| 意味 | 例文 |
line patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3472件
The extended pattern is formed on a substrate W or on a substrate table WT and preferably extends over a length at least 50 times wider than a width of the line.例文帳に追加
延在パターンは、基板W又は基板テーブルWT上に形成され、好ましくは線の幅の少なくとも50倍の長さにわたって延在する。 - 特許庁
The encoder 10 controls the transmission power of each subcarrier propagating in the telephone line so as to follow the transmission power pattern and subsequently encodes input data.例文帳に追加
エンコーダ10は、電話回線を伝搬する各サブキャリアの送信電力が送信電力パターンに従うように制御した上で、入力データを符号化する。 - 特許庁
To distinguish types and levels of pattern-like flaws and bumpy flaws present on surfaces of steel plates by continuously detecting the flaws on line by a simple constitution.例文帳に追加
簡単な構成で鋼板表面にある模様状疵や凹凸状の疵をオンラインで連続的に検出して、その種別や程度を弁別する。 - 特許庁
Also, by forming the short-circuit pattern 28 with a single line, the shunt current into the magnetic shield side is eliminated and influences upon the magnetroresistance effect element value are avoided.例文帳に追加
また、短絡パターン28を1本で形成することで、磁気シールド側への分流をなくし、磁気抵抗効果素子抵抗値への影響を回避する。 - 特許庁
To provide a resist composition which is suitably used in electron beam or EUV lithography, and which provides a pattern having high sensitivity and good line-edge roughness.例文帳に追加
電子線又はEUVリソグラフィーに好適に用いられ、優れた感度及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a positive radiation sensitive resin composition which is superior in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution and can stably form a high precision fine pattern.例文帳に追加
ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a salt which is useful as an acid generation agent of a resist composition, capable of forming a pattern having excellent resolution and line edge roughness.例文帳に追加
優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤として有用な塩を提供する。 - 特許庁
To provide a measuring method and device for easily performing exact measurement of an extremely fine line width and quantification about a profile of an etching structure on a pattern wafer.例文帳に追加
極微線幅の正確な測定やパターンウェハ上のエッチング構造のプロファイルに関する定量化が容易に行える測定方法と装置を提供する。 - 特許庁
A plurality of p+ collector layers 16 and p+ emitter layers 17 are provided in a line pattern extending in the Y direction orthogonal to the X direction between the n+ base layers 15.例文帳に追加
n^+ベース層15の間に、X方向に直交するY方向に延びるラインパターンのp^+コレクタ層16及びp^+エミッタ層17を、複数設ける。 - 特許庁
A preceding profile vector and a following profile vector are determined from at least three profile points moving along the profile line of a wiring pattern (S16).例文帳に追加
配線パターンの輪郭線に沿って移動する少なくとも3個の輪郭点から先行輪郭ベクトルと追従輪郭ベクトルとを求める(S16)。 - 特許庁
The shade 8 is provided with an edge 32 forming a cutoff line of a light distribution pattern and integrally formed with a lens holder 27.例文帳に追加
この発明は、シェード8には、配光パターンのカットオフラインを形成するエッジ32が設けられていると共に、レンズホルダ27が一体に設けられている。 - 特許庁
Plural concentration patterns are held in a pattern storage part 103, and the boundary line information of an inputted gradation image is extended by a run length extender 101.例文帳に追加
パターン記憶部103に複数の濃度パターンを保持しておき、ランレングス伸張器101で、入力されたグラデーション画像の境界線情報を伸張する。 - 特許庁
When illuminating light from the illumination light source 15 changes, sensor data 18a from a CCD line sensor 18 is subjected to density conversion for comparing it with a reference pattern.例文帳に追加
CCDラインセンサ18からのセンサデータ18aは、照明光源15からの照明光が変化した場合には、濃度変換して基準パターンと比較する。 - 特許庁
The matrix line is replaced and the number of absorptions by each absorption pattern is calculated every replacement, and the optimum feeder arrangement is obtained on the basis of the calculation result.例文帳に追加
マトリックス行を入れ替えて入れ替えごとに各吸着パターンによる吸着回数を計算し、その結果に基づき最適なフィーダ配置を求める。 - 特許庁
To provide a photomask capable of precisely working a light-shielding pattern and suppressing the variation of resist line width due to flare, and to provide a manufacturing method for the photomask.例文帳に追加
遮光パターンを高精度で加工できると共にフレア起因によるレジスト線幅変化を抑制できるフォトマスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To facilitate correction of correction parameters, corresponding to the measurement data of each measurement item, such as resist thickness and development line width, in a resist pattern formation device.例文帳に追加
レジストパターン形成装置において、レジスト膜厚や現像線幅等の各測定項目の測定データに対応する補正パラメータの補正作業を容易にすること。 - 特許庁
A receiving side device estimates a line by correlating a plurality of pilot signals loaded on the pilot carrier by the same pattern used for the transmitting side.例文帳に追加
受信側装置がパイロットキャリアに乗せられた複数のパイロット信号について送信側で用いたものと同一のパターンで相関をとって回線推定を行う。 - 特許庁
When resist is formed on the first wiring layer, the thickness of a resist pattern for forming a signal line 18 is greater than the thickness of the other resist part.例文帳に追加
第1配線層上にレジストを形成すると、信号線18を形成するためのレジストパターンの厚さは他のレジストの部分の厚さより厚くなる。 - 特許庁
Each cell image obtained by photographing cells cultured in a cell culture dish equipped with a fixed line pattern with changing time is prepared.例文帳に追加
所定のラインパターンを設けた細胞培養ディッシュ内で培養された細胞を時間を変化させて撮影することにより得られた各細胞画像を用意しておく。 - 特許庁
Thus, the photoacid generator can be uniformly dispersed in a resist film to improve illumination characteristics at a line-edge of a resist pattern, etc.例文帳に追加
これにより、光酸発生剤をレジスト膜内に均一に分散させることができ、レジストパターンのラインエッジ照度特性などを向上させることができる。 - 特許庁
To produce an undulated sheet having a fine regular pattern of concavities and convexities formed on the surface, with high quality without defect, and with sufficient productivity and high line speed.例文帳に追加
表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。 - 特許庁
The translucent electromagnetic-wave shielding film for a touch panel of a liquid-crystal display device keeps a thin-line pattern, made of a conductive metal including developed silver carried a support.例文帳に追加
支持体上に、現像銀を含む導電性金属からなる細線パターンを有する液晶表示装置用タッチパネル用透光性電磁波シールドフィルム。 - 特許庁
A point of change P4 (position of cumulative width value 180+1=181) in the tone of a dirt e1 belongs to the dirt e1 on a scanning line L2, that is, to the dark pattern.例文帳に追加
汚れe1の明暗の変化点P4(累積幅値180+1=181の位置)は、走査線L2上では汚れe1、つまり暗パターンに属する。 - 特許庁
A reflection part 24 reflects the monitor light to generate an identification light signal having a pattern for identifying a corresponding 2nd optical fiber transmission line 4.例文帳に追加
反射部は、監視光を反射することにより、該当する各第2の光ファイバ伝送路を識別するためのパターンを有する識別光信号を発生する。 - 特許庁
To manufacture a rugged sheet, on the surface of which a regular minute protrusion/recess pattern is formed, with high quality and high productivity at a high line speed without any defect.例文帳に追加
表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。 - 特許庁
A non-crosslinked negative resist is used for the formation of the pattern of the word line in a nonvolatile semiconductor storage device and an alternate phase inverted arrangement of a phase-shift exposure is performed on the negative resist.例文帳に追加
不揮発性半導体記憶装置のワード線のパターン形成に非架橋系ネガレジストを用い、交互位相反転配置の位相シフト露光を行う。 - 特許庁
The auxiliary pattern 13 forms an etching region where the profile of light to compensate the diffracted part of light on the line edge is controlled as shown in Fig. (c).例文帳に追加
補助パターン13は図1(c)に示されるように、ラインエッジで光の回折部分を相殺させる光プロファイルの制御がなされるようなエッチング領域である。 - 特許庁
To reduce a chip area in a DRAM including a repetitive pattern such as a word line driving circuit.例文帳に追加
本発明は、ワード線駆動回路のような繰り返しパターンを含むDRAMにおいて、チップ面積を縮小できるようにすることを最も主要な特徴とする。 - 特許庁
To prevent a problem that a stripped pattern is generated at a light color portion in the vicinity of a leading line of a page or the like with a simple method.例文帳に追加
誤差拡散法を採る画像処理において、ページ先頭ライン付近の色の薄い部分に縞模様発生などの不具合を簡単な方法で防止する。 - 特許庁
To provide a charged beam apparatus applicable to an in line evaluation which has a function of high speed and high precision incline observation as well as an incline observation method of a pattern.例文帳に追加
インライン評価に適用可能で高速かつ高精度の傾斜観察機能を有する荷電ビーム装置およびパターンの傾斜観察方法を提供する。 - 特許庁
To provide a lighting tool for a vehicle capable of forming a low-beam light distribution pattern with a slanted cutoff line without increasing the number of lighting tool units.例文帳に追加
灯具ユニット数を増やさずに斜めカットオフラインを有するすれ違い配光パターンを形成することができる車両用灯具を提供する。 - 特許庁
In addition, no laser radiation is performed prior to dicing to the scribe line of a predetermined or less width on which a metal-containing accessory pattern is provided.例文帳に追加
また、金属を含むアクセサリパターンを配置したスクライブラインであって、所定の幅以下のスクライブラインには、ダイシングに先立つレーザ照射を行わないようにした。 - 特許庁
The first case 11 includes a substrate 16 where an unillustrated wireless communication circuit is mounted and a feed line composed of a conduction pattern is provided.例文帳に追加
第1筐体11は、図示しない無線回路を搭載すると共に導体パターンからなる給電線路が設けられた基板16を内蔵している。 - 特許庁
A working pattern with which straight line intervals 11-19 are combined, is set up so that a jet locus 10 does not cause roughness and fineness for a chipping region 20 of concrete.例文帳に追加
コンクリートのはつり領域20に対して、ジェット軌跡10が粗密を生じないように、直線区間11〜19を組合わせた加工パターンを設定する。 - 特許庁
Then, an approximate curve (the inherent contour line of a shape indicated by the embroidery pattern) of a curve connecting the contour points is computed for every block (S103).例文帳に追加
続いて、各ブロック毎に各輪郭点を結ぶ曲線の近似曲線(刺繍模様が表す形象本来の輪郭線)を算出する(S103)。 - 特許庁
With this, light forming a near-downward region of an on-coming lane side cutoff line in the low-beam light distribution pattern is prevented from irradiating forward.例文帳に追加
これにより、ロービーム用配光パターンにおける対向車線側カットオフラインの下方近傍領域を形成する光が前方へ照射されないようにする。 - 特許庁
A shape of the chip is made anisotropic, or a ruled line and a mark are formed on the chip, so as to decide the direction of the diffraction grating pattern direction by an appearance of the chip.例文帳に追加
チップの外観によって回折格子パターン方向が判定できるように、チップの形状を異方性にしたり、罫書きやマークをチップに形成した。 - 特許庁
Furthermore, by having no ventilation hole 23 to form on the extension line of each lead 20a, also easily laying of a conductive pattern 12 is facilitated also.例文帳に追加
また、各リード20aの延長線上には通風孔23が形成されないようにすることにより、導電パターン12の取り回しも容易とする。 - 特許庁
A unit pattern T (m, n) is two-dimensionally arranged in such a manner that a specified embroidery region may be enclosed by a contour line 41 (only one part is shown in the sketch).例文帳に追加
外形線41によって規定される刺繍領域を包含するように、単位パターンT(m,n)を2次元的に配置する(図では一部のみ表示)。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition for soft X-rays forming a square pattern profile with high sensitivity and high resolution and having excellent LER (line edge roughness) characteristics and dry etching resistance.例文帳に追加
高感度、高解性で矩形なパターン形状を有し、LER特性及びドライエッチング耐性に優れた軟X線用感放射線性組成物の提供。 - 特許庁
Thereby the pattern edge of the light-shielding film 4 is covered with the metal source line 10s, having a light-shielding effect so that irregularity in display can be prevented.例文帳に追加
これにより、遮光膜4のパターンエッジが遮光効果のある金属膜のソース線10sに隠れて、表示むらの発生を防止することができる。 - 特許庁
To manufacture a rugged sheet, in which a regular fine rugged pattern is formed on its surface, with high quality without any defect at a high line speed and also at high productivity.例文帳に追加
表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive positive resin composition excellent in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution to stably form a high-precision fine pattern.例文帳に追加
ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a technology capable of specifying the position of a line pattern with higher accuracy (accuracy of a unit less than one pixel of a reading image pitch) than an image reading resolution.例文帳に追加
ラインパターンの位置を、画像読取解像度よりも高い精度(読取画像ピッチの1画素未満単位の精度)で特定することができる技術を提供する。 - 特許庁
When the symmetric axis of the moire pattern included in an image taken by a camera is made coincident to the reference line, the rotation value of a stepping motor is attained.例文帳に追加
カメラによって撮像された画像に含まれるモアレパターンの対称軸が基準線に一致した時、ステッピングモータの回転量が取得される。 - 特許庁
To provide a photosensitive conductive paste, with which an electrode pattern with high definition and free from defects such as peeling, residue and minute line disconnection can be efficiently formed.例文帳に追加
高精細で、かつ剥がれ、残渣、微小な断線等の欠陥がない電極パターンを、効率よく形成できる感光性導電ペーストを提供する。 - 特許庁
To provide a salt forming a pattern of excellent resolution, shape and line-edge roughness, and a resist composition or the like containing the salt.例文帳に追加
優れた解像度、形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a salt for an acid generator of a resist composition which can form a pattern having an outstanding line edge roughness (LER) and a focus margin (DOF).例文帳に追加
優れたラインエッジラフネス(LER)及びフォーカスマージン(DOF)を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。 - 特許庁
By remembering the application pattern of the colored line performed by a specialist at a better position, the appropriate taping can be replicated any number of times.例文帳に追加
また、専門家により正しい位置にテーピングされ、その際の着色ラインの貼付パターンを覚えておくことで、何度でも適切なテーピングを再現できる。 - 特許庁
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