and convexities and being capable of easily manufacturing a complicated pattern shape with a small number of steps, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

複雑なパターン形状を容易にかつ少ない工程で作製でき、さらに凹凸の高さがそろったモールドとその製造方法を提供する。 - 特許庁

The height of the protrusion 205 for a spacer is formed to be higher than the protrusion which composes protrusion pattern area 201 in the projecting direction of the protrusion.例文帳に追加

スペーサ用凸部205は、凸部パターン領域201を構成する凸部より該凸部の突出方向に対して高さが高く形成されている。 - 特許庁

In the solar cell modules 2 laid to a matrix pattern, a fixed seat 52e having a short height dimension is formed in one united body at the lower portion of a frame member 52.例文帳に追加

マトリックス状に葺設された太陽電池モジュール2,2,…において、軒側フレーム材52の下部に高さ寸法の短い固定座52eを一体形成する。 - 特許庁

To provide an optoelectric converter capable of improving the degree of freedom in the wiring pattern of a mount substrate and lowering the height of the optoelectric converter.例文帳に追加

マウント基板の配線パターンの自由度を向上させることができるとともに、装置を低背化することができる光電気変換装置を提供する。 - 特許庁

To provide an imprint mold having a three-dimensional structure pattern with high accuracy and different height to be formed, and a manufacturing method for the imprint mold.例文帳に追加

精度良く高さの異なる三次元構造パターンが形成されたインプリントモールド、およびインプリントモールド製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The sensor head 30 includes a light source 40, a light detector 50, a parallel-plate like light transmission material 60 having a conductive wiring pattern 62, and a height regulation member 70 having a conductive wiring pattern 72.例文帳に追加

センサヘッド30は、光源40と、光検出器50と、導電配線パターン62を有する平行平板状の光透過材60と、導電配線パターン72を有する高さ規定部材70とを有している。 - 特許庁

To provide a surface measuring device uninfluenced by a pattern even in the case of a sample having the pattern formed on the surface, capable of realizing a wider effective measuring area compared with a resolution of height information.例文帳に追加

表面にパターンが形成された試料の場合でも前記パターンの影響を受けず、かつ、高さ情報の分解能に比べて広い有効計測面積が可能となる表面測定装置を提供すること。 - 特許庁

To make a wave transmission measuring device able to be provided with a function capable of reducing the number of workers and collection of exact data, setting antenna height pattern and antenna direction pattern in advance, and automatically collecting data.例文帳に追加

作業員の削減及び正確なデータ収集が行え、また、予め空中線ハイトパターン及び空中線方向パターンの設定、データの自動収集が実施可能な機能を備えることを課題とする。 - 特許庁

Since the height of the thin-film pattern layer is substantially equal to that of the partition wall, there is no need to polish the partition wall and the thin-film pattern layer by polishing and etching and a demand for high evenness can be satisfied.例文帳に追加

前記薄膜パターン層の高さと隔壁の高さが略等しいから、前記製造方法が研磨とエッチング方法で隔壁と薄膜パターン層を研磨する必要がなく、均一度の要求を実現できる。 - 特許庁

Accordingly, the top end part 41a of the spring piece 41 touches the circuit pattern is compliance with the height of a joint surface 11a even when the joint surface 11a does not touch the circuit pattern due to the deformation of the joint part 11.例文帳に追加

したがって、接合部11の変形により接合面11aが回路パターンに当接していない場合にも、バネ片41の先端部41aが接合面11aの高さに応じて回路パターンに当接する。 - 特許庁

In addition, an alignment detection pattern is printed while conveying the sheet at a specified high velocity V2, and the alignment of the inkjet recording head in the height direction is adjusted in accordance with the printing results of the alignment detection pattern.例文帳に追加

また、用紙を高速の所定速度V2で搬送してアライメント検出用パターンを印刷し、印刷されたアライメント検出用パターンの結果に基づいて、インクジェット記録ヘッドの高さ方向のアライメントを調整する。 - 特許庁

To improve the accuracy of measuring the displacement of solder by previously calculating correction data composed of a difference between the height of resist and the height of a conductive pattern and correction data composed of the dyeing amount of solder to a laser beam.例文帳に追加

レジストの高さと導電性パターンの高さとの高低差からなる補正データやレーザビームに対する半田の染み込み量からなる補正データを予め算出することにより、半田の変位量の測定精度の向上を図る。 - 特許庁

Correction data D1 composed of a difference between the height of the resist 5 and the height of the conductive pattern 6 and correction data D2 consisting of amount of impregnation h of solder with respect to the laser beam are previously stored in a correction data storing means 3.例文帳に追加

レジスト5の高さと導電性パターン6の高さとの高低差からなる補正データD1やレーザビームに対する半田hの染み込み量からなる補正データD2を、予め補正データ記憶手段3に記憶させておく。 - 特許庁

To reduce the effects due to a multipath or a height pattern, and accurately detect the distance or the direction although the detection accuracy is excessively degraded by the effect due to the multipath or the height pattern, if the distance or the direction is detected by utilizing ultrasonic signal, a high-frequency signal or an optical signal.例文帳に追加

超音波信号あるいは高周波信号あるいは光信号を利用して距離あるいは方向を検知する場合、マルチパスあるいはハイトパターンの影響を受け検知精度が極端に劣化する場合があり、これらの影響を軽減して高い精度で検知できるアクティブタグ装置を提供する。 - 特許庁

From the diffracted lights reflected by the etched object 6 and a diffraction grating pattern 7, the height H1 of the diffraction grating pattern 7 before etching, the distance from the long wavelength semiconductor laser for measurement-side surface of the diffraction grating pattern 7 after etching to the bottom face of a trench, and the depth of the trench, are found.例文帳に追加

エッチング対象物6および回折格子パターン7による回折光に基づいて、エッチング前の回折格子パターン7の高さH1と、エッチング後の回折格子パターン7の測定用長波長半導体レーザ側の表面から溝の底面までの距離と、溝の深さとを求める。 - 特許庁

The display part can display a plurality of three-dimensional images, at the same time, and in a plurality of three-dimensional images, the correlation between the height and the expression pattern in creation of each three-dimensional expression pattern image is shared among all the three-dimensional images in the expression pattern image generating part.例文帳に追加

また表示部は、複数の3次元画像を同時に表示可能で、複数の3次元画像に対して、表現パターン画像生成部が各々3次元表現パターン画像を生成する際の各高さと表現パターンの対応関係を、すべての3次元画像で共通としている。 - 特許庁

A main controller 17 operates, when a paste pattern is drawn by a paste coater, so that a shape-awarding data may be obtained by awarding the shape of a paste pattern drawn by a pictorial awarding camera 15, and a section shape data is obtained by measuring the height of the paste pattern by a range meter 16.例文帳に追加

ペースト塗布機がペーストパターンを描画すると、主制御部17が動作し、画像認識カメラ15によって描画形成されたペーストパターンの形状を認識して形状認識データを得、距離計16でペーストパターンの高さを計測して断面形状データを得る。 - 特許庁

It is preferable that the height ratio (H/R) of the microlens 4 is 5/8-1, a space ratio (S/D) is1/2, a filling rate is40%, the refractive index of a stock material is 1.3-1.8, and a distribution pattern is an equilateral triangle grating pattern or a random pattern.例文帳に追加

上記マイクロレンズ4の高さ比(H/R)としては5/8以上1以下、間隔比(S/D)としては1/2以下、充填率としては40%以上、素材の屈折率としては1.3以上1.8以下、配設パターンとしては正三角形格子パターン又はランダムパターンが好ましい。 - 特許庁

A reliable method for forming bump electrodes having larger height at low cost can be provided, by forming a ring-like resin pattern on pats, forming bump electrodes through electroless plating, and then peeling off the ring-like resin pattern by etching, thereby peeling of the resin pattern from the thickness direction by etching.例文帳に追加

パットに、リング状の樹脂パターンを形成し、無電解メッキ法による突起電極を形成し、リング状の樹脂パターンをエッティング剥離することで、厚み方向から樹脂パターンをエッティング剥離できるため、安価で、信頼性のある高さの高い突起電極の製造法を提供できる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a wiring board, wiring board, board joint, and an electro-optic device capable of making uniform the height of bumps formed on a wiring pattern, and of securely obtaining conduction between elements and the wiring pattern.例文帳に追加

配線パターン上に形成されるバンプ高さの均一化を図り、素子と配線パターンとの導通を確実に得ることができる配線基板の製造方法、配線基板、基板接合体及び電気光学装置を提供する。 - 特許庁

The plurality of the second light sources P2 are arrayed in a second array pattern different from the first array pattern so that an in-plane luminous distribution can be uniform at a prescribed height when the second light source group only is lighted as a whole.例文帳に追加

複数の第2の光源P2は、第2の光源グループのみを全体的に点灯させた場合に所定の高さでの面内輝度分布が一様となるように、第1の配列パターンとは異なる第2の配列パターンで配列する。 - 特許庁

The step of forming the first and the second microlenses is a step of forming the first microlens and the second microlens with a height lower than that of the first microlens by performing heat treatment on the first resin pattern and the second resin pattern.例文帳に追加

第1、第2のマイクロレンズを形成する工程は、第1の樹脂パターンおよび第2の樹脂パターンを熱処理することにより、第1のマイクロレンズおよびこのレンズよりも低い第2のマイクロレンズを形成する工程である。 - 特許庁

The optical film and the optical film roll superior in storage stability is provided by transferring a knurling pattern so that protrusions have a height less than 20% of that of a knurling teeth are formed at the end of a stretched film, and by making the height of the protrusions25 μm.例文帳に追加

延伸フィルムの端部にナーリング加工歯の高さの20%未満の高さの凸部が形成されるように転写を行い、該凸部の高さを25μm以下とすることで、保管安定性に優れた光学フィルムおよび光学フィルムロール。 - 特許庁

To form a multilayer photo-spacer having a desired height without using pigment dispersed resists different in pigment concentration when a multilayer photo-spacer Ps is formed by adjusting the height of an extended pattern P1 of a colored pixel or spacer patterns P2, P3.例文帳に追加

着色画素の延長パターンP1又はスペーサーパターンP2、P3の高さ調整して積層フォトスペーサーPsを形成する際に、顔料濃度の異なる顔料分散レジストを用いることなく、所望する高さを有する積層フォトスペーサーを形成する。 - 特許庁

To provide a method for correcting the mask data so as to correct the dimensional errors produced by the defocus state during exposure due to the difference in height of a base layer and by the proximity effect of the correction pattern.例文帳に追加

下地層の高さの差による露光時の焦点ずれと、補正パターンの近接効果により生ずる寸法誤差を補正するマスクデータ補正方法を提供すること。 - 特許庁

At the time, when arrangement point is present within a circle whose radius is the height of the unit pattern/2 centering on a point where arrangement is scheduled, the scheduled point is shifted and the arrangement point is determined.例文帳に追加

この際、配置する予定の点を中心とし、単位模様の高さ/2の半径の円内に配置点が存在すれば、予定の点をずらして配置点を決定する。 - 特許庁

The glass ribbon contact surface of the used delivery roll has a wave pattern shape with a period of 10.0 mm or higher but not higher than 50.0 mm and a height of 1.0 mm or higher but not higher than 10.0 mm.例文帳に追加

ガラスリボン接触面が、周期、10.0mm以上、50.0mm以下、高さ、1.0mm以上、10.0mm以下の波形形状であるデリバリーロールを用いる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of dispensing a complicated process accompanying a thermal treatment, and forming resin posts different in height with excellent pattern accuracy.例文帳に追加

熱処理に伴う煩わしい工程が不要であり、異なる高さを有する樹脂ポストを優れたパターン精度で形成できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The pyroelectric infrared detector has the flange structure for secondary mounting and is formed with a pattern 6 for allowing surface-mounting so as to achieve lower height.例文帳に追加

本焦電型赤外線検出器は、二次実装用のフランジ構造を有し、低背可能とするために表面実装を可能とするためのパターン6が形成されている。 - 特許庁

In the color filter forming a coloring pattern on a plastic film base material, a spacer of a height of 2-150 μm is provided.例文帳に追加

プラスチックフィルム基材上に着色パターンを形成してなるカラーフィルターであって、着色パターン間に対応する位置に、高さ2〜150μmのスペーサーを設けたことを特徴とする。 - 特許庁

To solve the problem that an inclination can not be detected only by printing a pattern and finding the distance between two patterns on a form for detecting the inclination of a carriage in the height direction.例文帳に追加

キャリッジの高さ方向の傾きを検出するための用紙上にパターンを印刷して2つのパターン間距離を求めるだけでは傾きを検出することはできない。 - 特許庁

例文

Thus, the mold having a uniform height of concavities and convexities capable of easily manufacturing a complicated pattern shape with a small number of steps, and the method for manufacturing the same can be provided.例文帳に追加

複雑なパターン形状を容易にかつ少ない工程で作製でき、さらに凹凸の高さがそろったモールドとその製造方法を提供することができる。 - 特許庁




  
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