「nm」に関連した英語例文の一覧と使い方(257ページ目) - Weblio英語例文検索

Regarding the chromium plated member in which the surface of a member made of metal is provided with a chromium electroplating layer, the average diameter of crystallites in the chromium electroplating layer is ≥16.0 nm, and further, the peak intensity ratio between {211} and {222} according to an X-ray diffraction process, ({211}/{222}) is ≥0.10.例文帳に追加

金属製部材の表面に電気クロムめっき層が設けられたクロムめっき部材であって、前記電気クロムめっき層における結晶子の平均直径が１６．０ｎｍ以上であると共に、Ｘ線回折法による｛２１１｝と｛２２２｝のピーク強度比（｛２１１｝／｛２２２｝）が０．１０以上としたクロムめっき部材である。 - 特許庁

This ink-jet recording ink contains a dispersoid having an average particle diameter of 20 to 200 nm and dispersed with a wet fine particle-dispersing machine by a mutual collision method not using a dispersion medium, and fine polymer particles having a glass transition temperature of ≤-20°C and an average acid value of ≤100 mgKOH/g.例文帳に追加

分散メディアを用いない相互衝突方式による湿式微粒化分散機を用いて分散された、平均粒径が２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の分散体と、ガラス転位温度が−２０℃以下で、且つ酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である高分子微粒子を含んでなるインクジェット記録用インク。 - 特許庁

To obtain a polysiloxane which can give a radiation-sensitive resin composition having a high transparency to light of a wavelength of 193 nm or shorter and being highly sensitive, and excellent in dry etching resistance, developability, adhesion to a substrate, or the like, to provide a method for producing the same, and to obtain a radiation-sensitive resin composition containing the polysiloxane.例文帳に追加

１９３ｎｍ以下の波長において透明性が高く、高感度であり、かつドライエッチング耐性、現像性、基板への接着性等にも優れた感放射線性樹脂組成物を与えるポリシロキサン、該ポリシロキサンの製造方法、および該ポリシロキサンを含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The liquid crystal material composition is configured to include polycrystalline barium titanate particles having an average primary particle diameter of 100 nm or less dispersed in a liquid crystal material; and the composition achieves reduction in a drive voltage and a higher display response speed and can reduce electric power consumption.例文帳に追加

本発明の液晶材料組成物は、液晶材料に平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の多結晶チタン酸バリウム粒子が分散されている構成を採用しており、駆動電圧の低減化及び表示応答速度の高速化が可能となり、電力消費量の低減を図ることができる。 - 特許庁

In a position facing a discharge space S between a front glass substrate 1 and a back glass substrate 6, a magnesium oxide layer 5 containing crystalline powder wherein magnesium oxide crystalline performing cathode luminescence emission with a peak within a wave range of 200-300 nm excited by an electron beam is selected is provided.例文帳に追加

前面ガラス基板１と背面ガラス基板６の間の放電空間Ｓに面する位置に、電子線によって励起されて波長域２００〜３００ｎｍ内にピークを有するカソード・ルミネッセンス発光を行う酸化マグネシウム結晶体が選別された結晶体粉末を含む酸化マグネシウム層５が設けられている。 - 特許庁

The method for producing the polishing liquid composition includes a step in which a raw silica dispersion containing colloidal silica having an average primary-particle diameter of 1-100 nm is filtered through a filter including a filter aid, the filter aid having an average pore diameter, as measured by the mercury intrusion method, of 0.1-3.5 μm.例文帳に追加

一次粒子の平均粒子径が１〜１００ｎｍのコロイダルシリカを含有する被処理シリカ分散液を、ろ過助剤を含むフィルターでろ過処理する工程を有する研磨液組成物の製造方法であって、前記ろ過助剤は水銀圧入法による平均細孔径が０．１〜３．５μｍである、研磨液組成物の製造方法。 - 特許庁

Moreover, since the ultraviolet rays of the wavelength of 180 nm or shorter are hardly transmitted to a transparent conductive oxide, such as an ITO(indium-tin oxide), the rays can be used for removing a polyimide orientation film having defects, such as a defective printing, on a TFT array board with an ITO transparent electrode pattern formed on the surface of the structure of a TFT.例文帳に追加

また、１８０ｎｍ以下の紫外線は、ＩＴＯなどの透明導電酸化物をほとんど透過しないので、ＴＦＴ構造の表面にＩＴＯの透明電極パターンが形成されたＴＦＴアレイ基板上の、印刷不良などの欠陥のあるポリイミド配向膜を除去するのに用いることができる。 - 特許庁

A manufacturing method for the ink jet water dispersion ink which includes a dispersed substance of a coloring material whose difference between a half width of the maximum transmission spectral absorption of the coloring material dissolved in a solvent and a half width of the maximum transmission spectral absorption of an ink prepared by dispersing the coloring material is 0 to 30 nm is provided.例文帳に追加

溶媒に溶解した色材の極大透過分光吸収の半値巾と、色材を分散して調製したインクの極大透過分光吸収の半値巾との差が０〜３０ｎｍである色材の分散物を含有することを特徴とするインクジェット用水性分散インクの製造方法。 - 特許庁

A polymeric optical waveguide 10 is a planar polymeric optical waveguide of which the wavelength of guided light is set to about 850 nm, and is provided with a lower clad layer 12, a band-shaped core layer 14 formed on the lower clad layer 12, and an upper clad layer 16 formed around the core layer 14 and on the lower clad layer 12.例文帳に追加

高分子光導波路１０は、導波光の波長が８５０ｎｍ付近に設定された平面型の高分子光導波路であって、下部クラッド層１２、下部クラッド層１２上に形成された帯状のコア層１４、コア層１４を囲んで下部クラッド層１２上に成膜された上部クラッド層１６を備える。 - 特許庁

The magnetic recording medium having a non-magnetic layer containing a non-magnetic powder and a bonding agent and a magnetic layer including ferromagnetic powder and a bonding agent, which are successively provided on a non-magnetic flexible substrate, is characterized in that the non- magnetic layer further contains zirconia powder having 5-200 nm average primary particle size.例文帳に追加

非磁性可撓性支持体上に非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性層及び強磁性粉末と結合剤とを含む磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体において、前記非磁性層が5〜200nｍの範囲の平均一次粒径を有するジルコニア粉末をさらに含有する磁気記録媒体。 - 特許庁

The transmittance of 380 nm wavelength light of the diffusing adhesive layer 10 is preferably 1% or less, and at least one or more kinds of surface treatment selected from hard coating, antistatic, anti-reflection and anti-dazzle treatment is/are imparted, if necessary, to a surface of the base material layer 4 on the side opposite to the lens array layer 3.例文帳に追加

拡散粘着剤層１０は、波長３８０ｎｍの光の透過率が１％以下であることが好ましく、基材層４には、レンズアレイ層３と反対側の表面に、ハードコート，帯電防止，反射防止，防眩から選択される少なくとも一種類以上の表面処理が、必要に応じて施される。 - 特許庁

The present invention is an image display device comprising an electrode layer, a layer including at least one layer of the electrochromic dye, and a layer including a fluorescent whitening agent which can absorb 90% or higher of at least one layer of a light of 200-410 nm, and an image forming method which uses the image display device.例文帳に追加

支持体上に、電極層と、少なくとも１層のエレクトロクロミック色素を含む層と、少なくとも１層の２００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の光を９０％以上吸収する蛍光増白剤を含む層と、を有することを特徴とする画像表示装置、及び該画像表示装置を用いた画像形成方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a titanium-containing oxide material superfine particle by which a superfine particle having ≤20 nm average particle diameter D50 and excellent crystallinity is simply formed in the method of manufacturing the titanium-containing oxide material superfine particle widely used in ceramic electronic components and a titanium-containing oxide superfine particle.例文帳に追加

セラミック電子部品において幅広く用いられるチタン含有酸化物超微粒子の製造方法であって、平均粒径Ｄ５０が２０ｎｍ以下であり、結晶性の優れた超微粒子を簡便に作製する、チタン含有酸化物超微粒子の製造方法、及びチタン含有酸化物超微粒子を提供する。 - 特許庁

The fluorine-containing curable coating fluid comprises a film-forming fluoro compound having a polymerizable double bond and modified hollow silica microparticles having subjected to hydrothermal treatment, modified with a silane coupling agent having a polymerizable double bond, and having a void fraction of 40-45% and an average particle diameter of 10-100 nm.例文帳に追加

含フッ素硬化性塗液は、成膜性を有し、重合性二重結合をもつ含フッ素化合物と、水熱処理が施されると共に、重合性二重結合を有するシランカップリング剤により変性され、中空部の空隙率が４０〜４５％であり、平均粒子径が１０〜１００ｎｍの変性中空シリカ微粒子とを含有している。 - 特許庁

The intermediate layer for oxide superconducting thin film layer formation is formed between an orientated metal base and an oxide superconducting thin film layer in providing the oxide superconducting thin film layer on the orientated metal base, and has a crystal domain size of 25 nm or below in its surface layer.例文帳に追加

配向金属基材上に酸化物超電導薄膜層を設ける際に、配向金属基材と酸化物超電導薄膜層の中間に形成される酸化物超電導薄膜層形成用の中間層であって、表層の結晶ドメインサイズが２５ｎｍ以下である酸化物超電導薄膜層形成用の中間層。 - 特許庁

To polish an extra metal film or an extra barrier film formed on the surface of a substrate while maintaining a polishing rate and its uniformity in the substrate surface, and preventing the occurrence of dishing or erosion even in a semiconductor device having a very fine wiring structure of 65 nm or later generation.例文帳に追加

たとえ６５ｎｍ乃至それ以降のより微細な配線構造を有する半導体デバイスであっても、基板の表面に形成した余剰な金属膜やバリア膜を、研磨速度及びその基板表面内での均一性を維持し、かつディッシングやエロージョンの発生を抑制しつつ研磨できるようにする。 - 特許庁

The arrangement film of carbon nanotube aggregate features that carbon nanotubes are obtained by densely growing and aggregating as a conical substance in a self-assembled state and that carbon nanotubes have <50 nm diameter and 0.5 to 3.0×10^9 pieces per 1 mm^2 surface density and form conical substances.例文帳に追加

カーボンナノチューブが円錐状物質として、密に成長・凝集させ、自己組織化された状態で得られものであるカーボンナノチューブのサイズが、直径５０ｎｍ以下（５０ｎｍを除く）であり、面密度が0.5~3.0×10^9本/mm^2の範囲にあり、かつ円錐状物質を形成していることを特徴とするカーボンナノチューブ集合体配列膜。 - 特許庁

The signal board has a relief obtained from a photosensitive resin laminate with a photosensitive resin layer of ≥500 μm on at least a substrate by way of an adhesive layer and has a coating layer having ≤50% UV transmittance at 400 nm on the surface.例文帳に追加

少なくとも支持体上に、接着層を介して５００μ以上の感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体より得られるレリーフを有する標識板であって、該標識板表面に４００ｎｍにおける紫外線透過率が５０％以下であるコーティング層を有していることを特徴とする標識板。 - 特許庁

To solve the problems of the performance improving technique of microphotofabrication using far-ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, specifically to provide a negative resist composition which, even in fine pattern formation, avoids pattern collapse and exhibits good resolution.例文帳に追加

本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

This aqueous polymer dispersion comprises (a) at least one dispersion containing polyvinyl acetate and/or at least one polyvinyl acetate copolymer, and (b) at least one aqueous silicon dioxide dispersion containing SiO_2 particles having an average particle diameter of 1 to 400 nm.例文帳に追加

前記課題は、（ａ）ポリ酢酸ビニル及び／又は少なくとも１種のポリ酢酸ビニルコポリマーを含有する分散体少なくとも１種及び（ｂ）平均粒径１〜４００ｎｍを有するＳｉＯ_2粒子を含有する水性二酸化ケイ素分散体少なくとも１種を含有する水性ポリマー分散体により解決される。 - 特許庁

The cleaning of optical components for use in a lithographic projection apparatus can be carried out by irradiating a space within the apparatus containing the optical component with UV or EUV radiation having a wavelength of less then 250 nm, in the presence of an oxygen-containing species selected from water, nitrogen oxide and oxygen-containing hydrocarbons.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置において使用する光学部品の清掃は、光学部品を含んだ装置内のスペースを、水、窒素酸化物、および酸素含有炭化水素から選択された酸素含有種の存在下、２５０ｎｍに満たない波長を有するＵＶ放射線もしくはＥＵＶ放射線にて照射することにより実行される。 - 特許庁

The single-mode optical waveguide has a three-segment core having first to third segments 26, 28, and 30, whose relative refractive indexes, refractive index distributions, and radii are so selected as to have characteristics suitable to the high-performance, high-speed system within a wavelength range of about 1,530 to 1,570 nm.例文帳に追加

第１から大３のセグメント２６、２８、３０を有する３セグメントコアを有するシングルモード光導波路で、コアセグメントの相対屈折率、屈折率分布及び半径は、約1530nmから1570nmの波長窓内で高性能及び高速システムに適した特性を有する光導波路ファイバを与えるように選択される。 - 特許庁

This film-forming agent contains the metal oxide fine particles comprising at least one kind of oxide of a metal selected from a group comprising Ti, Zr, Zn, Sn, In, La, and Y and having a crystallite diameter of <15 nm, wherein the agent is used in forming the film having the refractive index of ≥1.5.例文帳に追加

本発明にかかる膜形成剤は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｉｎ、ＬａおよびＹからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり結晶子径が１５ｎｍ未満である金属酸化物微粒子を含む、屈折率が１．５以上の膜を形成させるための膜形成剤であることを特徴とする。 - 特許庁

In the Al-Mg-Si aluminum alloy sheet, the average spacing of Mg_2Si precipitates in a crystal grain is ≥40 nm, and also the average distance between slip-band structures existing in the crystal grain at the surface of the aluminum alloy sheet and occurring when 5% strain is applied to the aluminum alloy sheet is ≤1.5 μm.例文帳に追加

Al-Mg-Si系アルミニウム合金板において、結晶粒内のMg_2Si 析出物の平均間隔が40nm以上であり、かつ、アルミニウム合金板表面の結晶粒内のすべり帯組織であって、アルミニウム合金板に5%の歪みを与えた際に生じるすべり帯組織同士の平均間隔が1.5 μm 以下であるものとする。 - 特許庁

Particularly, a preferable example is the powder having rare earth elements (Sc, Y can be treated as rare earth elements)on the particle surfaces, such as having an average long axis length of 10-200 nm when measured in the image photographed by using transmission electron microscope and a specific surface area of 30-200 m^2/g by the BET method.例文帳に追加

特に、粒子表面に希土類元素（Ｓｃ、Ｙも希土類元素として扱う）を有するものが挙げられ、透過型電子顕微鏡写真より計測される平均長軸長が１０〜２００ｎｍ、ＢＥＴ法による比表面積が３０〜２００ｍ^2／ｇであるものが好適な対象となる。 - 特許庁

This heat fusion transfer medium comprises the heat fusion colored layer containing a carbon black formed on one of the surfaces of a base material, wherein the carbon black with 120 to 250 cm^3/100 g DBP absorption and 15 to 30 nm particle diameter, constitutionally accounts for 30 to 50 wt.% of total carbon black.例文帳に追加

基材の一方の面に、カーボンブラックを含有する熱溶融着色層を設けてなる熱溶融転写媒体において、１２０〜２５０ｃｍ^３／１００ｇのＤＢＰ吸収量と１５〜３０ｎｍの粒子径とを併有するカーボンブラックが全カーボンブラックの３０〜５０重量％を占めるよう構成した。 - 特許庁

In a liquid droplet discharging head in which a part of a pressurized chamber 2 wall face is constituted of a piezoelectric element 8, average surface inclination ΔA (mrad) of the pressurized chamber 2 side surface of the piezoelectric element 8 is at most 1050 and an average volumetric particle size D (nm) of the pigment included in the ink is at least 80 and at most 200.例文帳に追加

加圧室２壁面の一部が圧電素子８で構成された液滴吐出ヘッドにおいて、前記圧電素子８の加圧室２側表面の平均表面傾斜Δａ（ｍｒａｄ）がΔａ≦１０５０であり、且つインクに含まれる顔料の平均体積粒子径Ｄ（ｎｍ）が８０≦Ｄ≦２００である。 - 特許庁

In a manufacturing method of a magnetic recording medium 10 wherein a lower non-magnetic layer 2 and the magnetic layer 3 having ≤50 nm film thickness are laminated on a supporting body 1, the lower non-magnetic layer 2 is subjected to calender treatment and heat curing treatment to suppress drying speed of the magnetic layer as a step prior to a step for forming the magnetic layer 3.例文帳に追加

支持体１上に、下層非磁性層２と、膜厚５０ｎｍ以下の磁性層３とが積層形成されている磁気記録媒体１０を製造する方法において、磁性層３の形成工程の前工程として、下層非磁性層２に、カレンダー処理及び熱硬化処理を行い、磁性層の乾燥速度を抑制する。 - 特許庁

A mark part due to the irradiation with laser beam is formed to the resin molded article comprising this resin composition on the rear surface side with respect to the appearance surface of the molded article in a predetermined mirror image shape and this predetermined mirror image shape is visually confirmed from the appearance surface of the molded article and the light transmissivity at a wavelength of 760 nm of the mark part is 5% or less.例文帳に追加

この樹脂組成物からなる樹脂成形品に、レーザー光線照射によるマーク部が成形品の体裁面に対する裏面側に所定形状の鏡像の形状で形成され、所定形状が体裁面側から視覚的に認知され、マーク部での波長７６０ｎｍ光線透過率が５％以下である。 - 特許庁

The regenerant for a deteriorated edible oil is composed of a food additive silicon dioxide having a whole specific surface area of ≥350 m^2/g, and a pore configuration wherein a dispersion maximum in the pore diameter range is 4-50 nm and an external surface area, calculated by the V_l-t method, accounts for ≥80% of the whole specific surface area.例文帳に追加

全比表面積が３５０ｍ^2／ｇ以上で、細孔形態が細孔直径４〜５０ｎｍの範囲に分布極大を有し、かつＶ_l−ｔ法で算出した外部表面積が全比表面積の８０％以上を占める食品添加物二酸化ケイ素からなることを特徴とする劣化食用油用再生剤。 - 特許庁

After a silicon wafer having the insulating film at the front surface thereof is uniformly sprayed with the Na_3Au(SO_3)_2 electrolytic solution discharged from a spray nozzle, the Pt electrode is soaked to the electrolytic solution, and a voltage is impressed across a silicon substrate and the Pt electrode to precipitate the Au particles of the diameter of 10 nm or less on the fault of insulating film.例文帳に追加

表面に絶縁膜を有するシリコンウエハにスプレーノズルによりＮａ_３Ａｕ（ＳＯ_３）_２電解液を均一に照射した後、Ｐｔ電極を電解液に浸し，シリコン基板とＰｔ電極間に電圧を印加し，絶縁膜欠陥上に直径１０ｎｍ以下のＡｕ粒子を析出させる。 - 特許庁

A DFB laser device 10, an embedding hetero type having an oscillation wavelength of 1,550 nm, comprises, on an n-InP substrate 12, an n-InP buffer layer 14, an active layer 16, a p-InP spacer layer 18, a grating 20 consisting of GaInAsP layer, and a lamination structure of p-InP first cladding layer 22 in which a grating is embedded.例文帳に追加

ＤＦＢレーザ素子１０は、発振波長が１５５０ｎｍの埋め込みへテロ型であって、ｎ-ＩｎＰ基板１２上に、ｎ-ＩｎＰバッファ層１４、活性層１６、ｐ-ＩｎＰスペーサ層１８、ＧａＩｎＡｓＰ層からなる回折格子２０、及び回折格子を埋め込んだｐ-ＩｎＰ第１クラッド層２２の積層構造を備える。 - 特許庁

In this hydrogen storage alloy powder excellent in charging and discharging characteristics, the surface layer part enriched in Ni and Co as the main phases has a thickness of 10 to 500 nm, and also, the ratio (tmax/tmin) of the maximum part (tmax) to the minimum part (tmin) in the film thickness of the surface layer is controlled to 1 to 10.例文帳に追加

水素吸蔵合金粉末において、表面層にＮｉ，Ｃｏを主相とするリッチな表面層の厚さ１０〜５００ｎｍを有し、かつ該表面層膜厚の最大部分（ｔ__max ）と最少部分（ｔ_min ）の比（ｔ_max ／ｔ_min ）が１〜１０であることを特徴とする充放電特性に優れた水素吸蔵合金粉末。 - 特許庁

The filmy adhesive for sealing the semiconductor contains a resin composition comprised of (a) a polyimide resin, (b) an epoxy resin and (c) a curing agent and an inorganic filler and has at least 10% of a light transmittance at 555 nm and an absolute value of a difference of a refractive index between the resin composition described above and the inorganic filler described above is 0.15 or less.例文帳に追加

（ａ）ポリイミド樹脂、（ｂ）エポキシ樹脂及び（ｃ）硬化剤からなる樹脂組成物と無機フィラーとを含有し、５５５ｎｍにおける光透過率が１０％以上であり、上記樹脂組成物と上記無機フィラーとの屈折率の差の絶対値が０．１５以下である半導体封止用フィルム状接着剤。 - 特許庁

In the amorphous silica zirconium composite, a ratio Zr/(Si+Zr) is in a range of 0.5 to 15.0 mol%, a pore volume at a pore diameter of 2 to 50 nm is 0.2 to 1.0 cm^3/g, and desorption of NH_3 measured by an NH_3-TPD method is 0.05 mmol/g or more.例文帳に追加

Ｚｒ／（Ｓｉ＋Ｚｒ）が０．５乃至１５．０モル％の範囲内にあると共に、２乃至５０ｎｍの細孔直径での細孔容積が０．２乃至１．０ｃｍ^３／ｇであり、且つＮＨ_３−ＴＰＤ法で測定したＮＨ_３脱着量が０．０５ｍｍｏｌ／ｇ以上であることを特徴とする非晶質シリカジルコニウム複合体。 - 特許庁

In the optical recording disk having on a substrate at least the land part and the groove part for recording/reproducing and the header part recording format information, recording information at least on the land part and performing recording/reproducing of information, the difference of a height of 3-100 nm is provided between a height of the header part and a height of the land part.例文帳に追加

基板上に、少なくとも記録再生に関与するランド部およびグルーブ部と、フォーマット情報を記録するヘッダー部とを有し、少なくともランド部上に情報を記録して、情報の記録再生を行なう光記録ディスクにおいて、ヘッダー部の高さとランド部の高さとして、３〜１００ｎｍの高低差を設ける。 - 特許庁

On the Si wafer for use that has the face orientation of (001) and an off-angle of 4 degrees in the <011> direction, the GaP layer of 90 nm or smaller or two kinds of group III-V compound semiconductors having GaP as a main component is laminated as a material laminated on the Si wafer, and an oxide layer of a perovskite series is laminated thereon.例文帳に追加

使用するＳｉ基板を面方位が（００１）で＜０１１＞方向へのオフ角が４°のものとした上で、Ｓｉ上に積層する材料として９０ｎｍ以下のＧａＰ層またはＧａＰを機軸とする２種類のIII−Ｖ族化合物半導体を積層しておき、その上にペロブスカイト系の酸化膜を積層する。 - 特許庁

In the nano-sized phosphor of which 90% or more of the whole of particles have each a size of 1-100 nm, the equipotential point of zeta potential when the nano-sized phosphor is dispersed in water is 1-6, and the zeta potential at a pH of 8-13 is -100 mV to -30 mV.例文帳に追加

全粒子の９０％以上が１ｎｍ〜１００ｎｍの粒径であるナノサイズ蛍光体であり、該ナノサイズ蛍光体を水中に分散させたときのゼータ電位の等電点が１〜６であり、かつｐＨ８〜１３におけるゼータ電位が−１００ｍＶ〜−３０ｍＶであることを特徴とするナノサイズ蛍光体。 - 特許庁

The height of a polysilicon layer 4 is formed to be lower than before to be about 95[nm], and when etching a NONON film 5, a polysilazane film 15b and a silicone oxide film 15a, etching treatment is performed under such a prescribed condition that a selection ratio condition between the polysilicon layer 4 and the NONON film 5 is in a range of 1:1.5 to 2.例文帳に追加

多結晶シリコン層４の高さを９５［ｎｍ」程度と従来に比較して低く形成し、ＮＯＮＯＮ膜５およびポリシラザン膜１５ｂおよびシリコン酸化膜１５ａをエッチング処理するときに、多結晶シリコン層４およびＮＯＮＯＮ膜５間の選択比条件を１：１．５〜２の範囲となる所定条件でエッチング処理する。 - 特許庁

The transparent film has semi-IPN (semi-mutual penetration netting structure) polymer alloy of cellulose ester and crosslinking polymer, and a retardation value of the film thickness direction {where Rth_(630): Rth_(λ) is the retardation value (units of nm) of the film thickness direction in wavelength λnm under 25°C60%RH} is in the range of -25 to +25.例文帳に追加

セルロースエステルと架橋ポリマーとのセミＩＰＮ（半相互貫入型網目構造）型ポリマーアロイを有し、かつ膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ_(630) ：Ｒｔｈ_(λ)は２５℃６０％ＲＨ下、波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である）が−２５以上＋２５以下である透明フィルム。 - 特許庁

There is used the wiring member 10 which has a copper foil 11 having a smooth face in which a surface roughness Rz is 2 μm or less, a noise suppressing layer 13 containing a metal or conductive ceramics and having a thickness of 5-200 nm, and an insulating resin layer 12 formed between the smooth face side of the copper foil 11 and the noise suppressing layer 13.例文帳に追加

表面粗さＲz が２μｍ以下である平滑面を有する銅箔１１と、金属または導電性セラミックスを含む、厚さ５〜２００ｎｍのノイズ抑制層１３と、銅箔１１の平滑面側とノイズ抑制層１３との間に設けられた絶縁性樹脂層１２とを有する配線部材１０を用いる。 - 特許庁

Provided is a spinel sintered compact having an absorption coefficient (k_10) of 0.3/cm or less at a wavelength of 193 nm, wherein the spinel sintered body is characterized by comprising magnesia-alumina spinel as the main component, having a lithium (Li) content of 1,000 ppm by weight or more, and having a fluorine (F) content of less than 1 ppm by weight.例文帳に追加

マグネシアアルミナスピネルを主成分とし、リチウム（Ｌｉ）の含有量が１０００重量ｐｐｍ以上であって、且つ、フッ素（Ｆ）の含有量が１重量ｐｐｍ未満であることを特徴とする、波長１９３ｎｍでの吸収係数（ｋ_10）が０．３／ｃｍ以下であるスピネル焼結体を提案する。 - 特許庁

In the perpendicular magnetic recording medium formed by forming backing magnetic layers 13 and 22, a perpendicular magnetization film 15 and a protective film 16 on a substrate 11 in this order, a soft magnetic film contained in the backing magnetic layers is composed of a thin film consisting of magnetic fine crystal grains having a non-cylindrical polycrystalline structure and 1-10 nm average particle size.例文帳に追加

基板１１上に裏打磁性層１３，２２、垂直磁化膜１５、保護膜１６の順に形成した垂直磁気記録媒体において、裏打磁性層に含まれる軟磁性膜は、非柱状多結晶構造の平均粒径が１〜１０ｎｍの範囲の磁性微結晶粒からなる薄膜で構成する。 - 特許庁

To obtain a coating composition which excels in the dispersibility of a coating liquid even when fine particles of a metal oxide having a primary particle diameter of ≤30 nm are used, and excels in transparency (a small haze value) when formed into a coating film, a coating film formed by using the coating composition, an antireflective membrane, an antireflective film, and a method for preparing the coating composition.例文帳に追加

３０ｎｍ以下の一次粒子径の金属酸化物微粒子を用いても塗工液の分散性に優れ、塗膜とした場合に、透明性に優れる（ヘイズ値が小さい）コーティング組成物、該コーティング組成物を用いて形成された塗膜、反射防止膜、反射防止フィルム、コーティング組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

This fluorescent lamp has at least one kind of ultraviolet-ray absorbing film or a reflecting film, a protective film, consisting of a connected body of particles of a metal oxide of which the volume average particle size is 10-300 nm and which does not form an amalgam with mercury, and a phosphor layer formed, in this order, on the inner face of the arc tube.例文帳に追加

発光管の内面に、紫外線吸収膜又は反射膜のうち少なくとも一種、体積平均粒径が１０ｎｍ〜３００ｎｍであり、水銀とアマルガムを形成しない金属の酸化物の粒子の連結体からなる保護膜、および蛍光体層が、この順で形成されてなる蛍光ランプ。 - 特許庁