「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a planar light source device capable of restraining generation of emission line, hardly generating crush of pattern on back face of a light guide plate even if a pressure is impressed.例文帳に追加

輝線の発生を抑制することができ、しかも、圧力が加わっても導光板裏面のパターンの潰れが発生しにくい面光源装置を提供する。 - 特許庁

By performing separation by using the expanded separating information plane, the contour part of the character line is prevented from being separated to the image pattern information plane.例文帳に追加

膨張分離情報プレーンを用いて分離することにより、文字線画の輪郭部が絵柄情報プレーンに分離されるのを防止することができる。 - 特許庁

A connection via 105 penetrates from the front face to the back face of the dielectric substrate 104 to connect the antenna pattern 101 to the microstrip line 118.例文帳に追加

接続ビア１０５は、誘電体基板１０４の表面から裏面までを貫通し、アンテナパターン１０１とマイクロストリップ線路１１８とを接続する。 - 特許庁

Especially, the sum total of the absolute value of the difference of the light quantity between the normalized output from the line sensor and the approximate expression of the Fresnel diffraction pattern is calculated as the correlation value.例文帳に追加

特にラインセンサの正規化出力とフレネル回折パターンの近似式との光量の差の絶対値の総和を相関値として計算する。 - 特許庁

To suppress the generation of ruggedness on a line edge of a gate electrode in the gate lengthwise direction in pattern formation by the etching of the gate electrode using a polysilicon.例文帳に追加

ポリシリコンを用いたゲート電極のエッチングによるパターン形成において、ゲート電極ゲート長方向のラインエッジにおける凹凸の発生を抑制する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having excellent resolution and edge roughness of line pattern and hardly causing developing defect in the manufacture of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において解像力、ラインパターンのエッジラフネスに優れ、現像欠陥の少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The shield pattern 170 covers the microphone signal line 140 and the microphone 150 with a minimum width to minimize an electric length in a high-frequency band.例文帳に追加

シールドパターン１７０は、高周波帯域における電気長を最小限にするように、マイク信号線１４０とマイク１５０を最小限の幅で覆う。 - 特許庁

To provide a photomask film for easily, inexpensively and safely forming a resist pattern having a thin line without inducing resolution failure in adhesion exposure.例文帳に追加

密着露光において容易で安価、かつ安全に、解像不良を発生することなく微細線のレジストパターンを形成できるフォトマスクフィルムを提供する。 - 特許庁

And the simulation test bench to be inputted in the corresponding input signal line is generated by reading the test pattern file and performing bit distribution (a step 12).例文帳に追加

そして、そのテストパターンファイルを読み込み、ビット分配して対応する入力信号線へ入力するシミュレーションテストベンチを生成する（ステップ１２）。 - 特許庁

Thus, since a contour part of the halftone dots or the line pattern corresponding to the secondary gray data becomes fine irregular points, the reduced moire is eliminated.例文帳に追加

これにより、２次グレーデータに対応する網点もしくは万線の輪郭部が微細な不規則点となるので、縮小モアレを除去することができる。 - 特許庁

The radiation pattern of the antenna becomes to possess directivity, since the electric field in the coaxial line 11 is disturbed when only one of four switches 14 is turned on.例文帳に追加

４つのスイッチ１４のうち一つだけスイッチＯＮした場合は同軸線路１１内の電界が乱され、アンテナの放射パターンは指向性を持つようになる。 - 特許庁

A film substrate 12 is partially removed by laser etching or the like by leaving a transmission line pattern 14 so that a connection exposed part 16 can be formed.例文帳に追加

伝送線路パターン１４を残してフィルム基板１２をレーザーエッチング等で部分的に除去することにより、接続露出部１６が形成される。 - 特許庁

Since the number of pixels in the one cycle is obtained from the moire pattern projected on the X-ray image, the line defect can be accurately corrected.例文帳に追加

Ｘ線画像に写りこんだモアレパターンから、その１周期における画素数を求めているので、正確にライン欠損を補正することができる。 - 特許庁

A geometrical pattern, consisting of a straight line, a curve, a curl, a circle and others, express a variety of simple to complicated patterns and has been often used for kyo karakami. 例文帳に追加

幾何紋様は直線、曲線、渦線、円などで構成され、単純な紋から複雑な紋まで多彩で、京唐紙にも多く用いられている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A pattern that is named after it resembles a hemp leaf, placing six regular triangles within a regular hexagon, and connecting the center of each triangle to each of its three apexes in line. 例文帳に追加

麻の葉に似ることに由来し、正六角形の中に正三角形を六つ並べ、正三角形の中心と三つの頂点を結んだ文様 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To reduce constriction while suppressing corner rounding of a pattern having a line width wider than before by an easy method.例文帳に追加

マスクパターンの補正方法に関し、従来よりも広範な線幅のパターンにおけるコーナーラウンディングを簡単な手法により抑制するとともに、括れを低減する。 - 特許庁

Thus, from which unit and which part of a communication line a fault takes place can be recognized at a glance on the basis of the display pattern of the correlation map.例文帳に追加

これにより、相関マップの表示パターンからどのユニットや通信線のどの部分に故障が発生したかを一見して認識できるようにした。 - 特許庁

A plurality of light emitting elements 74 and 75 for forming the pattern for detecting the inclination of the line head are provided at both the main-scanning-direction ends of the glass substrate 62.例文帳に追加

ガラス基板６２の主走査方向両端には、ラインヘッドの傾き検出用パターンを形成する複数の発光素子７４、７５を設けている。 - 特許庁

To provide a substrate processing device which is capable of controlling the line width of a resist pattern and the thickness of a resist film with high accuracy, taking an environment around a substrate into consideration.例文帳に追加

基板周囲の環境を考慮した、より精密な線幅制御及びレジスト膜厚制御を行うことができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To manufacture an embossed sheet which has a regular fine embossed pattern formed on its surface, free from a flaw and having high quality at a high line speed with favorable productivity.例文帳に追加

表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus capable of generating a highly-compressed image file in which color irregularity or blur is not generated in a boundary part between a line drawing and a pattern.例文帳に追加

線画と絵柄の境界部に色ムラやボケが発生することの無い高圧縮画像ファイルを生成可能な画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device which effectively prevents characteristic deterioration due to a pattern shift in gate formation while suppressing increase in cell area, and reduces resistance in a power voltage supply line.例文帳に追加

セル面積増大を抑制しつつゲート形成時のパターンずれによる特性低化を有効に防止し、さらに電源電圧供給線を低抵抗化する。 - 特許庁

The second stage of the still variation is indicated in (c) and the pattern 'shell' in the display area 3b2 of the middle line at the center is enlarged following the state in (b).例文帳に追加

（ｃ）は静止変動の第２段階を図示しており、（ｂ）の状態に引き続いて、中央中段の表示領域３ｂ２の図柄「貝」が拡大されている。 - 特許庁

To improve uniformity of line width in a substrate by supplying a developer, having an appropriate concentration that is suited to the characteristics of a photo resist film and the kind of baking pattern.例文帳に追加

フォトレジスト膜の特性や焼き付けパターンの種類などに応じた適正濃度の現像液を供給して基板内の線幅の均一性を向上する。 - 特許庁

To provide a resin for a photoresist composition good in resolution and characteristics of line edge roughness, a photoresist composition using the resin and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

解像性、ラインエッジラフネス特性が良好なホトレジスト組成物用樹脂、およびこれを用いたホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

As the specific call signal pattern, after a call tone rings once the line is immediately interrupted and after the lapse of a prescribed time (e.g. 10 sec), the call is made again.例文帳に追加

特殊な呼出信号パターンとしては、１度呼び出し音を鳴らした後すぐに回線を切断し、所定の時間（例えば、１０秒）経過後、再度呼び出す。 - 特許庁

Then the representative lamps 4, 6, upon reception of the selecting signal from the remote control 30, control the light source depending on the control pattern corresponding to the selecting signal, and transmit the received selecting signal to each calling lamp 8 via the communication line 24.例文帳に追加

代表ランプ４，６は、リモコン３０からの選択信号を受信したときに、選択信号に応じた制御パターンにより光源を制御する。 - 特許庁

The control means may be configured to determine whether the pattern rises or falls from the line profile generated based upon the difference between the signal detected by the first electron detection means and the signal detected by the second electron detection means, and to measure a line width of a line.例文帳に追加

制御手段は、第１の電子検出手段で検出された信号と第２の電子検出手段で検出された信号との差分を基に作成されたラインプロファイルによりパターンの立下り又は立上りを判定し、ラインの線幅を測定するようにしてもよい。 - 特許庁

A curved line vector data substitution part 71 of the division drawing part 7 preferably replaces a curved line vector data existing outside the partial drawing area with a straight line vector data, out of the vector data constituting a pattern serving as an object of division drawing in every partial drawing area, and carries out paint-out processing.例文帳に追加

好ましくは、分割描画部７の曲線ベクターデータ置換部７１は、部分描画領域ごとに分割描画の対象となる図形を構成するベクターデータのうち、その部分描画領域の外にある曲線ベクターデータを直線ベクターデータに置き換えて、塗りつぶし処理を行う。 - 特許庁

A transistor junction region and a metal line are connected using a metal plug instead of a bit line in a core/peripheral circuit region such that a bit line formed in the core/peripheral circuit region has a uniform pattern like a cell area.例文帳に追加

本発明は、コア/周辺回路領域でトランジスタの接合領域とメタルラインを、ビットラインを利用して連結せずメタルプラグを利用して連結することにより、コア/周辺回路領域に形成されるビットライン等もセル領域と同様に均一な形態のパターンを有することができるようにする。 - 特許庁

To provide a recording apparatus which can prevent a cut line from being cut in the middle while maintaining a sufficient picture quality and a sufficient printing speed in a pattern printing such as the cut line or a cut reference line of the recording apparatus, and also, can delay the shortage of the residual amount of an ink having a small residual amount.例文帳に追加

記録装置のカットラインやカット基準ライン等のパターン印字において、十分な画質と印刷速度とを維持しながら、カットラインの途切れを阻止することができ、また、残量の少ないインクの残量不足を遅らせることができる記録装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the foldable ruled line 2 annexed to a plastic sheet 1 in its folding part, a plurality of shallow groove parts 3 are provided over the whole length of a bottom face part 2b of the foldable ruled line 2 and are arranged in a substantially rope pattern while inclining at a predetermined angle in the direction g of the provision of the ruled line.例文帳に追加

プラスチックシート１の折り曲げ部分に付設される折り曲げ罫線２を、その折り曲げ罫線２の底面部２ｂ全長に対して浅い溝部３を複数形成すると共に、罫線付設方向ｇに対して所定角度に傾斜して略縄模様状に配列する。 - 特許庁

To clearly form a cut-off line and secure the sufficient amount of light in the vicinity of the cut-off line for enhancing the distant visibility, in a vehicle headlight that carries out low-beam irradiation in a light-distribution pattern having a prescribed cut-off line, even if the right-to-left width of its reflector is small.例文帳に追加

所定のカットオフラインを有する配光パターンでロービーム照射を行う車両用前照灯において、たとえそのリフレクタの左右幅が小さい場合であってもカットオフラインを明瞭に形成するとともにカットオフライン近傍部分の光量を十分に確保して遠方視認性を高める。 - 特許庁

Since the number of the black data between the two lines is compared and judging is executed when the number of the black data is varied between the two lines, a line without printing is never recognized erroneously to be a printed line in line judgment even when a pattern 51 remains as the black data.例文帳に追加

２行間の黒データ数が比較され、２行間において黒データ数が大きく変化している場合に行判定が行われるので、地紋５１が黒データとして残っても、行判定において印字されていない行を印字済行であると誤認識することがない。 - 特許庁

The length La of parts of the line patterns 121 in contact with the surface of the current collector layer 11 in a longer direction Y of the line pattern 121 is not less than four times as large as the width Da of parts of the line patterns 121 in contact with the surface of the current collector layer 11 in a direction X of the width.例文帳に追加

しかも、ライン状パターン１２１の長手方向Ｙにおいて集電体層１１表面と接するライン状パターン１２１の長さ寸法Ｌaが、幅方向Ｘにおいて集電体層１１表面と接するライン状パターン１２１の幅寸法Ｄaの４倍以上となっている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transparent conductive film with improved yields without losing appearance quality by accurately forming a fine line having a line width of 50 μm or smaller without any defects, such as variations in line width and disconnection, when printing a shield pattern by a screen print method.例文帳に追加

スクリーン印刷法によりシールドパターンを印刷する際に、線幅５０μｍ以下の微細なラインを正確に、線幅のばらつきや断線といった欠陥なく形成し、外観品質を損なうことなく、且つ歩留まりよく透明導電性フィルムを製造する方法を提供する。 - 特許庁

A pattern P1 obtained by arranging a plurality of single-color marks 50 comprising a pair of parallel line segments (L1 and L3 or the like) and a skew line segment (L2 or the like) located between both parallel line segments in the sub scanning direction so that the colors of the adjacent marks 50 may differ is formed on a belt.例文帳に追加

ベルト上に、一対の平行線分（Ｌ１，Ｌ３等）と両平行線分間に位置する斜行線分（Ｌ２等）とからなる単一色のマーク５０を、隣り合うマーク５０同士の色が異なるように、副走査方向に複数並べたパターンＰ１を形成する。 - 特許庁

The array substrate for the lateral type liquid crystal display device is manufactured through four-mask steps: in a structure wherein a semiconductor layer is exposed at both sides of a data line, a first blocking pattern which blocks light is formed under the semiconductor layer, and second blocking pattern which blocks influence of the semiconductor layer is formed over the data line, while being brought into contact with the data line.例文帳に追加

横電界方式の液晶表示装置用アレイ基板は、４マスク工程によって製作されデータ配線の両側に半導体層が露出する構造において、半導体層の下部に光を遮断する第１遮断パターンを構成して、データ配線の上部に、これと接触しながら半導体層による影響を遮断する第２遮断パターンを構成する。 - 特許庁

In the application process of a finger line, supply of paste from a second nozzle 57 is once stopped and, thereafter, is started again (step S54, step S56) on the basis of image data of the bus line pattern 71 obtained by an imaging process (step S52) for imaging the bus line pattern 71 formed on the substrate relatively moved with a CCD camera 11 fixed and arranged with respect to the nozzle.例文帳に追加

フィンガー配線の塗布工程において、ノズルに対して固定配置されたＣＣＤカメラ１１により、相対移動する基板に形成されたバス配線パターン７１を撮像する撮像工程（ステップＳ５２）により得られたバス配線パターン７１の画像データに基づき、第２ノズル５７からのペーストの供給を一旦、停止した後、ペーストの供給を再び開始する（ステップＳ５４，ステップＳ５６）。 - 特許庁

An extraction pattern 10 is arranged inside or outside a cutting dotted line 4 and connected with an inspection electrode 9 after proceeding in almost parallel or diagonally opposed state against this cutting dotted line 4, then an inspection is carried out by connecting an inspection terminal with the inspection electrode 9 and the pattern 10 is cut by the cutting dotted line 4 after the inspection.例文帳に追加

この目的を達成するために本発明は、引き出しパターン１０を切断予定ライン４の内側又は外側において、この切断予定ライン４とほぼ平行又は、斜めに対向した状態で進行した後に検査電極９と接続し、検査電極９に検査端子を当接させて検査を行い、その後切断予定ライン４で切断するものである。 - 特許庁

A method of isolating structures of a semiconductor material comprises a step of providing a pattern of the semiconductor material including at least one elevated line; a step of defining device regions which at least include at least one elevated line in the pattern; and a step of modifying the conductive properties of the semiconductor material outside the device regions so as to electrically isolate the device regions.例文帳に追加

半導体材料の構造分離方法は、少なくとも一つの高架線（elevated line）を含む半導体材料のパターンを設けるステップと、前記パターン内に前記少なくとも一つの高架線を少なくとも含むデバイス領域を画成するステップと、前記デバイス領域の外側の前記半導体材料の導電性を変化させ、前記デバイス領域を電気的に分離するステップとを含む。 - 特許庁

The key input device comprises: a plurality of key tops 200 for operating key switches; backlights 530 for illuminating the key tops from the back; and a substrate 500 on which a signal line pattern for forming contacts to be opened/closed in response to vertical movement of the key tops and a power line pattern for supplying power to the backlights are printed.例文帳に追加

キー入力装置は、キースイッチを操作するための複数のキートップ２００と、上記キートップを裏から照射するバックライト５３０と、上記キートップの上下動に応じて開閉する接点を形成する信号線パターン、および上記バックライトに電力を供給する電力線パターンが印刷された基板５００と、を有する。 - 特許庁

In the main control board, the whole space excluding the space for arraying electronic components is made to be a solid ground pattern, while an isolation line ISO for separating the solid ground pattern inside and outside of a circuit board is provided excepting a current exit part EXT adjacent to the power supply connector CN2, and all connectors are arranged outside the isolation line.例文帳に追加

主制御基板は、電子部品の配置スペースを除く全てのスペースがベタアースとされる一方、電源コネクタＣＮ２に隣接する電流出口部ＥＸＴを除いて、ベアアースを回路基板の内外に分離する隔離ラインＩＳＯが設けられ、全てのコネクタが隔離ラインの外側に配置される。 - 特許庁

A first processing condition of first processing processes S22-S25 is corrected based on a measurement value of the line width of the second resist pattern formed on one substrate, and a second processing condition of second processing processes S26-S29 is corrected based on a measurement value of the line width of the first resist pattern formed on one substrate.例文帳に追加

一の基板に形成された第２のレジストパターンの線幅の測定値に基づいて、第１の処理工程Ｓ２２〜Ｓ２５の第１の処理条件を補正し、一の基板に形成された第１のレジストパターンの線幅の測定値に基づいて、第２の処理工程Ｓ２６〜Ｓ２９の第２の処理条件を補正する。 - 特許庁

Then, the prescribed pattern of a right rotary reel is positioned on the winning line 3La, then the slide performance in which the number of the slide frames is six is performed (d), and the prescribed pattern is stopped on the winning line 3La after a prescribed time, 1642.5 [msec] for instance, from the start of the slide performance (e).例文帳に追加

次いで、右回転リールの所定の図柄が入賞ライン３Ｌａ上に位置した後、スベリコマ数が６コマのスベリ演出が行われ（図２０（ｄ）参照）、スベリ演出の開始から所定時間例えば１６４２．５〔ｍｓｅｃ〕後に所定図柄が入賞ライン３Ｌａ上に停止する（図２０（ｅ）参照）。 - 特許庁