「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

Scroll variation is given to a pattern (carrot) displayed in a small figure to establish a plurality of a prize line or scroll variation is given to a pattern (doll) displayed in a large figure to establish a single prize line, providing variation control so that the number of the prize lines for establishing a set of prize patterns can be changed.例文帳に追加

小さく表示される図柄（にんじん）をスクロール変動して複数の当りラインを成立させたり、あるいは大きく表示される図柄（人形）をスクロール変動して単一の当りラインを成立させたりして大当り図柄の組合せの成立する当りラインの数が変化せしめられるように変動制御する。 - 特許庁

The second aperture 2a and the first aperture 5a are separately adjusted based on the line width data and the line width density difference data of the pattern transferred by the aligner onto a wafer 6, and this changes the optical intensity of the image plane on the wafer 6 for the adjustment of the density of the resist pattern to be transferred onto the wafer 6.例文帳に追加

この露光装置によってウェハ６上へ転写したパターンの線幅データおよび線幅疎密差データに基づいて、第２の開口２ａおよび第１の開口５ａをそれぞれ調整することにより、ウェハ６上の結像面での光強度を変化させ、ウェハ６上に転写されるレジストパターンの疎密性を調整する。 - 特許庁

When special patterns are stationarily displayed in the next-to-win display mode on a first combination effective line (step S414; Yes) in a special pattern game selectively determining a variable display pattern of the ready-to-win state F, the display of special patterns in the variable display part except for the first combination effective line are erased (step S416).例文帳に追加

リーチＦの可変表示パターンが選択決定された特図ゲームにおいて、第１の組合せ有効ライン上にリーチ表示態様で特別図柄を停止表示したときには（ステップＳ４１４；Ｙｅｓ）、第１の組合せ有効ライン以外の可変表示部における特別図柄の表示を消去する（ステップＳ４１６）。 - 特許庁

A line screen frequency is set so as to satisfy a relational expression relating to the line screen frequency between a width of a second area in a pattern corresponding to the largest gradation value in the first screen group and a width of the first area in a pattern corresponding to the smallest gradation value in the second screen group.例文帳に追加

スクリーン線数は、第１スクリーン群のうち最も高い階調値に対応するパターンにおける第２領域の幅と、第２スクリーン群のうち最も低い階調値に対応するパターンにおける第１領域の幅との間のスクリーン線数に関連する関係式を満足するように設定されている。 - 特許庁

A line 95a perpendicular to the moving direction of a carrying belt and a line 95b inclined by +45° are set as the color slurring measuring pattern for each color, and a parallelogram diamond having a side perpendicular to the carrying direction and a side inclined by +45°, which have equal length, is set as the pattern detection area 92 of the sensor.例文帳に追加

各色の色ずれ測定用パターンを、搬送ベルトの移動方向に垂直の直線９５ａと＋４５゜傾斜した直線９５ｂとし、センサーのパターン検出領域９２を、搬送方向に垂直の辺と＋４５゜傾斜した辺を有し、各辺が同じ大きさの平行四辺形の菱形とした。 - 特許庁

An MFP 1, in executing gradation processing of image data, executes gradation processing of graphic data wherein a line is positioned within a prescribed interval from a graphic by using line vicinity data 12b2 forming a dot concentration type printing pattern, and in other data, executes gradation processing by using dither data 12b1 forming a multiline pattern.例文帳に追加

ＭＦＰ１は、画像データを階調処理する場合に、図形から所定間隔以内に線が位置する図形データについては、ドット集中型の印刷パターンを形成する線近傍用データ１２ｂ２を使用して階調処理し、それ以外のデータについては、万線パターンを形成するディザデータ１２ｂ１を使用して階調処理する。 - 特許庁

The mesh structure includes a flexible dielectric layer having a first side and a second side, a screen print pattern of a first flexible conductive circuit line forming a first resistor network on the first side, and a photolithography forming pattern of a second flexible conductive circuit line forming a second resistor network on the second side.例文帳に追加

メッシュ構造は、第１の側と第２の側とを有する可撓性誘電体の層と、第１の側に第１の抵抗器網を形成する可撓性導電性の第１の回路線のスクリーン・プリント・パターンと、第２の側に第２の抵抗器網を形成する可撓性導電性の第２の回路線のフォトリソグラフィ形成パターンとを含む。 - 特許庁

When a vehicle travels while turning toward an opposite traffic lane side, an auxiliary light distribution pattern P(B) having an oblique cut-off line CLb is added to the further upper side than the oblique cut-off line CL2 of a low beam light distribution pattern P(L) by moving the movable shade to the shielding releasing position to enhance visibility of the front in the turning direction.例文帳に追加

そして、車両が対向車線側へ旋回走行する際には、可動シェードを遮蔽解除位置に移動させることにより、ロービーム配光パターンＰ（Ｌ）の斜めカットオフラインＣＬ２よりも上方側に斜めカットオフラインＣＬｂを有する補助配光パターンＰ（Ｂ）を付加し、旋回方向前方の視認性を高める。 - 特許庁

The gradation interpolation circuit receives an image signal with a border line, and reconfigures pixel values in order to express an intermediate gradation of images in regions before and after the border line by changing the gradation pattern of an image in a region surrounded by pixels in parallel with the border line and pixels perpendicular to the border line according to a prescribed numerical expression.例文帳に追加

境界線をもつ画像信号を受け、所定の数式に応じて、境界線に平行な画素と垂直な画素とにより囲まれた領域の画像を、複数のフレームにて階調パタンを変化させることで境界線の前後の領域の画像の更に中間階調を表現するべく、画素値を再構成する階調補間回路。 - 特許庁

In the contact program type mask ROM where the drain contact of a part of cell transistors in a memory cell array is connected to a bit line 1 through a repeating pattern 3 and a via plug 2, adjacent via plugs are connected to a bit-line direction wiring layer 3a in common when a plurality of via plus connected to the same bit line are continuously adjacent in the bit line direction.例文帳に追加

メモリセルアレイにおける一部のセルトランジスタのドレインコンタクトが中継用パターン部３とビアプラグ２を経てビット線１に接続されるコンタクトプログラム方式のマスクROM において、同一ビット線に接続される複数のビアプラグがビット線方向に連続して隣り合う場合に、隣り合うビアプラグがビット線方向の配線層３ａにより共通に接続されている。 - 特許庁

After detaching the support layer 2, etching treatment is performed to the metal layer 3 to form outer surface side line patterns 13a, and at the same time, side section line patterns 13c which connect inner surface side line patterns 13b and outer surface side line patterns 13a are formed to compose an inductor pattern which surrounds the ambient of the high permeability layer 14 in a multiple coiled fashion.例文帳に追加

支持体層２を剥離した後、金属層３にエッチング処理を施して外面側ラインパターン１３ａを形成すると共に、内面側ラインパターン１３ｂと外面側ラインパターン１３ａとを接続する側部ラインパターン１３ｃを形成して、高透磁率層１４の周囲をコイル状に多数巻に囲むインダクタパターンを構成する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of highly satisfying all of line edge roughness (LWR), exposure latitude (EL), PEB temperature dependency and pattern collapse, and a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ラインエッジラフネス（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）、ＰＥＢ温度依存性及びパターン倒れについて、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method, first and second active regions 53a, 53b are formed on a semiconductor substrate, and the word line pattern which intersects an upper part of the fist active region 53a and the gate pattern which intersects an upper part of the second active region 53b are formed.例文帳に追加

半導体基板に第１及び第２活性領域を形成することと、第１活性領域５３ａの上部を横切るワードラインパターン及び第２活性領域５３ｂの上部を横切るゲートパターンを形成することを含む。 - 特許庁

A plurality of convex light-condensing elements 44 is also two-dimensionally and evenly arranged on the front side of the transparent material 41, each line of the light-condensing elements 44 being given the same directivity as that of the image pattern, to form a light-condensing element pattern.例文帳に追加

透明素材４１の表面には、複数の凸レンズ状の集光素４４を各集光素４４の並びに前記画像パターンと同じ方向性を持たせて２次元的に等配列して集光素パターンが形成される。 - 特許庁

To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, an excellent pattern shape and excellent line edge roughness, and a resist film and pattern forming method using the resin composition.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Afterwards, when a specific pattern B whose cycle is two times as long as that of the special pattern A is inputted from one of the signal lines, whether or not cycle deviation arises in the information of each signal line is determined in this timing by an error check circuit 8.例文帳に追加

その後、特殊パターンＡの２倍の周期の特殊パターンＢが何れかの信号線から入力すると、このタイミングでエラーチェック回路８が各信号線の情報に周期ずれが発生しているか否かを判断する。 - 特許庁

It has also a coplanar line structure where the conductive pattern 36S and the conductive pattern 36G are parallel, and IC chips and passive components are connected with the conductive patterns 36S and 36G in an opening formed in the insulating board 37.例文帳に追加

導体パターン３６Ｓと導体パターン３６Ｇとが並行するコプレーナライン構造とし、ＩＣチップおよび受動素子は、絶縁性基板３７に形成された開口部にて導体パターン３６Ｓ、３６Ｇと接続するようにする。 - 特許庁

The magnetic thin film 10 of an MI element body is formed in an elongated zigzagging pattern like a linear line horizontally folded back a plurality of times, and an axial direction of easy magnetization is set along a longitudinal direction of the zigzagging pattern.例文帳に追加

ＭＩ素子本体の磁性薄膜１０は、直線を複数回平行に折り返した細長いつづら折り状のパターンに形成され、磁化容易軸方向がつづら折り状パターンの長手方向に沿うように設定されている。 - 特許庁

In addition, the metallic tone sheet molded article 20 includes an uneven pattern transfer region R2 with an emboss 82 formed in the slide mold 80 which is visible as transferred, and a borderline of the uneven pattern transfer region R2 coincides with the transfer clearance line K2.例文帳に追加

また、金属調シート成形品２０は、スライド型８０に形成されたシボ８２が転写された凹凸パターン転写領域Ｒ２を備え、その凹凸パターン転写領域Ｒ２の境界線が転写隙間線Ｋ２に一致している。 - 特許庁

Based on results of imaging in a specific plurality of measuring ranges being on a straight line, on an L/S pattern extracted from results P of imaging of a mark as a measuring pattern, a representative point of each measuring range is detected.例文帳に追加

計測用パターンとしてのマークの撮像結果Ｐから抽出された、Ｌ／Ｓパターン上において、直線上に並ぶ特定の複数の計測範囲内の撮像結果に基づいて、それぞれの計測範囲の代表点を検出する。 - 特許庁

To provide a mask, a manufacturing method thereof, and further, an exposure apparatus and a method using the mask wherein an exposure pattern having a small line-width is formed without increasing the aspect ratio of the opening pattern of the mask, and the mask is durable.例文帳に追加

開口パターンのアスペクト比を大きくすることなく線幅の小さい露光パターンが形成され、かつ耐久性のあるマスクおよびその製造方法、さらには、このマスクを用いた露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a resin composition having high transparency for radiation rays, excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, a pattern shape and the like, and reduced in line edge roughness of the pattern after development.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れるとともに、現像後のパターンのラインエッジラフネスを低減する。 - 特許庁

The reticle for metal patterning includes an IC pattern ensemble region and a TEG pattern region patterned next to each other, interposing a light non-transmitting solid region (region A), and has a scribe line in the region A.例文帳に追加

ＩＣパターン集合領域とTEGパターン領域が光非透過ベタ領域（領域Ａ）をはさんで並んでパターニングされている金属膜パターニング用レチクルにおいて、前記領域Ａにスクライブラインを有する金属パターニング用レチクルとした。 - 特許庁

A photo mask B has an inspection pattern 12 composed of line groups arranged with regular spacings in directions X, Y so that lines gradually shift to lie on the holes, together with a pattern concerning the semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

フォトマスクＢは半導体集積回路に関係するパターンと共に、上記各ホール上に次第にずれて乗るようにＸ方向、Ｙ方向それぞれに規則性を持つ間隔で並べられた各ライン群でなる検査パターン１２を有する。 - 特許庁

When a user puts a work on a support table and take the picture of the work by a camera, a pattern formed on the work is displayed overlapping with hole guide lines L1 and L2 and a pattern guide line L3 already displayed on the screen of a display part.例文帳に追加

ユーザがワークを支持台に載せ、そのワークをカメラで撮影すると、ワークに形成されたパターンが、表示部の画面上に既に表示されている抜き穴案内線Ｌ１，Ｌ２およびパターン案内線Ｌ３に重ねて表示される。 - 特許庁

The center peak of a diffracted beam pattern being detected is removed by a shield plate disposed in front of the line sensor or by applying an image processing thereto, thereby measuring the width to be measured of the micro tool based on the detected diffracted beam pattern.例文帳に追加

この検出される回折光パターンの中心ピークを、ラインセンサの前に設けた遮蔽板または画像処理によって取り除くことにより、検出された回折光パターンからマイクロ工具の被測定幅を測定する。 - 特許庁

To provide a resist material having high resolution and process adaptability, attaining proper pattern shape after exposure, and decreasing line edge roughness, in particular, to provide a chemical amplification positive resist material, and to provide a pattern forming method which uses the same.例文帳に追加

高解像度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has good line width roughness (LWR) performance and forms a pattern with suppressed application defects, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能が良好であり、且つ塗布欠陥が抑制されたパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method and a resist film using the same, which form a pattern satisfying high sensitivity, high resolution and favorable line width roughness at the same time.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネスを同時に満足するパターンを形成することが可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法並びにレジスト膜の提供。 - 特許庁

To provide a polyimide and a precursor thereof having both good i-line transmittance and a low thermal expansibility after imidation, to provide a photosensitive resin composition capable of forming a pattern having excellent heat resistance, and to provide a method for producing a pattern.例文帳に追加

本発明は、良好なｉ線透過性とイミド化後の低熱膨張性を両立するポリイミド及びその前駆体、優れた耐熱性のパターンを形成できる感光性樹脂組成物及びパターンの製造法を提供する。 - 特許庁

This electron beam transfer and exposure method is a method wherein the worst value of the beam edge resolution 61 of an electron optical system for projecting a pattern on a reticle on a responsive substrate is 0.9 to 1.0 times wider than the narrowest line width of an electron beam in the pattern.例文帳に追加

本発明の電子ビーム転写露光方法は、レチクル上のパターンを感応基板上に投影する電子光学系のビームエッジ分解能６１の最悪値がパターン中の最小線幅の０．９〜１．０倍である。 - 特許庁

To provide a reliable product having a superior high-frequency signal transmission characteristic by eliminating the problem that a fragment of a conductor pattern remains in a state connected to a signal line and therefore a high-frequency signal goes to a conductor pattern by a roundabout way.例文帳に追加

シグナルラインに導通パターンの切れ端が接続された状態で残存して高周波信号がその導通パターンに迂回するのを解消し、高周波信号の伝送特性に優れた信頼性の高い製品を提供すること。 - 特許庁

To provide an on-line handwritten character pattern recognizing editing device and method capable of independently performing the input of handwritten letters, pattern recognition processing, and editing operation on the result of recognition by a user at an arbitrary timing.例文帳に追加

手書き文字の入力とパターン認識処理と認識結果に対する編集操作とを各々独立させ、ユーザが任意のタイミングで行うことができるオンライン手書き文字パターン認識編集装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The fuse pattern film is provided by performing the same steps as those of forming a metal wiring, and the buffer pattern film is provided by performing the same steps as those of forming the upper electrode of the bit line and the capacitor.例文帳に追加

ここで、前記ヒューズパターン膜は金属配線を形成する工程と同一な工程の遂行によって備えられ、前記バッファーパターン膜はビットライン及びキャパシターの上部電極を形成する工程と同じ工程によって備えられる。 - 特許庁

A photosensitive film pattern 24 is formed on a semiconductor substrate 21 on which a prescribed electrically conductive layer 22 has been formed and the line width of the pattern 24 is reduced using oxygen radicals generated by the thermal decomposition reaction of gaseous ozone.例文帳に追加

所定の電導層２２が形成された半導体基板２１上に感光膜パターン２４を形成し、オゾンガスの熱分解反応により発生される酸素ラジカル成分を用いて上記感光膜パターン２４の線幅を微細化させる。 - 特許庁

The control system also can be operated so as to measure width of the liquid spray pattern and deviation of the liquid spray pattern from a nozzle center line of the liquid distribution system and when measured value is not within a tolerance range, alarm is given.例文帳に追加

制御システムは、また、液体スプレーパターンの幅と、液体分配システムのノズル中心線に対しての液体スプレーパターンの偏りとを測定すべく作動可能であり、それらの測定値が許容範囲外にあるならば、警告を与える。 - 特許庁

To provide a method for forming a lead line pattern for voltage discrimination, the pattern outputting a signal relating to the actual optimal driving voltage of each display device measured in the display device after manufactured, to an electrically connected electronic equipment main body side.例文帳に追加

作製後の表示装置で測定した各表示装置の実際の最適駆動電圧に関する信号を電気的に接続された電子機器本体側へ出力可能な電圧識別用導線パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

D_Point and E_Point become a control power supply (around 5 to 12 V) line of controls IC 1, 2, and even in the case "peeling-off" and pattern cut are caused at its part (on pattern of printed circuit board), an arc current becomes hard to occur in a circuit.例文帳に追加

Ｄ＿ＰｏｉｎｔやＥ＿Ｐｏｉｎｔは、コントロールＩＣ１，２の制御電源（５〜１２Ｖ程度）ラインになり、その部分（プリント基板のパターン上）に「はがれ」やパターン切れが発生した場合でも、回路上でアーク電流が発生しにくくなる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for a resist film, which can suppress generation of bridge defects and scum, has an excellent LWR (line width roughness) performance and allows formation of a favorable fine pattern, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ブリッジ欠陥及びスカムの発生を抑制でき、かつＬＷＲ性能に優れ、良好な微細パターンを形成することが可能なレジスト膜用の感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

In the exposure method, the pattern of a mask (M) disposed on the object surface of a projection optical system (PL) is exposed on the photosensitive substrate (W) disposed on the image surface of the projection optical system to form the pattern of a desired line width on the photosensitive substrate.例文帳に追加

投影光学系（ＰＬ）の物体面に設置されたマスク（Ｍ）のパターンを、投影光学系の像面に設置された感光性基板（Ｗ）上に露光して、感光性基板上に所望線幅のパターンを形成する露光方法。 - 特許庁

Therefore, since the vibrations of the plunger 14 do not influence via movable shades 10, 11 on a cut line CL of a light distribution pattern, especially on the light distribution pattern LP to make passing-by, the light distribution characteristics can be improved.例文帳に追加

したがって、プランジャー１４が振動して可動シェード１０、１１を介して配光パターン、特にすれ違い用の配光パターンＬＰのカットラインＣＬに影響を与えるようなことがないので、配光性能を向上させることができる。 - 特許庁

Insulating paste is applied onto the ceramic board 11 covering the lower conductor pattern 1a and then rinsed out with a solvent, until the upside of the lower conductor pattern 1a is exposed, and an inter-line insulating layer 23 is formed.例文帳に追加

下部導体パターン層１ａを覆ってセラミック基板１１の上に絶縁ペーストを付与し、該絶縁ペーストを少なくとも下部導体パターン層１ａの上面が露出するまで溶剤で洗い流し、ライン間絶縁層２３を形成する。 - 特許庁

The dielectric substrate 25 and the ground pattern 22 are juxtaposed, and a distance between the ground pattern 22 and the side edge portion is continuously increased to become saturated as a point on the side edge portion moves away from a straight line passing through a feed position of the planar element 21.例文帳に追加

アンテナ用誘電体基板２５とグランドパターン２２とは併置され、グランドパターン２２と側縁部との距離は、平面エレメント２１の給電位置を通る直線から離れるに従い、連続的且つ飽和的に増加する。 - 特許庁

To provide a highly reliable product improved in the transmission characteristics of high frequency signals by preventing a high frequency signal from being detoured to a conduction pattern by removing residue at the end of the conduction pattern on a signal line still as connected.例文帳に追加

シグナルラインに導通パターンの切れ端が接続された状態で残存して高周波信号がその導通パターンに迂回するのを解消し、高周波信号の伝送特性に優れた信頼性の高い製品を提供すること。 - 特許庁

Since the respective pattern groups are related each other and the number of the pattern groups is limited to three against 9 indication frame 200A-200I, the player easily recognizes the patterns and a secondary control for indicating a hit line, or the like, is not required.例文帳に追加

また、各図柄群を関連付け、かつ、９個の表示枠２００Ａ乃至２００Ｉに対して３種類という少ない種類としたため、遊技者に理解し易くなり、当たり列等を指標する等の二次的な制御が不要となる。 - 特許庁