「nm」に関連した英語例文の一覧と使い方(256ページ目) - Weblio英語例文検索

The CMP polishing solution contains composite particles having second inorganic abrasive grains deposited at least partially on surfaces of first inorganic abrasive grains, wherein an average secondary particle size of the composite particles is 20 to 800 nm and a mass ratio of the first inorganic abrasive grains to the second inorganic abrasive grains is 1/10 to 10/1.例文帳に追加

第１の無機砥粒の表面の少なくとも一部に第２の無機砥粒が付着した複合粒子を含有してなるＣＭＰ研磨液であって、複合粒子の平均二次粒子径は２０〜８００ｎｍであり、第１の無機砥粒の第２の無機砥粒に対する質量比が１／１０〜１０／１であるＣＭＰ研磨液。 - 特許庁

The phosphor has a plurality of wavelength conversion elements containing an yellow phosphor and a band interruption filter, the emitted light from the LED elements becomes white light based on blue light and yellow light, and the spectrum of the emitted light is formed so as to cause its light-emitting intensity at a wavelength band of 480-520 nm to substantially become zero.例文帳に追加

蛍光体は、黄色蛍光体を含む複数の波長変換素子と帯域阻止フィルタとを有し、その出射光が青色光と黄色光による白色光を成す共に、その分光スペクトルが４８０〜５２０ｎｍの波長帯で発光強度が実質的にゼロとなるように形成される。 - 特許庁

The process of injection molding, extrusion molding or stretching is applied to a resin composition containing a double refractive crystal which has the major diameter smaller than the wavelength of light used in the optical element and larger than 10 nm and has the aspect ratio of the major diameter to the minor diameter vertical thereto of ≥1:1.1 and optical resin .例文帳に追加

射出成形、押出成形あるいは延伸の工程が、光学素子に使用する光の波長よりも小さく１０ｎｍよりも大きな長径を有し、同長径とそれに垂直な短径のアスペクト比が１：１．１以上である複屈折性結晶と、光学樹脂とを含む樹脂組成物に対して適用される。 - 特許庁

To provide a crystallizable polymer microporous membrane that has a minute pore diameter, can efficiently catch fine particles of tens of nm size and has a high flux, to provide a method for manufacturing the crystallizable polymer microporous membrane that can consistently withstand stretching at a high magnification and to provide a filtration filter that has high resistance to pleat collapse.例文帳に追加

微小な孔径を有し、数十ｎｍサイズの微粒子を効率良く捕捉することができ、高流量である結晶性ポリマー微孔性膜、及び高倍率での延伸にも安定して耐え得る結晶性ポリマー微孔性膜の製造方法、並びにプリーツ耐性の高い濾過用フィルタの提供。 - 特許庁

The catalyst for producing dimethyl ether comprises primarily alumina, has Si content of 0.1 mass% to 10 mass% and Na content of 0.1 mass% or less, respectively expressed in terms of oxide, and has cumulative volume (V_100) of micro pore having radius 100 nm to 100 μm of 0.05 cm^3/g or more.例文帳に追加

本発明の触媒は、主成分がアルミナであり、酸化物換算で、Ｓｉ含有量が０．１質量％〜１０質量％、Ｎａ含有量が０．１質量％以下であり、半径１００ｎｍ〜１００μｍの細孔の累積容積(Ｖ_100)が０．０５ｃｍ^3／ｇ以上であることを特徴とする。 - 特許庁

In the formula, the reflection factor (%) is a reflection factor at the wavelength of 550 nm, the solid content ratio is represented by formula; solid content ratio (%)=100-porosity (%), and porosity (%)=(ρ0-ρ)/ρ0×100, (ρ0: theoretical density from the total of the polyolefine and the inactive fine particles, ρ: apparent density of the porous membrane).例文帳に追加

Ｒ＝反射率／固形分率（１）（ここで、反射率（％）は波長５５０ｎｍにおける反射率であり、固形分率（％）＝１００−空孔率（％）であり、空孔率（％）＝（ρ０−ρ）／ρ０×１００ρ０：前記ポリオレフィンと前記不活性微粒子との合計量より求められる多孔膜の理論密度ρ：見掛けの多孔膜の密度） - 特許庁

A metal is patterned on a substrate and vapor-deposited to form a gate electrode 12, and then the gate electrode 12 is directly oxidized at a normal temperature to 100°C in O_2 plasma process to grow a metal oxide film having a thickness of 10 nm or less, thereby the gate insulating film 13 is formed along the surface of the gate electrode.例文帳に追加

基板上に金属をパターニングし、蒸着してゲート電極１２を形成した後、常温乃至100℃以下でO_2プラズマ工程によりゲート電極１２を直接酸化して10nm以下の厚みで金属酸化膜を成長させることで、ゲート電極の表面に沿ってゲート絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁

The biaxially oriented polyester film has a sea-island structure composed of at least a polyethylene naphthalate (resin A) and a resin B, wherein the average dispersion diameter of the island portion is 30 to 500 nm, and the thermal expansion coefficient (50 to 150°C) at least in one direction of the longitudinal direction and the width direction of the film is 0 to 20 ppm/°C.例文帳に追加

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、少なくともポリエチレンナフタレート（樹脂Ａ）と樹脂Ｂからなる海島構造を有し、島部分の平均分散径が３０〜５００ｎｍであり、フィルムの長手方向または幅方向の少なくとも一方向の熱膨張係数（５０〜１５０℃）が０〜２0ｐｐｍ／℃のフィルムである。 - 特許庁

When the aqueous solution or thin solution film of a water-soluble DNA (for example, a DNA originating from the spermary of salmon) on a support or the thin film of a water-soluble DNA on a support is irradiated with ultraviolet light having wavelengths in the range of 250 to 270 nm, the DNA is changed into the water-insoluble cross-linked product immobilized on the support.例文帳に追加

支持体上の水溶性ＤＮＡ（例えば、サケの精巣由来のＤＮＡ）の水溶液もしくはその液膜、又は支持体上の水溶性ＤＮＡの薄膜液波長が２５０〜２７０ｎｍの範囲の紫外線を照射すると、該ＤＮＡは支持体上に固定された水に不溶性の架橋体に変化する。 - 特許庁

To provide a high-quality optical recording medium which realizes recording without any noise increases when information is recorded, and stable reproduction, as an optical recording medium on which information is recorded/reproduced by making incident the semiconductor laser light of a waveform 380 to 430 nm from a thin light transmissive layer side.例文帳に追加

波長３８０〜４３０ｎｍの半導体レーザ光を薄い光透過層側から入射して情報の記録再生を行う光記録媒体において、情報を記録する際にノイズが上昇することなく記録することができ、かつ安定に再生できる高品質な光記録媒体を提供する。 - 特許庁

The gas barrier film comprises the base material film having a smooth surface including a mean surface roughness SRa measured in an area of 200 μm×200 μm or more of 20 nm or less on one or both side surfaces, and a gas barrier layer made of an inorganic compound formed on the smooth surface of the base material film.例文帳に追加

２００μｍ×２００μｍ以上の面積について測定された平均面粗さSRａが２０ｎｍ以下である平滑表面を片面または両面に有する基材フィルムと、該基材フィルムの平滑表面に形成された無機化合物からなるガスバリアー層とからなることを特徴とするガスバリアーフィルム。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition using a new photoinitiation system, having high sensitivity to a wavelength of 350-450 nm and excellent in storage stability, and a lithographic printing original plate for a CTP system obtained by disposing such a photosensitive composition on a support and excellent in work efficiency, economical efficiency, and storage stability.例文帳に追加

３５０〜４５０ｎｍの波長に対し高感度で保存安定性に優れた新規な光開始系を用いた感光性組成物、およびこのような感光性組成物を支持体上に設けた、作業性、経済性、保存安定性に優れたＣＴＰシステム用の平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁

A semiconductor film as a thin-film having a film thickness of ≤500 nm formed on a substrate functioning as a supporter is crystallized by a laser beam in continuous oscillation, and the chip with a semiconductor element as the thin-film of the total film thickness of 5μm, more desirably ≤2μm is formed by using the crystallized semiconductor film.例文帳に追加

本発明では、支持体として機能する基板上に成膜した膜厚５００ｎｍ以下の薄膜の半導体膜を、連続発振のレーザ光で結晶化し、その結晶化された半導体膜を用いて、トータルの膜厚５μｍ、より望ましくは２μm以下の薄膜の半導体素子を有するチップを形成する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the low reflective substrate, by specifying film-forming rate of the silicon dioxide film to 20 to 100 nm/h in the process of forming a silicon dioxide film by the method of supersaturation precipitation, so as to control the fluorine content in the silicon dioxide film and to form an antireflection film having ≤1.435 of refractive index.例文帳に追加

過飽和析出法による二酸化珪素被膜の形成に当たり、二酸化珪素被膜の成膜速度を２０〜１００ｎｍ／時とすることにより該二酸化珪素被膜中の弗素含有量を調整し、屈折率１．４３５以下の反射防止層を形成する低反射基板の製造方法。 - 特許庁

At the time of manufacturing the solid-state image pickup element by successively laminating at least a photoreceptor element 11, flattening layer 13, primary color-based color filter, transparent resin layer 18, and microlens 19 upon a semiconductor substrate 10; a layer having a transmittance of ≤40% to light having a wavelength of 365 nm is used as the flattening layer 13.例文帳に追加

半導体基板１０上に、少なくとも受光素子１１、平坦化層１３、原色系カラーフィルタ、透明樹脂層１８、マイクロレンズ１９を順次に積層して固体撮像素子を製造する際に、平坦化層として、光の波長３６５ｎｍでの透過率が４０％以下の平坦化層を用いること。 - 特許庁

Titanium oxide sol containing a transition metal compound is manufactured, wherein the content of a precipitated component is <10 mass% of the total solid content of the sol, transmittance at a wavelength of 550 nm, as measured by use of a cell having an optical path length of 2 mm is ≥50% when the solvent is water and a solid content is 1 mass%.例文帳に追加

沈降成分量が全固形分量の１０質量％未満であり、水を溶媒として固形分濃度を１質量％としたときに、光路長２ｍｍのセルで測定された波長５５０ｎｍにおける透過率が５０％以上となる、遷移金属化合物を含む酸化チタンゾルを製造する。 - 特許庁

The coating film 20 and the hole injection layer 4 are tungsten oxide layers having a thickness of 2 nm or more deposited under certain deposition conditions and, in the electron state thereof, an occupied level is made to exist in a range of bond energy which is 1.8-3.6 eV lower than the lowest bond energy in the valence band.例文帳に追加

被覆膜２０及びホール注入層４は所定の成膜条件で成膜した膜厚２ｎｍ以上の酸化タングステン層とし、かつ、その電子状態において、価電子帯で最も低い結合エネルギーよりも１．８〜３．６ｅＶ低い結合エネルギーの範囲内に占有準位を存在させる。 - 特許庁

The residual agricultural chemical detection method of irradiating an agricultural product by light, and detecting a residual agricultural chemical by light irradiation has characteristics wherein the wavelength of the light is 240-400 nm, and the agricultural product is not broken.例文帳に追加

光を農産物に照射し、光の照射を受けて農薬が残留していることを検出する残留農薬検出方法であって、前記光の波長が２４０〜４００ｎｍであることを特徴とする残留農薬検出方法であって、農産物を破壊しないことを特徴とする残留農薬検出方法。 - 特許庁

The metal oxide fine particle dispersion material is prepared by dispersing at least metal oxide fine particles and a strong acid in an aqueous solution containing an alcohol, wherein the metal oxide fine particle dispersion material shows the transmittance for rays at a wavelength of 800 nm of not less than 90% or more.例文帳に追加

少なくとも金属酸化物微粒子と、強酸とを、アルコールを含む水溶液中で分散させてなる金属酸化物微粒子分散物であって、前記金属酸化物微粒子分散物における波長８００ｎｍでの光線透過率が９０％以上である金属酸化物微粒子分散物である。 - 特許庁

The molding for optical system made of a resin composition which comprises a compound having at least one epoxy group and/or glycidyl group has surface roughness of 50 nm or less and has linear expansion coefficient of 40 ppm or less in a temperature region of the glass transition temperature.例文帳に追加

エポキシ基及び／又はグリシジル基を少なくとも１つ以上有する化合物を含有してなる樹脂組成物から形成された光学系用成形体であって、該光学系用成形体は、表面粗度が５０ｎｍ以下でかつガラス転移温度以下の温度領域での線膨張係数が４０ｐｐｍ以下である光学系用成形体。 - 特許庁

The phosphor for the light emitting device is a blue phosphor which essentially comprises a Ce- and Na-activated thiogallate phosphor substantially represented by the formula: BaGa_2S_4:Ce, Na and emits a blue light when excited by an ultraviolet radiation (particularly a near-ultraviolet ray at a wavelength of 370-410 nm).例文帳に追加

本発明の発光装置用蛍光体は、化学式：ＢａＧａ_２Ｓ_４：Ｃｅ，Ｎａで実質的に表されるＣｅおよびＮａで付活されたチオガレート蛍光体を主体とし、紫外線（特に波長３７０〜４１０ｎｍの近紫外線）の放射により励起されて青色光を発光する青色蛍光体である。 - 特許庁

The method for manufacturing the heat insulating material includes: a curing step where a dry press molded body that includes fine metal oxide particles having an average particle diameter of ≤50 nm and reinforcing fibers is cured in a steam saturated atmosphere under pressure at a temperature of ≥100°C; and a drying step where the cured dry press molded body is dried.例文帳に追加

本発明に係る断熱材の製造方法は、平均粒径５０ｎｍ以下の金属酸化物微粒子と補強繊維とを含む乾式加圧成形体を、温度１００℃以上の加圧された水蒸気飽和雰囲気で養生する養生工程と、養生された前記乾式加圧成形体を乾燥する乾燥工程と、を含む。 - 特許庁

A crystallite size and nonuniform strain of a target material are measured by an X-ray diffraction and, under at least one of conditions that the crystallite size is 30 nm or less and the nonuniform strain is 0.25% or more, a prediction of the formation of rolling fatigue crack of the target material is determined.例文帳に追加

対象材に対してＸ線回折により結晶子サイズおよび不均一ひずみを測定し、結晶子サイズが３０ｎｍ以下であるとの条件及び不均一ひずみが０．２５％以上であるとの条件の少なくとも一方の条件で対象材に対して転がり疲労き裂の発生予測を決定する。 - 特許庁

The light diffusive resin composition comprises dispersing porous silica particulates of 1 to 30 μm in the average particle diameter of 500 to 800 m^2/g in specific surface area, and 3 nm in the pore diameter, at a ratio of 0.1 to 20 pts.mass with respect to 100 parts by mass of a translucent resin.例文帳に追加

平均粒子径が１μｍ以上、３０μｍ以下であり、比表面積が５００ｍ^2／ｇ以上、８００ｍ^2／ｇ以下であり、且つ、細孔径が３ｎｍ以下である多孔性シリカ微粒子を、透光性樹脂１００質量部に対し、０．１質量部以上、２０質量部以下の割合で分散してなる。 - 特許庁

Highly graphitized carbon powder for a lithium secondary battery negative electrode is obtained by mixing a boron compound to carbon powder and conducting graphitization treatment, has a content of boron as boron nitride(BN) of 0.01-0.5 at.%, and a spacing of (002) planes (d002) as determined by X-ray diffraction of 0.3359 nm or less.例文帳に追加

ホウ素化合物を混合して黒鉛化処理して得た炭素粉末において、窒化ホウ素（ＢＮ）として存在するホウ素の含有量が０．０１〜０．５ａｔ％であり、Ｘ線回折で求めた００２面の面間隔ｄ_002 が０．３３５９ｎｍ以下であるリチウム二次電池負極用高黒鉛化炭素粉末である。 - 特許庁

The manicure preparation comprises a film-forming material and an organic solvent and contains a liquid crystal fixing pigment prepared by fixing a liquid crystalline high molecular compound in a film-like form and crushing the same into powder and fine particle silica having ≤20 nm particle size and ≥200 m^2/g specific surface area.例文帳に追加

被膜形成剤および有機溶剤を含有する美爪料において、液晶高分子をフィルム状に固定化してから粉砕することにより得られる液晶固定化顔料と、粒径２０ｎｍ以下、比表面積２００ｍ^2／ｇ以上の微粒子シリカを含有することを特徴とする美爪料。 - 特許庁

The carbon monoxide selective oxidation catalyst is such that selectively oxidizes carbon monoxide in the reformed gas with oxygen gas, wherein a catalyst active component 12 is supported in micropores of porous carrier such as zeolite, and surfaces of zeolite and the like that are the porous carriers are covered with a water repellent agent 10 of colloidal silica and the like with particle sizes of a scope of 3 to 20 nm.例文帳に追加

改質ガス中の一酸化炭素を酸素ガスによって選択的に酸化する一酸化炭素選択触媒であって、触媒活性成分12をゼオライト等の多孔質担体の細孔に担持し、多孔質担体であるゼオライト等の表面を粒径が3nmから20nmの範囲にあるコロイダルシリカ等の撥水材10で覆う。 - 特許庁

There are provided: a polymerizable composition for a light reflection plate formed by containing a cycloolefin monomer, metathesis polymerization catalyst, an inorganic filler, and a white coating; and a light reflection plate formed by mass polymerizing the polymerizable composition for a light reflection plate and having light reflectance of 80% or higher in a wavelength of 450 nm.例文帳に追加

シクロオレフィンモノマー、メタセシス重合触媒、無機充填剤、及び白色顔料を含有してなる光反射板用重合性組成物、及び該光反射板用重合性組成物を塊状重合してなり、波長４５０ｎｍにおける光反射率が８０％以上である光反射板を提供する。 - 特許庁

In oxidation treatment of graphite, the separation of layers is promoted and the decomposition of the inside of each layer is simultaneously prevented, so that the thin film particles of graphite oxide with independent shape having a thickness of 0.4 nm to 10 μm, and a size in a plane direction of ≥500 μm, and having lyophilic properties to liquid having a relative dielectric constant of ≥15 are obtained.例文帳に追加

黒鉛の酸化処理において、層の分離を促進し、同時に各層内部の分解を防止することで、厚さが０．４ｎｍ〜１０μｍ、平面方向の広がりが５００μｍ以上であり、比誘電率が１５以上の液体に親液性のある、独立形状を持つ酸化黒鉛の薄膜状粒子を得る。 - 特許庁

A grating 3 is disposed at an angle different from that of a glass substrate 4 in order that an image sensor 8 may not receive reflected light by the grating 3, and only the light of the wavelength around 313 nm is introduced to the image sensor 8 by means of a band-pass filter 6 in order not to be influenced by the reflected light from the backside of the glass substrate 4.例文帳に追加

格子３からの反射光がイメージセンサ８に入らないように、格子３は、ガラス基板４とは異なる角度に配置し、また、バンドパスフィルタ６によって、波長が３１３ｎｍ付近の光だけをイメージセンサ８に導くようにして、ガラス基板４の裏面からの反射光の影響を受けないようにしておく。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition of this invention contains (A) a compound of 0.1-20 pts.wt. of a specific anthracene structure, (B) a compound of 0.1-20 pts.wt. which generates acid by radiation, and (C) resin of 100 pts.wt., and has its sensitivity in the radiation of a wavelength of 300-450 nm.例文帳に追加

本発明に係る感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）特定のアントラセン構造を有する化合物０．１〜２０重量部、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物０．１〜２０重量部、および（Ｃ）樹脂１００重量部を含有し、波長３００〜４５０ｎｍの放射線に感度を有することを特徴とする。 - 特許庁

The metal oxide structure is characterized in that it is composed of a substrate and rod-like crystals which are erected on the substrate via seed crystals, in that the seed crystals are comprised of a first metal oxide, in that the rod-like crystals are comprised of a second metal oxide, and in that the average short diameter of the rod-like crystals is 50 nm or smaller.例文帳に追加

基板と、該基板上に種晶を介して棒状結晶が立設してなり、前記種晶が第１の金属酸化物からなり、前記棒状結晶が第２の金属酸化物からなり、該棒状結晶の平均短径が５０ｎｍ以下であることを特徴とする金属酸化物構造体である。 - 特許庁

The cerium oxide abrasive agent for polishing a semiconductor substrate or the SiO_2 insulation film, comprising cerium oxide particles containing 3 to 40 vol.% of particles having 500 nm or larger in diameter, water and a dispersant, and a method of polishing the semiconductor substrate or the SiO_2 insulation film with these agents are provided.例文帳に追加

５００ｎｍ以上の粒子径の含有量が３〜４０体積％の酸化セリウム粒子、水、及び分散剤を含む半導体基板研磨用またはＳｉＯ_２絶縁膜研磨用酸化セリウム研磨剤、およびこれらの酸化セリウム研磨剤を用いて半導体基板研磨用やＳｉＯ_２絶縁膜を研磨する研磨法。 - 特許庁

This onion extract is such that the total peak area of furfuryl alcohol, 5-methylfurfural, acetylfuran, and furfural in a gas chromatograph is twice or above of the peak area of decane when admixing 1 ppm decane with the onion extract, and an absorbance in 450 nm when diluting to 100 times is not more than 1.5.例文帳に追加

ガスクロマトグラフにおけるフルフリルアルコール、５−メチルフルフラール、アセチルフラン、フルフラールのピーク面積の合計が、タマネギエキス中にデカンを１ｐｐｍ添加混合した時のデカンのピーク面積の２倍以上で、かつ１００倍希釈したときの４５０ｎｍにおける吸光度が１．５以下であるタマネギエキスにより、上記課題が解決される。 - 特許庁

This method for preparing the catalyst uses a powdery silica of an average primary particle diameter of 50 nm or less as at least a part of silica raw materials.例文帳に追加

Ｍｏ、Ｖ、Ｓｂ、Ｎｂを構成成分とするシリカ担持触媒であって、２０〜６０重量％のシリカに担持されていること、および細孔容積が０．１５ｃｍ^3／ｇ以上であることを満足する触媒、および平均１次粒子径が５０ｎｍ以下の粉体シリカをシリカ原料の少なくとも一部として用いる製造方法。 - 特許庁

The micro-carbon fiber is composed of plural nested cylindrical graphenes and having a diameter of <100 nm, wherein the cylindrical graphene has a cross section orthogonal to the length direction and having almost polygonal shape and the micro-carbon fiber contains no iron-group element.例文帳に追加

上記課題は、複数の筒状グラフェンが入れ子状になって構成された直径１００ｎｍ未満の微細炭素繊維において、長さ方向に直角の筒状グラフェンの断面形状が概ね多角形状を有しており、かつ鉄族元素を含有しないことを特徴とする微細炭素繊維によって解決される。 - 特許庁

A Co-Fe-Ni-based magnetic film having a 50 to 80 wt.% cobalt content, a 20 to 40 wt.% iron content, a 3 to 10 wt.% nickel content and a ≤40 nm average crystal diameter is produced by an electroplating method.例文帳に追加

コバルト含有量が５０重量％以上８０重量％以下、鉄含有量が２０重量％以上４０重量％以下、およびニッケル含有量が３重量％以上１０重量％未満であり、平均結晶粒径が４０ｎｍ以下であるＣｏＦｅＮｉ磁性膜を電界めっきによって作製する。 - 特許庁

The reflection film is formed of a resin composition mainly consisting of an aliphatic polyester obtained by the condensation polymerization of cyclohexanedicarboxylic acid and cyclohexane dimethanol, has air gaps inside and has a mean reflectance of ≥90% on the film surface in 420-700 nm light wavelength region.例文帳に追加

反射フィルムは、シクロヘキサンジカルボン酸とシクロヘキサンジメタノールとを縮合重合させてなる脂肪族ポリエステルを主成分とする樹脂組成物から形成された反射フィルムであって、内部に空隙を有し、４２０〜７００ｎｍの光の波長域におけるフィルム表面の平均反射率が９０％以上である。 - 特許庁

The toner for electrostatic charge image development comprises toner particles obtained by dispersing colored fine particles having an average primary particle diameter of 10-300 nm composed of a medium resin for colored fine particles different from a binder resin for forming toner particles and a dye in the binder resin for forming toner particles.例文帳に追加

静電荷像現像用トナーは、トナー粒子形成用結着樹脂中に、当該トナー粒子形成用結着樹脂と異なる種類の着色微粒子用媒体樹脂および染料を含有する平均一次粒子径が１０〜３００ｎｍの着色微粒子が分散されてなるトナー粒子よりなることを特徴とする。 - 特許庁

The electrostatic latent image-developing toner with the external additive added to colored particles contains inorganic particles with a primary number average particle size of 5-50 nm as the external additive.例文帳に追加

着色粒子に外添剤を添加した静電潜像現像用トナーにおいて、該外添剤として数平均１次粒径５〜５０ｎｍの無機微粒子を含有し、該トナーの個々の粒子に下記要件を満たす凹みが３個以上存在し、該凹みに前記無機微粒子が偏在していることを特徴とする静電潜像現像用トナー。 - 特許庁

The method includes subjecting an alloy of metal (M) and silicon (Si) to phase separation through a heat treatment into silicon nanocrystals and metal silicide compound nanocrystals, and thereby manufacturing silicone nanocrystals and a metal silicide nanocrystals aggregated semiconductor material in which silicon nanocrystals having a diameter of 10 nm or less and metal silicide nanocrystals are aggregated.例文帳に追加

金属（Ｍ）とシリコン（Ｓｉ）の合金を、熱処理によってシリコンナノ結晶と金属シリサイド化合物ナノ結晶に相分離させ、直径１０ｎｍ以下のシリコンナノ結晶と金属シリサイドのナノ結晶が凝集しているシリコンナノ結晶と金属シリサイドナノ結晶凝集半導体材料を製造する。 - 特許庁

This composition for bath agent includes a water swelling clay mineral (smectite or the like) having average particle size of 1 to 5,000 nm measured by dynamic light scattering, 30 mv or more of absolute zeta- potential measured by electrophoresis, 90% or more of purity measured by powder X-ray analysis and an inorganic pigment coated with a water-soluble polymer.例文帳に追加

動的光散乱法による平均粒子径１〜５０００ｎｍ、電気泳動法によるゼータ電位の絶対値３０ｍＶ以上、粉末Ｘ線解析法による純度９０％以上である水膨潤性粘土鉱物（スメクタイト等）と、水溶性高分子物質で被覆した無機顔料を配合した浴用剤組成物。 - 特許庁

To provide a barium titanate powder which has a particle diameter in the solid phase method capable of being controlled ≥300 nm, and uniform particle shapes, low-defective high-crystallinity, high dispersibility and low intraparticle porosity, and a narrow particle size distribution containing no ultrafine particle; and to provide a method for manufacturing a barium titanate powder, and a ceramic electronic component using the same.例文帳に追加

固相法において粒子径を３００ｎｍ以上で制御でき、均質な粒子形状、低欠陥高結晶、高分散性、低粒子内空孔であり、かつ極微細粒子を含まない狭粒度分布であるチタン酸バリウム粉末、チタン酸バリウム粉末の製造方法およびこれを用いたセラミック電子部品を提供する。 - 特許庁

The planar soft magnetic metallic particle is the one obtained by mechanically adhering soft magnetic metallic particle composed of spherical nickel or a nickel based alloy with the average particle diameter of ≤200 nm while being mixed using a ball mill or the like, wherein the thickness is ≤1 μm, the mean particle diameter is ≤5 μm, and the aspect ratio is ≥2.例文帳に追加

本発明の平板状軟磁性金属粒子は、平均粒子径が２００ｎｍ以下の球状のニッケルまたはニッケル基合金からなる軟磁性金属粒子をボールミル等を用いて混合しつつ機械的に凝着させたものであり、厚みが１μｍ以下、平均粒子径が５μｍ以下、アスペクト比が２以上である。 - 特許庁

This fine carbon fiber mixture produced by a gas phase method is the mixture of the fine carbon fiber having a multilayered structure made of overlapped cylindrical carbon layers, a hollow structure at the center axis, 1-500 nm outer diameter and 10-15,000 aspect ratio, with a nonfibrous carbon in a shape such as a flake shape, a granular shape and a sheet shape.例文帳に追加

気相法で製造された炭素繊維混合物であって、筒状の炭素層が重なり合い多層構造をなし、その中心軸が空洞構造であり、外径１〜５００ｎｍ、アスペクト比１０〜１５０００の微細炭素繊維と、片状、粒子状、シート状などの非繊維状炭素との混合物である。 - 特許庁