「height pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a personal authentication device which can photograph a blood vessel pattern without generating an image distortion even when the height direction of the personal authentication device is made smaller, and can be constituted at a low cost.例文帳に追加

本発明の目的は、個人認証装置の高さ方向を小さくしても画像歪を発生することなく血管パターンを撮像でき、安価に構成できる個人認証装置を提供することにある。 - 特許庁

To settle problems that, in defect correction of a colored pattern of a color filter and the like, the corrected defect parts become uneven to cause unmodified parts, and projection height of the corrected parts becomes higher.例文帳に追加

カラーフィルター等における着色パターンの欠陥修正時に、修正された欠陥部分が不均一となり未修正部分が出来たり、修正部分の突起高さが高くなったりする問題を解決する - 特許庁

To provide a projection aligner for forming a specified pattern on a printed wiring board by transferring the image of a mask where a specified pattern is formed to the printed wiring board, where the height of a mask's image forming surface or the height of the photosensitive surface of a printed board need not be manually adjusted even in the case of exposing several kinds of printed boards having different thicknesses.例文帳に追加

所定のパターンが形成されたマスクの像をプリント配線基板に転写してプリント配線基板に所定のパターンを形成する投影露光装置であって、異なる厚さを有する複数種類のプリント基板に露光する場合であっても手動でマスクの像の結像面の高さまたはプリント基板の感光面の高さを調整する必要のない投影露光装置を提供することである。 - 特許庁

A pigment dispersed photoresist which is in the process of viscosity increase with time is used as a pigment dispersed photoresist used for forming a colored pixel 42, and the height of an extended pattern or spacer patterns is adjusted according to the viscosity of the pigment dispersed photoresist used, so that the objective multilayer photo-spacer having a desired height is disposed.例文帳に追加

着色画素４２の形成に用いる顔料分散フォトレジストとして、経時による粘度の増粘過程にある顔料分散フォトレジストを用い、用いる顔料分散フォトレジストの粘度の高低によって延長パターン又はスペーサーパターンの高さの高低を調節し、所望する高さの積層フォトスペーサーを設ける。 - 特許庁

To provide a liquid crystal dispensing apparatus with which the defect of a produced liquid crystal panel can be prevented by forming a measuring means for measuring the height of pattern spacers integrally with the liquid crystal dispensing apparatus, calculating the quantity of the liquid crystal to be dispensed based on the measured height of the spacers and dispensing the quantity corresponding thereto of the liquid crystal and to provide its liquid crystal dispensing method.例文帳に追加

パターンスペーサの高さ測定手段を一体に形成して測定されたスペーサの高さに基づいて液晶の滴下量を算出し、これに該当する量の液晶を滴下することで、製作された液晶パネルの不良を防止し得る液晶滴下装置及びその液晶滴下方法を提供しようとする。 - 特許庁

Before the application of the paste to form the paste pattern, fine angle inclination to the ribs Ra and the distance between the height sensor 27 and the substrate K along a path in the vicinity of a paste application path (in this case, between the ribs Ra) are measured to measure the waviness of the substrate K by the height sensor 27.例文帳に追加

ペーストパターン形成のためのペースト塗布に先立ち、この高さセンサ２７によって基板Ｋのうねりを計測するのであるが、これらリブＲａに対して微小角傾き、かつペースト塗布経路（この場合、リブＲａ間）近傍の経路に沿って高さセンサ２７，基板Ｋ間の距離を測定していく。 - 特許庁

A vehicle kind matching part 13 extracts the same vehicle as the arbitrary vehicle from the vehicles passing the upstream spot in the upstream spot estimated passage period, and a vehicle height matching part 14 specifies the same vehicle as the arbitrary vehicle on the basis of a vehicle height data pattern from the vehicles each having the same vehicle kind as the arbitrary vehicle.例文帳に追加

車種マッチング部１３は、上流地点推定通過期間に上流地点を通過した車両の中から任意車両と同一の車両を抽出し、車高マッチング部１４は、任意車両と車種が同一の車両の中から車高データパターンに基づいて任意車両と同一の車両を特定する。 - 特許庁

The method for constituting the optical imprinting includes steps of: computing sizes of printed side lobes which should be produced as a result of the optical imprinting of the mask pattern on the substrate; and determining plural parameters for imprinting optically the mask pattern on the substrate, and thereby providing the optimal height of a latitude of the mask pattern and the optimal smallnesses of the sizes of the printed side lobes.例文帳に追加

本発明の一実施例では、この方法は、基板上にマスク・パターンを光学的に転写した結果生じるはずのプリンテッド・サイドローブのサイズを計算する段階と、基板上にマスク・パターンを光学的に転写するための複数のリソグラフィ・パラメータを決め、それにより最適なマスク・パターンのラチチュードの高さ、及び最適な小ささのプリンテッド・サイドローブのサイズをもたらす段階とを含む。 - 特許庁

The application pattern 12 has a low part application area 12a and a high part application area 12b different in the application height.例文帳に追加

断熱板１１の片面に粘着剤の塗布パターン１２を有する粘着剤付き断熱板であって、塗布パターン１２は、塗布高さの異なる低部塗布領域１２ａと高部塗布領域１２ｂを有していることを特徴とする。 - 特許庁

Then, height H of the pattern 82 is calculated by H=L×tanθ based on a preliminarily calculated angle θ on appearance to the surface of the sample of the detector 99a and the detected length L of the shadow.例文帳に追加

そして、あらかじ求めた検出器９９ａの試料表面に対する見掛け上の角度θと検出された影の長さＬとに基づいて、パターン８２の高さＨをＨ＝Ｌ×ｔａｎθにより求める。 - 特許庁

To provide a moving device and a method enabled in recognition even at far distance by recognizing an obstacle or a height difference from a camera image, and accurate recognition regardless of the color or the pattern of a floor, etc.例文帳に追加

カメラ画像から段差や障害物を認識することにより遠距離でも認識できると共に、床色や模様等に拘わらず正確に認識することが可能な移動装置及び方法を提供する。 - 特許庁

Also, the control unit corrects deviation of measurement data generated by the angle of view of a lens 5a of the CCD camera 5, based on height Lco of the CCD camera 5 and an irradiation angle α of pattern light applied to the printed board.例文帳に追加

また、制御装置は、ＣＣＤカメラ５のレンズ５ａの画角により生じ得る計測データのズレを、ＣＣＤカメラ５の高さＬcoと、プリント基板に対し照射されるパターン光の照射角αとに基づき補正する。 - 特許庁

When the equipment is used, the pattern is positioned to an accurate position, and high-accuracy electron beam lithography can be performed even when the height of a sample in the image forming surface of the beam changes by preventing unnecessary deflection of electrons caused by the focal point correction.例文帳に追加

本発明によれば、焦点補正による不要な電子偏向防止されてビーム結像面である試料面の高さ変化があっても正確な位置にパターン露光され高精度の電子ビーム描画が可能となる。 - 特許庁

That is, the height of the pattern on the mask producing an unwanted phase shift effect is varied corresponding to 360° phase, and an out-of-focus state is generated on a wafer so as to attain increase in the intensity of light in the area originally intended to be dark.例文帳に追加

より詳しくは、不要な位相シフト効果が発生するマスク上のパターンの高さを３６０度位相で変更させ、ウェーハ上で焦点ズレを発生させ、本来暗くなる領域で光強度を大きくする。 - 特許庁

To provide a lost foam pattern casting method capable of minimizing a head pressure and of keeping a sprue height as low as possible in a structure for discharging a combustion gas by a cavity arranged in a mold.例文帳に追加

鋳型内に設けた空洞によって燃焼ガスを排出させる構造において、ヘッド圧を必要最小限として湯口高さをできるだけ低く抑えることができる消失模型鋳造法を提供する。 - 特許庁

When a bump electrode (not shown) is formed using that exposure pattern, a straight shape having a height substantially corresponding to the thickness of the resist RST can be ensured and contributes to formation of bump electrodes dealing with fine pitch arrangement.例文帳に追加

この露光パターンを用いてバンプ電極（図示せず）を形成すれば、レジストＲＳＴの厚さに略相応した高さのストレート形状が確保でき、微細ピッチ配列に対応可能なバンプ電極の形成に寄与する。 - 特許庁

The base section 3 is interposed between the wiring pattern 2b of the wiring plate 2 and the root 4a of the contactor 4, and the stroke amount is increased without altering the diameter and height H1 of the contactor 4.例文帳に追加

基台部３は、配線板２の配線パターン２ｂと接触子４の根元４ａとの間に介在しており、接触子４の直径および高さＨ１を変更せずにそのストローク量を増加させている。 - 特許庁

The photomask has an opening corresponding to formation of a photospacer having a small height (second photospacer), the opening which is an annular opening K2 having a circular or polygonal outer shape and a light shielding pattern P1 at the center.例文帳に追加

高さの低いフォトスペーサー（第二フォトスペーサー）の形成に対応したフォトマスク上の開口部が、円形又は多角形の外形を有し、中心に遮光パターンＰ１が設けられた環状開口部Ｋ２である。 - 特許庁

A pressing mold comprises a surface material and a backing material of a larger compression elastic modulus than that, reduced in a height direction to its boundary face, and has an irregular part for forming a secondary pattern.例文帳に追加

押し付け型は、表面材料とそれよりも圧縮弾性係数の大きい裏打ち材料とで構成され、その境界面に高さ方向に縮小され二次模様を形成するための凹凸部を有する。 - 特許庁

Current density to the individual portion of the rugged part can be made uniform by disposing the dummy electroforming area, the rugged pattern is made uniform in height and a light guide manufactured with this stamper is free of unevenness in luminance.例文帳に追加

個々の凹凸部に対する電流密度をダミー電鋳部を設けることにより均一にすることができ、凹凸パターンの高さが一定になり、このスタンパで作製される導光板の輝度むらは生じない。 - 特許庁

As it is desirable for the element location in a head to be formed in the optimum location which becomes the lowest flying height, for a certain element as non defective unit, a flying surface pattern is formed so as to become a predetermined location relatively.例文帳に追加

ヘッドにおける素子位置は最も浮上量の低くなる最適な位置に形成する事が望ましいため、ある良品素子にたいし浮上面パタンを相対的に所定の位置となるように形成する。 - 特許庁

A special pattern display device 12 with a height more than that of a gap H (about 13 mm-25 mm) between the game board 3 and the protection plate 11 mounted on the front face of the game board 3 is mounted on the game board 3.例文帳に追加

遊技盤３と該遊技盤３の前面に設けられた防護板１１との隙間Ｈ（約１３ｍｍ〜２５ｍｍ）よりも高さのある特別図柄表示装置１２が遊技盤３に設けられている。 - 特許庁

To improve the productivity of a coat-drawing process by shortening the tact of the process so that the quickly and effectively initial positioning of a nozzle height may be carried out at the start of drawing a paste pattern by coating.例文帳に追加

ペーストパターンの塗布描画開始に際してのノズル高さの初期位置決めを迅速に効率良く行なうことができるようにし、塗布描画タクトを短縮して塗布描画工程の生産性の向上を実現する。 - 特許庁

The electron beam drawing device includes an electron gun which emits an electron beam, a holder which holds a sample to be drawn where a pattern is drawn with the electron beam, and a control section which corrects a drawing position according to the height of the sample.例文帳に追加

電子線描画装置は、電子線を放出する電子銃と、電子線によりパターンが描画される被描画試料を保持するホルダーと、試料の高さに応じて描画位置を補正する制御部とを有する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter with laminated photospacer capable of adjusting a film thickness of a ran-over part (extension pattern) and imparting a desired height to a laminated photospacer when allowing the film thickness of a colored pixel to take preference.例文帳に追加

着色画素の膜厚を優先した際に、乗り上げる部分（延長パターン）の膜厚の調整を可能とし、積層フォトスペーサーを所望の高さにする積層フォトスペーサー付きカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

A development process (d) is carried out to a photosensitive paste layer 12 of a height of about 13 μm under a condition that exposure is repeated twice, a baking process (e) is finished after that, and a circuit pattern 20 is formed.例文帳に追加

露光を２回繰り返した状態にて、図１（ｄ）において、高さ１３μｍ程度の感光性ペーストの層１２に対して現像工程を実施し、その後焼成工程を終え、配線パターン２０を形成する。 - 特許庁

To upgrade covering property of an interlayer insulating film by forming a resist pattern in one time without undercut, and lowering the height per step of a step difference.例文帳に追加

レジストパターン１回形成でアンダーカットなく形成し、かつ段差１段あたりの高さを低くすることで層間絶縁膜の被覆性を良好にした多層配線とその形成方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

Further, various elements, such as the pattern width, height, pitch, shape, material, etc., of each signal line on the flexible printed board 13, determining the rigidity are set axially symmetrical holding the width center of the flexible printed board 13.例文帳に追加

さらにフレキシブルプリント基板１３における各信号線のパターン幅、高さ、ピッチ、形状、材質など、剛性を決める諸々の要素を、フレキシブルプリント基板１３の幅中心を挟んで線対称となるように設定した。 - 特許庁

The random pattern structure is constituted of plural fine rectangular elements with plural kinds of height, and the rectangular elements are irregularly arranged so as to constitute plural kinds of diffraction gratings having different grating pitches.例文帳に追加

ランダムパターン構造は、複数種類の高さを有する複数の微小な矩形エレメントから成っており、矩形エレメントは、格子ピッチの異なる複数種類の回折格子を構成するように不規則に配置されている。 - 特許庁

To provide a molded article made of a synthetic resin which is given a continuous sculpture-like pattern over the whole circumference of a round-tubular molded part so as to form a continuous projecting pattern having a sufficient projection height, over the whole circumference of the round-tubular molded part such as a cylindrical body section.例文帳に追加

円筒状の胴部等、丸筒状の成形部位の全周に亘って、連続状に十分な突出高さを有する凸状模様を形成することを課題として、丸筒状部位の全周に亘って連続状に彫刻状の模様を付与した合成樹脂製成形品を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an exposure mask, which includes a plurality of mask portions for forming wiring lines, the mask portions arranged parallel to one another and each having a width equal to or less than the minimum line width dimension determined by the resolution of an exposure apparatus, and which can give a wiring pattern made of a resist material having the same height while preventing the pattern from partially thinning.例文帳に追加

露光装置の解像度によって定まる最小配線幅寸法以下に形成された配線形成用マスク部分が複数平行に形成されているレジスト材料からなる配線パターンを部分的に細くならないように同一の高さに形成することができる露光用マスクを提供する。 - 特許庁

According to the present embodiment, the rotary device can be produced that narrows down a bearing gap and improves the efficiency of raking up the lubricant to increase the dynamic pressure by reducing the deformation of the shape of the protrusions of the thrust dynamic pressure pattern and the variation in the height of the protrusions when forming the thrust dynamic pressure pattern in a method of producing the rotary device.例文帳に追加

この態様によると、回転機器を生産する方法においてスラスト動圧パターンを形成する際にスラスト動圧パターンの凸部の形状の崩れや凸部の高さのバラツキを低減でき、軸受隙間を狭くすると共に潤滑剤のかき集めの効率を向上して動圧を高め得る回転機器を生産できる。 - 特許庁

A photosensitive resin film 5 is applied on a color filter substrate in a desired film thickness and, thereafter, a flattened resin film part 5a with a desired thickness and a pillar spacer part 5b with a desired height thereon are formed en bloc by one time exposure development by using a photo mask 20 which has a total transmission pattern 20a and a half tone pattern 20b.例文帳に追加

カラーフィルタ基板上に感光性樹脂膜５を所要膜厚に塗布した後、全透過パターン２０ａとハーフトーンパターン２０ｂとを有するフォトマスク２０を用いて一回の露光現像により、所要厚みの平坦化樹脂膜部５ａとその上に所要高さの柱状スペーサ部５ｂを一括形成する。 - 特許庁

An irregular pattern is formed to a part of the face, and the building board having design properties along the height difference of the irregular pattern is obtained by utilizing the fluidity, viscosity, surface tension or the like of metallic paints by coating the face with the metallic paints having little pigment components (much resin components).例文帳に追加

化粧面の一部に凹凸模様を形成し、該化粧面に顔料成分の少ない（樹脂成分の多い）メタリック塗料を施すことにより、そのメタリック塗料の流動性、粘性、表面張力等を利用し、凹凸模様の高低差に沿った意匠性を有した建築用板を得るものである。 - 特許庁

The method of manufacturing the circuit substrate includes a step of disposing the chip 12 in a through hole 11A provided in the aperture substrate 11 corresponding to the height of the chip 12, and a step of forming a wiring pattern 13 on the aperture substrate 11 and wiring the wiring pattern 13 to the electrode 12A on the chip 12.例文帳に追加

チップ部品１２の高さに対応させて開口基板１１に設けた貫通穴１１Ａ内に、チップ部品１２を配置する工程と、開口基板１１上への配線パターン１３の形成及び該配線パターン１３とチップ部品１２上の電極１２Ａとの結線を行う工程とを有している。 - 特許庁

The same material as that of electrode patterns 2, which are wired in a region on which a bare IC is to be mounted, is used as material of the pattern 4, so that the height of the pattern 4 is made identical to that of the electrode patterns 2, contact area between a substrate 1 and the anisotropic conducting film 3 is enlarged, and bonding strength is increased.例文帳に追加

また、接着用パターン４の材料としては、ベアーＩＣが実装される領域の配線されている電極パターン２の材料と同一材料を用いることにより、電極パターン２と同じ高さにし、基板１と異方性導電膜３との接触面積を拡大し、接着強度を強化する。 - 特許庁

After coating the lower clad layer 2, a mold forming a recess and projection pattern to the coated lower clad layer 2 is pressed to form a groove on the lower clad layer 2 by transferring the recess and projection pattern on the surface of the lower clad layer 2, and successively the plurality of the cores 1a and 1b are coated at prescribed height to form the core layer in the groove.例文帳に追加

下部クラッド層２の塗工後に、塗工された下部クラッド層２に対し凹凸パターンが形成されたモールドをプレスして、凹凸パターンを下部クラッド層２表面に転写することにより下部クラッド層２に溝部を形成し、溝部内に順次、所定高さで複数のコア部１ａ、１ｂを塗工して、コア層を形成する。 - 特許庁

To provide a wiring board whose height of bumps formed on a wiring pattern is made uniform so that the electric continuity between a TFT and the wiring pattern can be surely attained, a method for manufacturing the wiring board, a substrate joined body, a method for manufacturing the substrate joined body, an electrooptical device, and a method for manufacturing the electrooptical device.例文帳に追加

配線パターン上に形成されるバンプ高さの均一化を図り、ＴＦＴと配線パターンとの導通を確実に得ることができる配線基板、配線基板の製造方法、基板接合体、基板接合体の製造方法、電気光学装置、及び電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The inspection method of an element mounted to a substrate includes a stage of generating a shape template corresponding to the element, a stage of irradiating the substrate with the lattice pattern light of an illumination part to acquire height information at each pixel, a stage of generating a contrast map corresponding to the height information at each pixel, and a stage of comparing the contrast map with the shape template.例文帳に追加

基板に装着された素子の検査方法において、素子に対応する形状テンプレートを生成する段階と、照明部の格子パターン光を基板に照射してピクセル別高さ情報を獲得する段階と、ピクセル別高さ情報に対応してコントラストマップを生成する段階と、コントラストマップと形状テンプレートとを比較する段階と、を含む。 - 特許庁

This manufacturing method includes a step of forming an emitter pattern by forming an electroluminescent carbon material on a glass substrate in a predetermined pattern; a step of forming an electrode layer of a predetermined height on the emitter pattern and the glass substrate; a step of applying the gel polymeric material over the entire electrode layer; a step for curig the gel polymeric material; and a step of removing the glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板上に電界発光特性があるカーボン物質を所定のパターンで形成することによってエミッターパターンを形成するステップと、エミッターパターン及びガラス基板上に所定の高さに電極層を形成するステップと、電極層上にゲル状の高分子材料を全体的に塗布するステップと、ゲル状の高分子材料を硬化処理するステップと、ガラス基板を取り去るステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Using an intensity value of light of each selected pixel and an intensity value of a nearby pixel thereof and supposing that a DC component, an alternate current amplitude, and a phase of an interference pattern waveform contained in each pixel are equal, the phase is calculated, and a height is calculated.例文帳に追加

選択された各画素の光の強度値とその近傍の画素の強度値を利用し、各画素に含まれる干渉縞波形の直流成分、交流振幅、および位相が等しいと仮定、位相を求め、高さを求める。 - 特許庁

The operation part receives data of the icon from the main body side via a communication means 10 and writes each data of the icons such as width, height, the number of colors and icon pattern into a memory area of the RAM reserved in a RAM30R5 for each icon to manage.例文帳に追加

アイコンに関するデータを通信手段１０を介して本体側から受信する操作部では、アイコン毎にＲＡＭ３OR５に確保したＲＡＭのメモリ領域に、アイコンの幅、高さ、色数、アイコンパターンの各データを書き込み、管理する。 - 特許庁

A knurl formed on the roll A is a twilled pattern composed of projections that are formed on the peripheral face of the roll A at a circumferential pitch of 0.4 to 2.5 mm and at a transverse pitch of 0.4 to 2.5 mm, each projection having a height of 0.2 to 1.25 mm.例文帳に追加

ロールＡに施されたローレットが、ロールの円周面上に、円周方向のピッチが０．４〜２．５ｍｍ、幅方向のピッチが０．４〜２．５ｍｍ、高さが０．２〜１．２５ｍｍである突起からなる綾目ローレットである上記治具。 - 特許庁

An abnormality is detected and verified by comparing adjacent repeated patterns, and the surface height is monitored, and mechanically corrected in order to reduce a positioning error with a close repeated pattern.例文帳に追加

異常は隣接する繰り返しパターンを比較することにより検出されて検証され、そして表面の高さはモニタされており、そして、近接する繰り返しパターンとの間の位置ずれ誤差を減少させるために機械的に修正される。 - 特許庁

Here, the coma remaining in the reflection projection optical system is minimized with height H of the absorber pattern 10 being N.λ/2 (where the wavelength of exposure light is λ while N is natural number).例文帳に追加

このとき、露光照明光の波長をλとし、Ｎを自然数としたときに、吸収体パターン１０の高さＨをＮ・λ／２とすることにより、反射投影光学系に残存するコマ収差を最小にすることができる。 - 特許庁