「height pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

A dummy pattern process, a film forming process, and a flattening process are successively carried out to make an interlayer film equal in height even in a peripheral circuit region 12 as well as a memory cell region.例文帳に追加

ダミーパターニング処理と、成膜処理と、平坦化処理とを順次行って、層間膜の高さを周辺回路領域１２でもメモリセル領域と同じ高さにする。 - 特許庁

The first irregular pattern has two kinds or more of protrusions 11pa, 11pb having almost the same height position of the bottom of a recess and different heights from the bottom of a recess.例文帳に追加

第１凹凸パターンは、凹部の底面の高さ位置が略同一であり、凹部の底面からの高さが異なる２種類以上の凸部１１ｐａ、１１ｐｂを有する。 - 特許庁

To provide an inkjet ink for substrate surface treatment capable of forming a micro-lens having small variations of a pattern diameter and height on a substrate by an inkjet method.例文帳に追加

基板上にパターン直径と高さのばらつきが小さいマイクロレンズをインクジェット法で形成することを可能とする基板表面処理のためのインクジェット用インクを提供する。 - 特許庁

A correlative relationship between the dimension CDs at the height of h1 between adjacent resist patterns 102 measured by a length measurement SEM and the dimension CDd at the height of h2 between resist patterns 102 obtained from a cross-sectional image of the resist pattern 102 is preliminarily obtained.例文帳に追加

測長ＳＥＭを用いて測定された隣接するレジストパターン１０２間の高さｈ１での寸法ＣＤｓと、レジストパターン１０２の断面画像から求められたレジストパターン１０２間の高さｈ２での寸法ＣＤｄとの相関関係を予め取得する。 - 特許庁

In (A), the fluctuation in the height of the diffraction grating h is formed by repeatedly arranging a diffraction grating pattern (P) with three kinds of the height of the diffraction grating and in (B) and (C), it is formed by randomly arranging two kinds or more of the heights of the diffraction grating.例文帳に追加

回折格子高さｈの揺らぎは、(Ａ)では３種類の回折格子高さを有する回折格子パターン(Ｐ)が繰り返し配置されることにより形成され、(Ｂ),(Ｃ)では２種類以上の回折格子高さがランダムに配置されることにより形成される。 - 特許庁

This three-dimensional model formation device receives a processing range by a command of an operator, calculates a height difference between an object point and an adjoining point from distance information obtained from the range data, and calculates a feature quantity related to an edge having such a shape that the height difference is formed into a certain specific pattern.例文帳に追加

オペレータの指示により処理対象領域を受け付け、レンジデータから得られる距離情報から対象点と隣接する点の高低差を算出し、その高低差が或る特定のパターンとなる形状のエッジに関する特徴量を算出する。 - 特許庁

As a mask for the exposure of the first time, rectangular areas for which a macro pattern block width 3101 is 7 μm and a macro pattern block height 3102 is 500 μm are formed at a prescribed pitch on a chromium film 3100 formed on a glass substrate (Fig. (a)).例文帳に追加

第１回目露光用マスクとして、ガラス基板上に形成されたクロム膜３１００上に、マクロパターンブロック幅３１０１を７μｍとしマクロパターンブロック高さ３１０２を５００μｍとした長方形の領域が所定のピッチで形成される（図（ａ））。 - 特許庁

To provide a mold for nanoimprinting which can make compatible both the suppression of a height of a bur generated when forming a fine pattern and the suppression of the contact of a mold base with a resin when pressing a pattern surface to the resin.例文帳に追加

微細パターンを形成する際に生じるバリの高さを抑制することと、樹脂にパターン面を押し付ける際にモールドの基体部が樹脂に接触することを抑制することを両立することが可能なナノインプリント用モールドを提供する。 - 特許庁

The conductor layer is formed as a circuit pattern 11, a first part 12 and a second part 13 are provided on the circuit pattern 11, and the first part 12 is provided at a position higher than the second part 13 with a difference in height between the first part 12 and the second part 13.例文帳に追加

導電層を回路パターン１１にし、回路パターン１１に第一部分１２及び第二部分１３を設け、第一部分１２及び第二部分１３には高度差があり、第一部分１２の高度を第二部分１３より高くする。 - 特許庁

The thin film magnetic head 1 is provided with a magnetic conversion element 20 having an MR membrane 15, and a first polishing pattern pair 30 including a first polishing pattern 31 extended so that the dimension of an orthogonal height direction is continuously increased along a width direction.例文帳に追加

薄膜磁気ヘッド１は、ＭＲ膜１５を有する磁気変換素子２０と、直交する高さ方向の寸法が幅方向に沿って連続的に増大するように延在する第１研磨パターン３１を含む第１研磨パターン対３０とを備えている。 - 特許庁

In the first case, the entire length in the lengthwise direction of the antenna 10 is adjusted, and in the latter case a prescribed value, the height of the antenna 20 from the board 5 is adjusted, thereby setting the radiation pattern of the radio wave from the antenna in the desired pattern.例文帳に追加

前者の場合は、ポールアンテナ１０の長さ方向の全長を調整して、後者の場合は、λ／２ダイポールアンテナ２０の、回路基板５からの高さを、所定の値に設定して、アンテナからの電波の放射パターンを所望のパターンに設定する。 - 特許庁

This plasma display device includes a filter having a first base layer, a second base layer having a smaller refractive index than the first layer, and an external light shielding sheet including a plurality of pattern parts formed at spaces between the first and second base layers, wherein among the plurality of pattern parts, the interval between the two pattern parts adjacent to each other is larger than the height of the pattern part.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置は、パネルの上部基板側に形成され、第１ベース層と、第１ベース層より小さな屈折率を有する第２ベース層と、第１、２ベース層の間に互いに離隔して形成される複数のパターン部を含む外光遮断シートと、を備えるフィルタを含み、複数のパターン部のうち、互いに隣接した２つのパターン部間の間隔は、パターン部の高さより大きい。 - 特許庁

To provide a vehicle seat whose bank parts disposed on both sides of the seat in the width direction are attachable on and detachable from the seat body part and replaceable to a pattern different in height, design, or the like.例文帳に追加

シートの幅方向の両側に配置される土手部をシート本体部に対して着脱可能として土手部を高さや模様等の異なった形態のものに取替え可能とする。 - 特許庁

A reference pattern 102 of the length of 5 μm, the width of 1 μm, and the height (the film thickness) of 40 nm in plan view is formed on an insulating substrate 101 consisting of silicon oxide (SiO_2).例文帳に追加

酸化シリコン（ＳｉＯ_2）からなる絶縁性基板１０１の上に、平面視で長さ５μｍ，幅１μｍ，高さ（膜厚）４０ｎｍの基準パタン１０２が形成された状態とする。 - 特許庁

Additionally, the apparatus calculates second height data on every pixel, based on the image data obtained by irradiating a second position shifted obliquely by a half pixel pitch with a second optical pattern of a period of 4 μm.例文帳に追加

また、半画素ピッチ斜めにずれた第２位置にて、周期４μｍの第２光パターンを照射して得られた画像データに基づき各画素毎の第２高さデータを算出する。 - 特許庁

Also an L shaped bank pattern 32 of which the height is higher than that of the alignment mark 31 is arranged on a position separated toward the upstream side of a rubbing direction 100 when seen from the alignment mark 31.例文帳に追加

また、アライメントマーク３１から見てラビング方向１００の上流側に離隔した位置に、Ｌ字形状でありその高さがアライメントマーク３１よりも高い土手パターン３２を設ける。 - 特許庁

Then, a contrast of the picture signal, height of the rate of change of the picture signal, or regularity of the pattern of the picture signal is used as an acceptance criterion of the deciding part 11.例文帳に追加

そして上記判定部１１の判定基準としては、上記像信号のコントラスト、その像信号の変化率の高低、或いはその像信号のパターンの規則性を用いる。 - 特許庁

To provide a panel structure in which barrier ribs can be formed with a pattern and a height just as designed in a display area, without generating protrusions causing hindrance to adhesion of substrates themselves.例文帳に追加

基板どうしの密着に支障となる突起を生じさせることなく、表示領域にパターンおよび高さが設計どおりの隔壁を形成することのできるパネル構造を提供する。 - 特許庁

Moreover, in the memory 31 of the pattern drawing apparatus, there is stored a point-image intensity distribution 313, acquired by the image pick-up portion 15 when a point light source is arranged at a height of the object plane.例文帳に追加

また、パターン描画装置の記憶部３１には、対象面の高さに点光源を配置した場合に撮像部１５にて取得される点像強度分布３１３が記憶されている。 - 特許庁

By forming the plating post on a wiring pattern, height is easy to make even, and the board is free from irregularities, so that a multilayer printed wiring board superior in connection properties and reliability is obtained.例文帳に追加

めっきポストを、配線パターンの上に形成することにより、高さを均一にし易くなり、基板に凹凸ができず接続性、信頼性に優れた多層プリント配線板を得ることができる。 - 特許庁

Wiring density, a total perimeter length of wiring, and a range of density difference maximum value where a height variation when CMP (Chemical Mechanical Polishing/Chemical Mechanical Planarization) is performed to a layout pattern is an upper limit are obtained as a critical region.例文帳に追加

レイアウトパターンにＣＭＰを行なった際の高さばらつきが指定された上限となる配線密度、配線周囲長、密度差最大値の範囲をクリティカル領域として求める。 - 特許庁

The first through fourth tilting mirrors are (i) respectively offset in height from a reference plane by first through fourth mirror displacements, and (ii) are respectively arranged clockwise in a substantially square pattern.例文帳に追加

第１から第４の可傾ミラーは、ｉそれぞれ第１から第４のミラー変位だけ基準面から高さが偏位し、ｉｉ実質的に正方形のパターンとしてそれぞれ時計回りに配置される。 - 特許庁

Measurement information by a three-dimensional body measurement device is received, and on the basis of the height and the breast size, the information storage means is searched for specifying the matching standard size pattern is specified.例文帳に追加

三次元身体計測装置による採寸情報を受信して、身長とバストに基づいて前記情報記憶手段を検索して、それに対応する標準サイズパターンを特定する。 - 特許庁

At this time, bead spacers are discharged by an ink jet method to opening portions of the microprojection pattern to prescribe the height of the ink film during transfer.例文帳に追加

このとき微小突起物パターンの開口部にインクジェット法によりビーズスペーサーを吐出し、このビーズスペーサーにより転写時のインキ膜の高さを規定する微小突起物の製造方法。 - 特許庁

An insulating film pattern is formed on a semiconductor substrate to extend at a constant height from the cell region to the peripheral circuit region on the semiconductor substrate with a hole being provided in the cell region.例文帳に追加

半導体基板上に形成されて半導体基板のセル領域から周辺回路領域まで同じ高さで延びるが、セル領域でホールを備える絶縁膜パターンを含む。 - 特許庁

The personal authentication medium includes a substrate having a fine unevenness arranged in a character and/or design pattern having a height from 0.01 to 100 μm at least on one main face.例文帳に追加

文字及び／または模様パターンに配列され、０．０１〜１００μｍの高さを有する微細な凹凸を、少なくとも一主面上に有する基材を含む個人認証媒体。 - 特許庁

To provide a panel structure capable of forming a barrier rib having a pattern and a height in accordance with design in a display area without generating projections interfering with adhesion between substrates.例文帳に追加

基板どうしの密着に支障となる突起を生じさせることなく、表示領域にパターンおよび高さが設計どおりの隔壁を形成することのできるパネル構造を提供する。 - 特許庁

The knurl formed on the roll may be flat pattern composed of projections that are formed on the peripheral face of the roll A at a circumferential pitch of 0.4 to 1.5 mm and at a transverse length of 0.1 to 1.5 mm, each projection having a height of 0.1 to 1.5 mm and a height of 0.1 to 1.5 mm.例文帳に追加

ロールに施されたローレットが、ロールの円周面上に、円周方向のピッチが０．４〜１．５ｍｍ、幅方向の長さが０．１〜１．５ｍｍ、高さが０．１〜１．５ｍｍである突起が、幅方向に０．１〜１．５ｍｍの間隔をあけて形成された平目ローレットである上記治具。 - 特許庁

The IC card terminal device is configured so as to include an electromagnetic wave absorption means formed by laminating a printed board with an antenna pattern, an electromagnetic wave absorbing sheet, and a metallic plate in this order, and arranged at a predetermined height so as to surround the antenna pattern on a printed board side.例文帳に追加

アンテナパターンが設けられたプリント基板と、電磁波吸収シートと、金属板とをこれらの順序で積層し、プリント基板側にアンテナパターンを包囲する所定の高さの電磁波吸収手段を備えるようにＩＣカード端末装置を構成する。 - 特許庁

In applying the application liquid onto the substrate and forming a line-like pattern, discharging of the application liquid is initiated from an inward position X0 which is inward from an originally intended start position X1, while keeping the amount of the gap between a nozzle and the substrate to a smaller value G0 than the height of the pattern.例文帳に追加

基板上に塗布液を塗布してライン状パターンを形成するのに際して、本来の始端位置Ｘ1よりも内側の位置Ｘ0から、しかもノズルと基板とのギャップ量をパターン高さよりも小さな値Ｇ0にして塗布液の吐出を開始する。 - 特許庁

In the height regulation member 70, the conductive wiring pattern 72 is electrically connected to the conductive wiring pattern 62 and the light source 40 and the light detector 50 are exposed and fixed to a face of the light transmission material 60 on which the light source 40 and the light detector 50 are fixed.例文帳に追加

高さ規定部材７０は、導電配線パターン７２が導電配線パターン６２に電気的に接続されて、光源４０と光検出器５０とが固定された光透過材６０の面に光源４０と光検出器５０とを露出させて固定されている。 - 特許庁

To easily manufacture a master pattern by creating surface shape data for securing each fine expression with image data of a limited gradation width even with respect to a surface shape of a leather model including a leather tie-dyed pattern and a stitch thread having a height far apart from each other.例文帳に追加

互いにかけ離れた高さの皮絞模様とステッチ糸を含む皮革モデルの表面形状でも、限られた階調幅の画像データで、それぞれ微細な表現が確保される表面形状データを作成してマスター型を簡便に製作可能とする。 - 特許庁

To provide a vehicle width and height detection alarm device capable of giving and informing alarm to a driver when determining that a vehicle cannot pass due to large vehicle width or height by detecting a zebra pattern installed in a place where traffic accidents occur frequently to indicate narrow road width and limit height from images imaged by an imaging means provided in the vehicle.例文帳に追加

車両に設けた撮像手段を用いて撮像した画像から、事故多発場所に設置されている狭路幅や制限高さを示すゼブラ模様を検出し、車幅が広いこと、又は車高が高いことによって車両が通行不可能であると判断した場合には、運転者に対して警告を発して通知する車幅車高検出警告装置を提供する。 - 特許庁

A concentration height pattern of a photocarrier near the semiconductor substrate surface generated through the irradiation by the irradiation sections causes the pattern different in the complex refractive index from the electromagnetic waves 02 of the wavelength having the photon energy lower than that of the band gap energy of the semiconductor substrate 01, thereby controlling the space propagation state of the electromagnetic waves 02 with which the surface of the pattern is irradiated.例文帳に追加

照射部による照射で生じた半導体基板表面近傍のフォトキャリアの濃度高低パターンが、半導体基板01のバンドギャップエネルギーより低い光子エネルギーを持つ波長の電磁波02に対して複素屈折率が異なるパターンを生じさせることによって、このパターン上に照射される電磁波02の空間伝搬状態を制御する。 - 特許庁

An irregular pattern is formed to a part of the face, and the building board having design properties along the height difference of the irregular pattern is obtained by coating the face with shrinkage paints having little pigment components (much resin components) and utilizing the viscosity, fluidity, surface tension or the like of the shrinkage paints.例文帳に追加

化粧面の一部に凹凸模様を形成し、該化粧面に顔料成分の少ない（樹脂成分の多い）ちぢみ塗料を施し、そのちぢみ塗料の粘性、流動性、表面張力等を利用し、凹凸模様の高低差に沿った意匠性を有した建築用板を得るものである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed board capable of stabilizing electric characteristics even if outgrowth arises, improving the planarization of a substrate surface, and eliminating the need of a resist with height matched with a thick copper pattern even when forming the thick copper pattern; and a printed board using the same.例文帳に追加

アウトグロースが発生しても、電気的な特性が安定し、さらに基板表面の平坦化を向上することができ、厚銅のパターンを形成する場合であってもこれに合わせた高さのレジストが不要となるプリント基板の製造方法及びこれを用いたプリント基板を提供する。 - 特許庁

Since the current density distribution is coarse on the side formed with the dummy electroforming part and is dense on the opposite side, the rugged pattern is low in height on the incident side and high on the opposite side, therefore, even though the light guide plate thus manufactured has a uniform rugged pattern, it can uniformalize brightness.例文帳に追加

ダミー電鋳部が設けられた側は、疎な電流密度分布になり、反対側は、密な電流密度分布になるから、入射光側の凹凸パターンの高さは低くなり、反対側は高くなり、このスタンパで作製される導光板は、凹凸パターンが均一でも、輝度を均一にできる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for accurately measuring the trial of the cuff of a fine pattern, and also to provide a semiconductor device manufacturing control system for deciding the processing accuracy on the basis of shape information, such as the height of pattern, tapering angle, amount of trail, and roughness.例文帳に追加

微細パターンのボトム部の裾引き形状を正確に計測する方法および計測装置を提供するとともに、パターン高さ、テーパー角、裾引き量およびラフネス等の形状情報に基づいて加工精度を判定する半導体デバイスの製造管理システムを提供する。 - 特許庁

Unevenness of a surface and a gradient of a local curved surface are computed (ST104) from the height distribution data and an imaging position shift of a mask pattern is calculated from the unevenness and gradient, and parameters of an optical system of the exposure device (ST105).例文帳に追加

高さ分布データから表面の凹凸と局所的な曲面の勾配を演算し(ST104)、凹凸と勾配と露光装置の光学系のパラメータからマスクパターンの結像位置ずれを算出する(ST105)。 - 特許庁

At this time, the inclination and height of the micro pipe is adjusted in advance to expose so that the exposure beam spot is applied by a constant shape and size all the time, and a spiral space pattern with uniform line width is formed.例文帳に追加

その際、露光ビームのスポットが常に一定の形状、大きさで当たるように、予めマイクロパイプの傾斜・高さを調整してから露光し、均一な線幅の螺線スペースパターンを形成する。 - 特許庁

The diffusion pattern 38 is made to change its height in a manner of drawing a wave form in a direction perpendicular to light guiding direction, and made to have a uniform shape of cross section excluding both end parts in light guiding direction.例文帳に追加

拡散パターン３８は、導光方向と直交する方向において波形を描くように高さが変化しており、導光方向では両端部を除いて均一な断面形状を有している。 - 特許庁

The plurality of the first light sources P1 are arrayed in a first array pattern so that an in-plane luminous distribution can be uniform at a prescribed height when the first light source group only is lighted as a whole.例文帳に追加

複数の第１の光源Ｐ１は、第１の光源グループのみを全体的に点灯させた場合に所定の高さでの面内輝度分布が一様となるように第１の配列パターンで配列する。 - 特許庁

The resist pattern 30B for blue color has a larger heat change than the resist patterns 30R, 30G for red and green colors, so that a microlens configuration having a lower lens height and a smaller curvature is yielded.例文帳に追加

青色用のレジストパターン３０Ｂは、赤色用および緑色用のレジストパターン３０Ｒ、３０Ｇよりも熱変化が大きいため、レンズ高さが低く、曲率の小さいマイクロレンズ形状になる。 - 特許庁

To provide an etching device and method for obtaining the sidewall of a silicon nitride film, having film thickness and height sufficient for electrical insulation at the sidewall part of a pattern having a step in level.例文帳に追加

段差のあるパターンの側壁部において電気的絶縁のために十分な膜厚と高さを有するシリコン窒化膜のサイドウォールを得られるように改良されたエッチング装置および方法を提供する。 - 特許庁

When the thin film magnetic head 1 is polished along the width direction, the height-direction dimension of the first polishing pattern 31 appearing in a polished surface is continuously increased according to its polishing amount.例文帳に追加

薄膜磁気ヘッド１を幅方向に沿って研磨加工をおこなうと、その研磨量に応じて研磨面に表出する第１研磨パターン３１の高さ方向の寸法が連続的に増大することとなる。 - 特許庁