「height pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

A 2nd coordinate transforming part 5 can further transform the coordinates of the pattern coordinate system transformed in the part 4 into coordinates within an image area due to a simple residue operation based on the height and width of the image.例文帳に追加

さらに第２の座標変換部５によって、第１の座標変換部４において変換されたパターン座標系の座標を、画像の高さおよび幅に基づく簡単な剰余演算によって画像の領域内の座標に変換できる。 - 特許庁

The random pattern structure P40 to P42 is constituted of plural fine rectangular elements E1 to E4 with four kinds of height, and the rectangular elements E1 to E4 are irregularly arranged so as to constitute plural kinds of diffraction gratings having different grating pitches.例文帳に追加

ランダムパターン構造(P40〜P42)は、４種類の高さを有する複数の微小な矩形エレメント(E1〜E4)から成っており、矩形エレメント(E1〜E4)は、格子ピッチの異なる複数種類の回折格子を構成するように不規則に配置されている。 - 特許庁

The ram shaft control means 33 controls a punch tool 6 by the motor speed pattern VP in accordance with the distance of the plate material transfer after the punch tool 6 goes up from the height HH2 slipped out so as not to halt the servo-motor 19.例文帳に追加

また、ラム軸制御手段３３は、パンチ工具６が抜け出し高さＨＨ２から上昇した後、板材移動の距離に応じたモータ速度パターンＶＰで制御し、サーボモータ１９をできるだけ止めないようにする。 - 特許庁

The packing configuration selection unit 5 refers to the packing configuration pattern of the packing configuration database 6 according to the maximum depth and width and the stacking height of the articles to be packed, and selects the optimum packing box which is not too large or not too small.例文帳に追加

また、梱包形態選定部５は、上記梱包すべき物品の最大縦横寸法および高さ重ね高さに従って、梱包形態データベース６の梱包形態パターンを参照し、大きすぎず、かつ小さすぎない最適な梱包箱を選定する。 - 特許庁

To provide a flask type sand mold molding device capable of miniaturizing the molding device by reducing the height, maintaining the excellent snapflask accuracy, and easily pressing a pattern carrier to a molding base.例文帳に追加

造型装置の背丈を低くして装置をコンパクトに小型化することができると共に優れた抜型精度を維持することができ、かつパタ−ンキャリアの造型基盤への圧着を容易に行うことができる枠付砂鋳型の造型装置等を提供する。 - 特許庁

This pattern paper for installation of equipment is constituted by forming a bottom surface in correspondence with a shape of a buried part 10a of the equipment, forming a side surface 3 at height corresponded to depth of the buried part 10a on its circumference and providing opening parts 2a, 2b, 3a for scratching at both required positions.例文帳に追加

機器の埋設部１０ａの形状に合わせて底面２を形成すると共に、その周囲に埋設部１０ａの奥行きに合わせた高さで側面３を形成し、双方の必要な位置にけがき用の開口部２ａ，２ｂ，３ａを設けた。 - 特許庁

A plurality of rugged structure regions are provided, and at least one rugged structure region is different from other rugged structure regions in the shape, depth or height, pitch and arrangement pattern of the plurality of recessed or projecting parts.例文帳に追加

また、凹凸構造領域を複数備えており、少なくとも１つの凹凸構造領域において、複数の凹部又は凸部の形状、深さ又は高さ、中心間距離および配置パターンが、他の凹凸構造領域と異なることを特徴とする。 - 特許庁

By completing the polishing at the point when the height-direction dimension of the first polishing pattern 31 reaches a predetermined value, a desired stacked section is easily obtained, and made suited to analysis such as the structure checking or composition analysis of a very small part.例文帳に追加

第１研磨パターン３１の高さ方向の寸法が所定値に達した時点で研磨を終了すれば、所望の積層断面を容易に得ることができ、微小部分の構造確認や組成分析などの解析に好適なものとなる。 - 特許庁

To provide a contact and an electric connector which are used to electrically connect a conductor pattern formed on a circuit board and a body to be connected that is positioned to face the circuit board, and in which the amount of displacement of a contact protruding part is large, while having a low height.例文帳に追加

低背でありながらも接触突部の変位量の大きい、回路基板に形成された導体パターンと回路基板と対向する位置の被接続体とを電気的に接続するためのコンタクト及び電気コネクタを提供することにある。 - 特許庁

In order to measure the measuring object on the printed circuit board, three-dimensional height information of the printed circuit board is obtained by utilizing a first image photographed by irradiating the printed circuit board with grid pattern light by utilizing a first illumination unit.例文帳に追加

プリント回路基板上の測定対象物を測定するために、第１照明ユニットを利用して格子パターン光をプリント回路基板に照射して撮影された第１画像を利用してプリント回路基板の３次元高さ情報を取得する。 - 特許庁

Because the lower small magnetic pole part 74 whose pattern does not require high strictness is formed by the selective etching of the magnetic material substrate 70, the lower small magnetic pole part 74 having a large height can be formed in a short time.例文帳に追加

また、パターンがそれほど問題とならない下部小磁極部７４は磁性体基板７０の選択的エッチングにより形成した構造としているので、高さの大きい下部小磁極部７４を時間を要することなく形成することができる。 - 特許庁

When a parameter showing this shape (height, bottom width, volume) exceeds a predetermined range, the sample chamber is cleaned in combination with an existing cleaning method, whereby the pattern width of the observation sample can be accurately and stably measured.例文帳に追加

そして、この形状を表すパラメータ（高さ、底面の幅、体積）が所定の範囲を超えたとき、既存のクリーニング方法を併用して試料室内の清浄化を図ることにより、観察用試料のパターン幅を精度良く、安定的に計測可能にする。 - 特許庁

To provide a color filter substrate whose height is uniform irrespective of an arrangement place of a spacer when forming the spacer by lamination of a coloring layer on a grating pattern-like black matrix on a boundary between pixels at a requested position for example.例文帳に追加

着色層の積層によるスペーサーを所望の位置、例えば、画素間の境界にある格子パターン状のブラックマトリックス上に形成する場合、スペーサーの配置場所によらず高さが均一なカラーフィルタ基板を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a decorative material becoming clear by strengthening a difference of a height and a gloss of a rugged part of a coating film on a surface and having excellent solvent resistance and high durability up to an erasure of a pattern even by wiping it by a cloth or the like impregnated with a solvent.例文帳に追加

表面の塗膜の凹凸の高さ及び艶の差がより強調されて鮮明となった化粧材であって、耐溶剤性が優れ、溶剤をしみ込ませた布等で拭いても、模様が消失するまでの耐久性が高いものを提供する。 - 特許庁

To provide a printing material coating method and a printing material coater which absorb a variation of the height of a place to be coated and coat a printing material even if the height is different depending on the place as a deformation, etc. generates on a body to be coated when the body to be coated is coated with the printing material of liquid state in a determined pattern.例文帳に追加

本発明は、液状の印刷材料を所定のパターンで被塗布体に塗布するにあたり、被塗布体に歪等が生じているため印刷材料を塗布する場所の高さが場所により異なる場合であっても、その高さのバラツキを吸収し印刷材料を塗布することのできる印刷材料塗布方法及び印刷材料塗布装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

The controller controls driving of at least one of an optical element constituting the projection optical system, the first stage, and the second stage so as to reduce the image height dependence of variations in imaging characteristics of the projection optical system on the basis of the positional dependence of the transmittance of the pattern.例文帳に追加

制御部は、パターンの透過率の位置依存性に基づき、投影光学系の結像特性の変動の像高依存性を低減するように、投影光学系を構成する光学素子、第１ステージ及び第２ステージの少なくとも一つの駆動を制御する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor device that can improve the planarity of an interlayer insulating film, without causing increase in the number of manufacturing steps, by forming an interlayer insulating film having the optimum film thickness, according to the height and interval of a pattern.例文帳に追加

パターンの高さおよび間隔に応じた最適な膜厚で層間絶縁膜を形成することにより、製造工程数を増加させることなく層間絶縁膜の平坦度を向上させることができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A two-dimensional blade cross section model design section 112 determines a two-dimensional blade cross section model by defining a two-dimensional cross section at each blade height with a fourth NURBS curve using information on a flow pattern obtained through a thermal design as well as a design variable held in a design variable section.例文帳に追加

二次元翼型設計部１１２は、熱設計からフローパターンの情報及び設計変数部に保持された設計変数を用いて、それぞれの翼高さ位置での二次元断面を４次のＮＵＲＢＳ曲線で定義して、二次元翼型を決定する。 - 特許庁

In the pattern habit visualizing apparatus 1, a control part 3 determines a shadow and occlusion which are generated by a visual point and a light source in one or more angular directions set by an operator or previously determined in an inputted height field in each pixel.例文帳に追加

柄癖可視化装置１において、制御部３は、入力されたハイトフィールドに対して、操作者により設定されるか、或いは予め定められた一つまたは複数の角度方向に視点及び光源により生じる陰影及びオクルージョンを画素毎に判定する。 - 特許庁

Since a pattern with a height of 100 μm or more can be obtained by one operation, a treatment time is shortened as compared with lamination or the like due to screen printing performed heretofore and, since the operation of alignment or the like may be performed once, the processes can be simplified.例文帳に追加

一回の操作で高さ１００μｍ以上のパターンが得られることから、これまでのスクリーン印刷による積層等に比べ、処理時間が短縮されるとともに位置合わせ等の操作も一回でよいため、工程の簡略化を図ることができる。 - 特許庁

The sanitary tissue is embossed by using an emboss roll having an emboss pattern constituted of unit embossing projection parts having a truncated corn or truncated elliptic corn shape where the area of the top surface part is 0.3-1.8 mm^2, the tapered angle is 20-50°, and the height is 0.3-1.5 mm.例文帳に追加

頂面部の面積が０．３〜１．８ｍｍ^2、テーパー角が２０〜５０度、高さが０．３〜１．５ｍｍである円錐台又は楕円錐台の単位エンボス付与凸部で構成されるエンボスパターンを有するエンボスロールを用いて衛生薄葉紙にエンボスを付与する。 - 特許庁

The operating part which receives data of the icon created on the body side through a communication means 10 secures a capacity of the data in a RAM30R5, writes data of width, height, the number of colors and an icon pattern in the secured area of the RAM and manages them.例文帳に追加

本体側で発生したアイコンに関するデータを通信手段１０を介して受信する操作部では、そのデータ分の容量をＲＡＭ３OR５に確保し、確保したＲＡＭの領域に、アイコンの幅、高さ、色数、アイコンパターンの各データを書き込み、管理する。 - 特許庁

To provide a method for inexpensively forming a color conversion layer having a high-precision pattern without increasing the height of a bank by simplifying a process of controlling the wettability of a color filter layer used as a base in forming the color conversion layer and the bank used as a sidewall.例文帳に追加

色変換層形成時の下地となるカラーフィルタ層および側壁となるバンクの濡れ性を制御する工程を簡便にし、バンクの高さの増大を伴うことなしに、低コストで高精細なパターンを有する色変換層を形成するための方法の提供。 - 特許庁

As for the vertical direction, a transition of matching with the reference pattern is similarly acquired with movement of the search window, and the width (W21, W22) of matching areas is compared with the vertical width of the search window at the height to determine whether there is a pedestrian.例文帳に追加

また、上下方向についても同様であり、探索窓を移動させながら基準バターンとの一致度の推移を取得し、一致度の高い領域の幅（Ｗ２１，Ｗ２２）とその高さにおける探索窓の縦方向の幅とを比較して、歩行者の有無を判定する。 - 特許庁

A second MR element 22 of a plurality of test patterns TEG is provided with the same material, film thickness and track width Tw as those of a first MR element in a thin film magnetic head with the height h formed differently depending on each test pattern TEG.例文帳に追加

複数のテストパターンＴＥＧの第２ＭＲ素子２２は、薄膜磁気ヘッド１０における第１ＭＲ素子３と同一の材料、同一の膜厚及び同一のトラック幅Ｔｗであって、それぞれのテストパターンＴＥＧによってハイトｈが異なるように形成される。 - 特許庁

When a movement is assembled, an overhung pattern 4a is housed in a enfolded-shaped concave portion 1d formed on a bottom board 1, is bent to the height of reset-lever 3, and the leading end of which reaches to a concave portion 1e dug down from a reset-lever moving flat surface 1a.例文帳に追加

ムーブメントを組み立てると、オーバーハングパターン４ａは地板１に形成された抱え込み形状の凹部１ｄに収納され、リセットレバー３の高さまで曲げられ、その先端部はリセットレバー平面移動面１ａより掘り下げられた凹部１ｅに達する。 - 特許庁

It is recommended that for the curved segment shape, the plane view shape be, for example, 0.1 to 1.5 mm in width, 1 to 10 mm in the diameter of a circumscribed circle, 0.1 to 1 mm in the shortest distance of interadjacent curved segments and 5 to 50 μm in the height of an irregular pattern as a transverse section shape.例文帳に追加

曲線分形状は、平面視形状が、例えば、幅０．１〜１．５ｍｍ、外接円直径１〜１０ｍｍ、隣接する曲線分同士の最短距離０．１〜１ｍｍ、横断面形状にて凹凸模様の高さ５〜５０μｍの形状等とすると良い。 - 特許庁

It is decided whether the detected lengths are larger than a set value (height and when so, a correction area surrounding a terminal part of the pattern is determined according to a 3rd side (29) obtained by extending the 1st side up to a position corresponding to the specific corner part (α) in contact with the adjacent vertical side and added to the pattern.例文帳に追加

検出された長さが設定された値（ｈｅｉｇｈｔ）以上であるか否かを判定し、長さが設定値以上である場合には、前記隣接する垂直な辺に接する特定コーナー部分（α）に相当する位置まで、第１の辺を延長した第３の辺（２９）に基づいて、パターンの末端部分を包囲する補正領域を決定し、補正領域を前記パターンに付加する。 - 特許庁

Then, mesh division of an input layout is performed to calculate wiring density, the total perimeter length of wiring, and the density differential maximal value of each mesh as mesh data, and a critical map showing whether or not mesh data of each mesh are in the critical region and a predicted value of the height variation of the whole pattern are calculated.例文帳に追加

そして、入力されたレイアウトパターンをメッシュ分割して各メッシュの配線密度、配線周囲長、密度差最大値をメッシュデータとして算出し、各メッシュのメッシュデータがクリティカル領域にあるか否かを示すクリティカリティマップと、パターン全体の高さばらつきの予測値とを算出する。 - 特許庁

To provide an image data analysis device with which image processing conditions (threshold value or the like) enabling desired pattern edges with good reproductivity can be easily obtained by using image data obtained by using a scanning type microscope (CD-SEM) even if the patterns change structures in a height direction.例文帳に追加

高さ方向で構造が変化するようなパターンであっても、走査型顕微鏡（ＣＤ−ＳＥＭ）を用いて取得した画像データを用いて所望のパターンエッジが再現性よく決定できる画像処理条件（閾値等）を、簡便に得ることのできる画像データ解析装置を提供する。 - 特許庁

Since a convex portion of the first interlayer insulating film 92 having a height corresponding to the film thickness of the first Al layer 94 exists on the light receiver where the pattern of the first Al layer 94 is not formed, the surface of a second interlayer insulating film 96 laminated thereon is formed flatly.例文帳に追加

第１Ａｌ層９４のパターンが形成されない受光部に、第１Ａｌ層９４の膜厚に応じた高さの第１層間絶縁膜９２の凸部が存在することで、その上に積層される第２層間絶縁膜９６の表面が平坦に形成される。 - 特許庁

The method of manufacturing the thin film transistor includes a step of forming a recess which is the pattern of the electrode, a step of forming the groove on the identical shape on the substrate front surface, and a step of embedding the electrode material to this recess, and forming the embedding electrode of the identical height to the substrate front surface.例文帳に追加

本発明の薄膜トランジスタの製造方法は、基材表面に電極のパターンと同一形状の溝である凹部を形成する工程と、該凹部に対して電極材料を埋め込み、基板表面と同一の高さの埋め込み電極を形成する工程とを有する。 - 特許庁

The clear case formed by bending a transparent plastic sheet is provided with an embossed part (11) with an uneven height difference of ≥0.01 mm and <0.3 mm and a line pitch of ≥0.01 mm and <0.3 mm on the surface of the plastic sheet (10) in a pattern-like form.例文帳に追加

透明なプラスチックシートを折り曲げ加工して形成されたクリアケースであって、プラスチックシート（１０）の表面に凹凸の高度差が０．０１ｍｍ以上、０．３ｍｍ未満で、線ピッチが０．０１ｍｍ以上、０．３ｍｍ未満の凹凸部（１１）がパターン状に設けられている。 - 特許庁

The pattern of amorphous silicon includes a first region and a second region, and in addition, at least one first protruding region directly adjoining to the second region and having a second height, and at least one fourth region positioned between the first region and the first protruding region.例文帳に追加

第１の領域と第２の領域と、第２の領域に直に隣接して第２の高さをもつ、少なくとも１つの第１のとがった領域と、第１の領域と第１のとがった領域との間にある少なくとも１つの第４の領域とが、前記アモルファスシリコンのパターンに含まれる。 - 特許庁

A measuring surface 56 of the same height as that of the terminal portion 54a of a wiring pattern 54 is formed near a bump to be inspected, and an insulating coating film 57 having openings 59 and 60 for exposing a bump 55 and the measuring surface 56 is formed on the surface of the substrate body 53.例文帳に追加

検査されるバンプの近傍に、配線パターン５４の端子部５４ａと同じ高さの表面を有する測定表面５６を形成し、バンプ５５と測定表面５６とが露出させる開口５９、６０を有する絶縁被覆膜５７を基板本体５３の表面に形成する。 - 特許庁

Each layout jig 14 has a groove 18 for inserting a flat cable, a means for clipping the flat cable inserted and an anti-rising portion for truing up the insertion depth of the flat cable and is arranged with the direction and height of the insertion groove 18 changed so as to correspond to a laying pattern of flat cables.例文帳に追加

各配索治具14は、フラットケーブルの差込み溝18と、差し込まれたフラットケーブルを挟み付ける手段と、フラットケーブルの差し込み深さを一定にそろえる突き当て部とを有し、フラットケーブルの配索パターンに対応するように差込み溝18の向き及び高さを変えて設置してある。 - 特許庁

A main control substrate 20 (main CPU 20a) generates environment adjusting information for adjusting the layout (vertical position) of the visible display part of a pattern display device 18 on the basis of the detection result of a human sensing sensor SE1 for detecting the physical feature (the seated height) of a player.例文帳に追加

主制御基板２０（メインＣＰＵ２０ａ）は、遊技者の身体的特徴（座高の高さ）を検知する人検知センサＳＥ１の検知結果に基づき、図柄表示装置１８の可視表示部の配置（上下位置）を調節するための環境調節情報を生成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has excellent polymerization curability when exposed to light and high exposure sensitivity and which is capable of forming a color pattern having excellent profile characteristics, a photospacer having excellent cross-sectional shape uniformity and excellent height uniformity, and a protective film having excellent uniformity and hardness even with a short heating time.例文帳に追加

露光時の重合硬化性に優れ、露光感度が高く、短い加熱処理時間でもプロファイル特性に優れる着色パターン、断面形状の均一性および高さ均一性に優れるフォトスペーサー、均一性や硬度に優れる保護膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

This raised woven fabric for the sheet having an appearance grace not available up to now is obtained by making raised textures by changing the height of loops of raised weft yarns gradually to form the uneven pattern expressing the moderate slope or moderately curved surface of the slope part.例文帳に追加

本発明は、起毛される緯糸のループの高さを徐々に変化させる起毛組織とすることにより、緩やかな斜面または緩やかな曲面の斜面部を表現する凹凸柄とし、今までにない外観品位のあるシート用起毛織物が得られることを見出し、本発明に至ったものである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring board which is superior in forming of micro-wirings, can form a high density circuit pattern more than the conventional one without needing plated leads for lines and through- holes, and keeps the variation accuracy of the circuit height at a high accuracy to avoid deteriorating the connection reliability.例文帳に追加

微細配線の形成に優れ、ラインやスルーホールにめっきリードを必要とせず、これまで以上に高密度回路パターンを形成でき回路の高さのばらつき精度を高精度に押さえて、接続信頼性が損なわれない、配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

The light guide film (LGF) 4, guiding light from an LED (light source) 2 into inside through a photo acceptance face 4a at a side end, a folded pattern 4A repeated over a height range of a light-emitting face of the LED 2 is formed at a part including at least the photo acceptance face 4a.例文帳に追加

ＬＥＤ（光源）２からの光を側端の受光面４ａから内部に導入する薄型導光シート（ＬＧＦ）４において、少なくとも前記受光面４ａを含む一部に、前記ＬＥＤ２の発光面の高さ範囲に亘って繰り返される折り返しパターン４Ａを形成する。 - 特許庁

According to the "Ihon Shimeisho," a commentary of Genji Monogatari (The tale of the Minamoto clan) from the mid Kamakura Period, its length was about Kosode (a kimono with short sleeves worn as underclothing by the upper classes) (in other words, the length is close to one's height), made in threefold (with nakabe, a lining cloth attached between the outer material), and a hitoemon (a single design, diamond shaped design such as ones used on a single layered kimono) pattern is used on the lining. 例文帳に追加

鎌倉時代中期の源氏物語注釈書『異本紫明抄』によると小袖ほどの丈(つまり身長すれすれくらい)で、三重(中倍のある)の仕立てで、裏には単文(ひとえもん。単衣につかうような菱文）の綾を用いるという。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A clear case formed by bending a transparent plastic sheet is provided with an embossed part (11) with an uneven height difference of ≥0.01 mm and <0.3 mm, and a line pitch of ≥0.01 mm and <0.3 mm on the surface of the plastic sheet (10) in a pattern-like form.例文帳に追加

透明なプラスチックシートを折り曲げ加工して形成されたクリアケースであって、プラスチックシート（１０）の表面に凹凸の高度差が０．０１ｍｍ以上、０．３ｍｍ未満で、線ピッチが０．０１ｍｍ以上、０．３ｍｍ未満の凹凸部（１１）がパターン状に設けられている。 - 特許庁

As a result, when an ink layer 26 colored black as an upper layer is formed, the height of a dot pattern can change smoothly in the outer periphery boundary region 36, thus decreasing or removing the step line that can be visually recognized on the surface of the applique 16.例文帳に追加

これにより、上位層として黒色に着色されたインク層２６が形成されたとき、外周境界領域３６において、ドットパターンの高さが滑らかに変化することを可能とし、アプリケ１６の表面上における視認可能な段差線を減少あるいは除去することができる。 - 特許庁

The diffraction optical element 201 has a relief pattern formed on a surface of thereof, wherein a fine periodic structure 203 having a pitch shorter than the minimum wavelength of working wavelengths is formed on the relief pattern 202, and by changing parameters such as pitch, width and height (or depth) of the fine periodic structure 203, the wavelength dependency of effective refractive index in the fine periodic structure 203 is adjusted.例文帳に追加

本発明は、表面にレリーフパターンが形成されている回折光学素子２０１において、前記レリーフパターン２０２上に、使用する波長の最小波長よりも短いピッチを有する微細周期構造２０３を形成し、該微細周期構造２０３のピッチ、幅、高さ（または深さ）などのパラメータを変えることにより微細周期構造２０３における有効屈折率の波長依存性を調整する。 - 特許庁