「height pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The sum of the thickness of a ground conductive film, a dielectric film and a superconductive circuit pattern is smaller than the height of a pad.例文帳に追加

接地導電膜、誘電体膜、及び超伝導回路パターンの厚さの合計が、パッドの高さよりも小さい。 - 特許庁

To form a pattern having a uniform height from the surface of a board, even if the flat characteristic of the gap between the board and the mold varies.例文帳に追加

基板とモールド間のギャップ平坦度のばらつきがあっても、基板面からの高さが均一なパターンを形成する。 - 特許庁

The second scale pattern P2 is drawn at the vicinities of both the edges in the height direction of both the side surfaces of the lure body 1.例文帳に追加

一方の第２鱗パターンＰ２はルアー本体１の両側面の高さ方向両端付近に描かれている。 - 特許庁

To provide a method for making a change in height for each exposed portion or for rounding surface corners of a convex pattern.例文帳に追加

露光部毎に高さ変化を与え、又は凸模様の上面隅部に丸みを与えることができる製法を提供する。 - 特許庁

The lens resin layer has an additional pattern 14 formed in a region out of the region where the lens pattern is formed in such a manner that the additional pattern protrudes in the direction from the lens resin layer to the sealing resin layer and that its height varies stepwise.例文帳に追加

レンズ樹脂層には、レンズパターンが形成された領域以外の領域にレンズ樹脂層から封止樹脂層に向かう方向に突出し段階的に高さが変化する付加パターン１４が形成されている。 - 特許庁

When the paste height or width of the paste pattern drawn on a substrate is changed, the flow rate of the paste and at least one of nozzle height and a drawing speed are changed synchronously.例文帳に追加

基板上に描画するペーストパターンでのペースト高さや幅を変化させる場合には、このペースト流量と、ノズル高さ，描画速度の少なくともいずれか一方とを同期して変化させる。 - 特許庁

To provide a height measurement method and a charged particle beam lithography apparatus in which drawing accuracy can be enhanced by reducing the height measurement error caused by a pattern formed on a specimen.例文帳に追加

試料に形成されたパターンに起因する高さ測定誤差を低減して、描画精度の向上を図ることのできる高さ測定方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

A height computation unit 213 generates height evaluation data from a change of a slit pattern shape in image data on the first color component and a change of a slit pattern shape in image data on the second color component, respectively, in order to obtain three-dimensional measuring data on the coin.例文帳に追加

高さ計算部２１３は、第１の色成分の画像データにおけるスリットパターン形状の変化と、第２の色成分の画像データにおけるスリットパターン形状の変化からそれぞれ高さ評価データを作成し、硬貨の三次元測定データを得る。 - 特許庁

By appropriately selecting the interval and thickness of a resist pattern, a fine pattern having a three-dimensional height or a fine pattern having a pattern width equal to or smaller than the resolution of exposure light can be formed in a single lithographic process.例文帳に追加

本発明の構成によれば、レジストパターンの間隔と、レジストパターンの厚みを適宜選択することにより、単一のリソグラフィ工程で、３次元的な高さを持った微細パターンや、露光光の解像限界以下のパターン幅を持った微細パターンを形成することが出来る。 - 特許庁

The pattern 3 lower than the height of a flip chip bonding electrode 2 is provided in the arrangement of an electronic part for performing flip chip bonding.例文帳に追加

フリップチップ接続を行う電子部品の配置内にフリップチップ接続電極２の高さよりも低いパタ−ン３を設ける。 - 特許庁

To add a height position correcting function to a pattern matching, in order to allow three-dimensional measurement and image processing through the use of a template.例文帳に追加

テンプレートによる三次元の計測や画像処理を可能にするためにパターンマッチングに高さ位置の補正機能を付加する。 - 特許庁

The first scale pattern P1 is drawn from the vicinity of the center in the height direction of both sides of the lure body 1 to edge parts.例文帳に追加

第１鱗パターンＰ１はルアー本体１の両側面の高さ方向中央付近から端部に向かって描かれている。 - 特許庁

Based on these data, a difference between the height of the diffraction grating pattern 7 before and after etching is calculated.例文帳に追加

これらに基づいて、エッチング前の回折格子パターン７の高さとエッチング後の回折格子パターン７の高さとの差を求める。 - 特許庁

Based on the bright/dark pattern imaged in the contour and distorted by the presence of the object, a height of the object is detected.例文帳に追加

その輪郭内に撮影され、物体の存在によって歪んだ明暗パターンに基づいて、物体の高さが検出される。 - 特許庁

The height of each of the plurality of pads is larger than that of at least the first conductive pattern arranged around the pads.例文帳に追加

複数のパッドの各々の高さは、少なくともそれらパッドの周辺に配置された第１導体パターンの高さよりも高い。 - 特許庁

A second method is a step of arranging patterns where the aspect ratio of the width of the dummy pattern to the height of a resist is not larger than 2 in the separated areas.例文帳に追加

第２の方法は、ダミーパターンの幅とレジスト高さのアスペクト比が２以下になるパターンを上記分離領域に配置する。 - 特許庁

After a TFT1 and a metal wiring pattern are formed, an acrylic resin 21, 22 is first made to have uniform height by coating.例文帳に追加

ＴＦＴ１及び金属配線パターンの形成後、まず、アクリル系樹脂２１，２２を均一な高さをなすようにコーティングする。 - 特許庁

The width and height of the projected strip pattern part 12 are formed to be gradually smaller toward the right end from the left end.例文帳に追加

凸状帯模様部１２の幅及び高さは、その左端から右端に向かって徐々に小さくなるように形成されている。 - 特許庁

To provide a method for producing a checkered steel sheet using stainless steel with which the checker pattern height can be made high without deteriorating the sheet shape.例文帳に追加

板形状を悪化させることなく縞高さを高くできるステンレス鋼を用いた縞鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The golf club head 10 has fine bumps 17 having a prescribed height which are formed on the face 11 in a prescribed pattern.例文帳に追加

ゴルフクラブヘッド１０は、フェイス面１１に、所定の高さを有する微小隆起部１７を所定のパターン状に形成する。 - 特許庁

The block design pattern is formed to 1 to 7 mm in design height, 0 to 3° in design gradient and 2 to 8 mm in minimum dimension and a top thereof is formed flat without rugged pattern.例文帳に追加

上記ブロック意匠パターンは，意匠高さが１ｍｍ〜７ｍｍ，意匠勾配が０度〜３度，最小寸法が２ｍｍ〜８ｍｍで，トップには，凹凸模様がなく，フラットである。 - 特許庁

In addition, the angle θ of the projected lattice pattern P' is changed by changing the angle of a lattice pattern P by an angle changing mechanism 12, to thereby change resolution of height measurement.例文帳に追加

さらに、角度変更機構１２により格子パターンＰの角度を変えて投影格子パターンＰ’の角度θを変えることにより、高さ計測の解像度を変更することができる。 - 特許庁

The determination means 3 determines whether or not the determination object pattern is one character by using size information (the rate of width to the height of pattern) in addition to the comparison result of the comparison means 2.例文帳に追加

判定手段３は、比較手段２の比較結果に加え、サイズ情報（パターンの高さに対する幅の比）を用いて、判定対象パターンを一文字であるか否かを判定する。 - 特許庁

When the throat height of a recording head is to be floating surface processed, a head, which is provided with a process detection pattern 15 that is used for control, is manufactured and the process detection pattern is used for the floating surface process.例文帳に追加

記録ヘッドのスロートハイトを浮上面加工のときに制御するための加工検知パターン１５を設けたヘッドを作製し、その加工検知パターンを用いて浮上面加工を行う。 - 特許庁

In this method, a mark 57 for measurement is formed on the surface of the lens resin layer 52 in the region except the region of the microlens array pattern 56 at the same height as a plane of the pattern 56 including lens edges.例文帳に追加

ここで、レンズ樹脂層５２の表面のマイクロレンズアレイパターン５６の領域外において、マイクロレンズアレイパターン５６のレンズエッジを含む平面と同じ高さに測定用マーク５７を設ける。 - 特許庁

Then, function liquid L is arranged in a pattern forming region AR defined by the bank B to form a film pattern F1 having a film thickness smaller than the height of the first bank B1.例文帳に追加

そして、バンクＢによって区画されたパターン形成領域ＡＲに、機能液Ｌを配置して、第１のバンクＢ１の高さ以下の膜厚を有した膜パターンＦ１を形成する。 - 特許庁

Pattern width or height of the structure which subdivides the electric discharge space is decreased locally in order to realize proper thermal deformation without deviation of three-forked pattern portions of the structure.例文帳に追加

放電空間を細分化する構造体のパターン幅または高さを、当該構造体の三叉パターン部分の熱変形が偏りのない適正なものになるように、局部的に小さくする。 - 特許庁

To provide a printed wiring board wherein a fine circuit pattern is achieved using "additive method" or "semi-additive method" and the variation in the height (thickness) of the circuit pattern is sufficiently suppressed.例文帳に追加

「アディティブ法」や「セミアディティブ法」を用いて回路パターンの微細化を図ったプリント配線板であって、回路パターンの高さ（厚さ）のばらつきが十分に抑えられたプリント配線板を提供する。 - 特許庁

The pattern for arranging line stones comprises a pattern main body for arranging line stones and plural holes formed on the pattern main body for arranging line stones based on optional information, wherein the depth of the holes is set about a half of the height of the line stone.例文帳に追加

ラインストーン配置用型本体と、上記ラインストーン配置用型本体上に任意の情報に基づいて形成された複数個の穴とを具備し、上記穴の深さはラインストーンの高さの略半分程度に設定されているもの。 - 特許庁

The method performs data processing of the SEM image, calculates a parameter showing the height degree of pattern characteristic property in each area of a prescribed reference size and extracts the prescribed number of areas where a pattern is large and the pattern whose characteristic property is high is included.例文帳に追加

ＳＥＭ画像をデータ処理して、パターンの特徴性の高さの度合を示すパラメータを所定の基準サイズの領域毎に算出し、パラメータが大きく、特徴性が高いパターンを含む領域を所定数抽出する。 - 特許庁

The wiring pattern 3 for the signal wire, of a specific height t_1 is formed on a Cu layer 6 of a bilayer tape 7 composed of a base 5 and the Cu layer 6, and the wiring pattern 15 for ground, of a height t_2 (>t_1) is formed on the Cu layer 6 of the other bilayer tape 14.例文帳に追加

基板５とＣｕ層６からなる２層テープ７のＣｕ層６上に所定高さｔ1 の信号線用の配線パターン３を形成すると共に、他の２層テープ１４のＣｕ層６上に高さｔ2 （＞ｔ1 ）のグランド用の配線パターン１５を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a stamper capable of reducing a height defect of a pattern and fluctuation of a pattern width and accurately forming a more minute pattern shape by reducing scattering of an electron beam when a conductive layer is formed under a resist layer to draw a pattern on the resist layer.例文帳に追加

レジスト層の下に導電化層を形成してレジスト層にパターンを描画する際の電子線の散乱を低減することにより、パターンの高さ不良やパターン幅のばらつきを低減し、以ってより微細なパターン形状を精度よく形成可能なスタンパの製造方法を提供する。 - 特許庁

A resin pattern capable of ion exchange is formed by using a photosensitive resin, then a solution containing a metal constituent is absorbed in the resin pattern and calcined, to obtain a conductive member pattern; and in this method, the width of the resin pattern before calcination process is made 1 μm or less and (width/height) is made 5 or less.例文帳に追加

感光性樹脂を用いてイオン交換可能な樹脂パターンを形成し、該樹脂パターンに金属成分を含む溶液を吸収させ、次いで焼成して導電性部材パターンを得る方法において、焼成工程前の樹脂パターンの幅を１μｍ以下、（幅／高さ）を５以下とする。 - 特許庁

A plurality of pattern groups composed of optical diffraction structures are provided, wherein each pattern group contains a fine pattern, containing at least one of numbers, characters, marks and figures and each fine pattern has at most 100 μm height.例文帳に追加

光回折構造で構成される複数のパターン集団において、それぞれのパターン集団は、少なくとも、数字，文字，記号及び図柄の何れか一つを含む微細パターンを含み、前記微細パターンは、それぞれの高さが１００μｍ以下である光回折構造による隠しパターンを提供する。 - 特許庁

The height difference from a point adjacent to an object point is then computed from height information obtained from the range data, and a feature quantity of a height difference pattern satisfying a certain fixed condition is computed to correct the extraction region of range data using the feature quantity.例文帳に追加

続いて、レンジデータから得られる高さ情報から対象点に隣接する点との高低差を算出し、その高低差のパターンが或る一定の条件を満たす特徴量を算出し、その特徴量を利用してレンジデータの抽出領域を補正する。 - 特許庁

Further, the height of a photoresist pattern used of a liftoff can be made smaller, and so the read track width W can be made narrower.例文帳に追加

また、リフトオフに用いるフォトレジストパターンの高さを小さくすることができるため、読み取りトラック幅Ｗを狭くすることができる。 - 特許庁

A convex part 27 having the same height as a convex part 23 forming the transfer pattern 21 is formed at the outer peripheral side of the information write-in region 25.例文帳に追加

情報書き込み領域２５の外周側に、転写パターン２１を形成する凸部２３と同一高さの凸部２７を形成する。 - 特許庁

Fluctuation of the height of the spacer 25 due to fluctuation of polish of the color filter layer 17 is prevented by the projecting pattern 27 and thus display quality can be secured.例文帳に追加

カラーフィルタ層17の研磨のばらつきによるスペーサ25の高さのばらつきを凸パターン部27により防止して、表示品位を確保できる。 - 特許庁

In the case of the spiral pattern, a patterning pitch PA is 14-50 mm, and a patterning height HA is 0.002-0.02 times of the patterning pitch PA.例文帳に追加

螺旋状の場合には、型付けピッチＰＡを１４〜５０ｍｍ、かつ型付け高さＨＡを型付けピッチＰＡの０．００２〜０．０２倍。 - 特許庁

To provide a transformer capable of achieving high insulation between a core and a coil pattern and between a primary side and a secondary side, and miniaturization and height reduction.例文帳に追加

コアとコイルパターンとの間や、一次側と二次側との間の絶縁性が高く、小型化及び低背化が可能なトランスを提供する。 - 特許庁

To provide a method of removing blur of a pattern image acquired by an SEM and easily and accurately measuring the three-dimensional shape of a pattern of a sample surface based on information of the height direction of a pattern acquired by another measuring machine such as an AFM.例文帳に追加

ＳＥＭによって得られたパターン画像のボケを除去し、ＡＦＭなどの他の計測機で得られたパターンの高さ方向の情報と合わせ、試料表面のパターンの３次元形状を簡便にかつ精度良く計測する方法を提供する。 - 特許庁

A groove pattern 13 is formed to an insulation film 12 and an island pattern 14, almost in the same height as the insulation layer 12, consisting of the same insulation layer 12 is formed within the groove pattern 13 in the predetermined interval by etching the insulation layer 12.例文帳に追加

絶縁層１２をエッチングすることによって、絶縁層１２に溝パターン１３を形成すると共に絶縁層１２からなり絶縁層１２とほぼ同じ高さに達する島パターン１４を溝パターン１３内に所定間隔で形成する。 - 特許庁

The walking pattern data to indicate height of a grounding toe is corrected to a side to keep it away from height of a waist to reduce the grounding shock of the robot to walk by changing relative postures of a left leg link, the waist and a right leg link in accordance with the indicated walking pattern data.例文帳に追加

指示された歩容データに従って左脚リンクと腰と右脚リンクの相対的姿勢を変化させることによって歩行するロボットの着地衝撃を緩和するために、接地している足先の高さを指示する歩容データを、腰の高さから遠ざける側に補正する。 - 特許庁

By controlling the amount of the recording current depending on the change of the flying height, the pattern length L can be contained in a fixed range, and the position of the edge of the seamed pattern can be accurately demarcated.例文帳に追加

フライング・ハイトの変動に応じて記録電流の大きさを制御することにより、パターン長Ｌを一定の範囲に収めることができ、シームド・パターンのエッジの位置を正確に画定することができる。 - 特許庁

A display part 50D is constituted of two kinds of parts, i.e., a main display part 50Da of a dot matrix pattern having a height of 32 dots and a width of 96 dots, and an indicator part 50Db of a pattern of 28 pentagonal electrodes.例文帳に追加

表示部５０Ｄは、高さ３２×幅９６のドットマトリックスパターンである主表示部５０Ｄａと、２８個の五角形の電極パターンであるインジケータ部５０Ｄｂの２種類から構成されている。 - 特許庁