| 例文 |
pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23003件
To provide a method for manufacturing a semiconductor device that has been improved to prevent a modified resist surface layer from being released when continuously performing dry etching and wet etching by the same resist pattern.例文帳に追加
同一のレジストパターンにより、ドライエッチングおよびウエットエッチングを連続的に行なう際に、変質したレジスト表面層を剥がれなくするように改良された、半導体装置の製造方法を提供することを主要な目的とする。 - 特許庁
Also the method for its manufacturing comprises forming a light shielding pattern 10 on the surface of the one substrate 1 corresponding to the pixels and self-olignedly forming the microlens array 11a utilizing opening parts of the light shielding parttern 10.例文帳に追加
又その製造方法としては、上記一方の基板表面に画素に対応した遮光パターン10を形成し、その遮光パターンの開口部を利用して上記マイクロレンズアレイ11aを自己整合的に形成することを特徴とする。 - 特許庁
In the metal film transfer film for the electronic component, a release agent layer and the metal film are formed in this order on the plastic film, and the metal film has a prescribed pattern shape formed by an oil mask method.例文帳に追加
プラスチックフィルム上に離型層および金属膜がこの順に成膜された構造を有しており、その金属膜がオイルマスク法によって形成された所定のパターン形状を有している電子部品用金属膜転写フィルム。 - 特許庁
In the aluminum pattern forming method, alan-amine complexes are coated on a base body by using a coating machine having a ballpoint pen tip structure with a rotatable ball as a coating medium, and the coated base body is treated with heat and/or light.例文帳に追加
本発明のアルミニウムパターンの形成方法は、基体上に、回転自在なボールを塗布媒体とするボールペンチップ構造を有する塗布機を用いてアラン・アミン錯体を塗布し、次いで熱及び/又は光処理することを特徴とする。 - 特許庁
The system and method include an impedance adjustment circuit 4 incorporated into the output circuit 3 of a first LSI 1, and a test pattern generating circuit 5 for transmitting signals for testing random patterns via the circuit 4 to a second LSI 2.例文帳に追加
第1のLSI1の出力回路3内に組み込まれたインピーダンス調整回路4と、インピーダンス調整回路4を介してランダムパターンのテスト用信号を第2のLSI2に対して送出するテストパターン発生回路5を備える。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of eliminating difference in polishing speed due to density of a trench pattern by a relatively simple process in manufacturing the semiconductor device including trenches having an insulation film buried.例文帳に追加
絶縁膜が埋め込まれたトレンチを備えた半導体装置の製造に際し、比較的簡単なプロセスでトレンチパターンの疎密による研磨速度の差異を解消することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for semiconductor elements which is capable of obtaining a uniform plating thickness by an electroless plating that is used in a bump manufacturing process and a bonding pad rearrangement pattern manufacturing process in the manufacturing process for a semiconductor element.例文帳に追加
半導体素子の製造工程中にバンプ製造工程及びボンディングパッドの再配置パターンの製造工程などに用いられる無電解メッキで均一なメッキ厚さを得ることができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
This printing method comprises applying a mixture of prescribed amounts of necessary original color inks as a printing ink, jetting the ink as liquid drops similarly to an ink jet recording technique and flying the liquid drops to draw a printed pattern on the fabric.例文帳に追加
所要の原色のインクを予め所要量混合したものを捺染インクに充当し、インクジェット記録技法と同様にして、該インクを液滴粒子として噴射し且つその液滴粒子を飛行させて、印捺パターンを布に描く。 - 特許庁
To provide a memory cell array where a ferroelectrics layer constituting a ferroelectrics capacitor has a specific pattern for less floating capacity of a signal electrode, manufacturing method thereof, and a ferroelectrics memory device.例文帳に追加
強誘電体キャパシタを構成する強誘電体層が特定のパターンを有し、信号電極の浮遊容量を小さくすることができるメモリセルアレイ、およびその製造方法、ならびに強誘電体メモリ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device with a more stable configuration wherein increase in the resistance of hole connected parts for contact holes and via-holes is suppressed independently of the density of a hole pattern and variations in the resistance values are eliminated, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加
コンタクトホールやビアホールのホール接続部に関し、パターンの疎密にかかわらず、抵抗の上昇を抑制し、抵抗ばらつきのないより安定した構成を有する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a blasting method and a blasting device for providing satisfactory manufacture efficiency, reducing manufacturing cost, forming a pattern of a precise and minute recessed part, and also forming a recessed part on an inner face of a hollow part of a hollow cylindrical member.例文帳に追加
製造効率が良好で、製造コストを低減でき、さらに精細な微小凹部のパターンを形成し得る、中空円筒部材の中空部内面に凹部を形成する、ブラスト加工方法およびブラスト加工装置を提供する。 - 特許庁
To provide a chemically amplified positive photoresist composition for a thick film suitable for use in the production of a connecting terminal, etc., having a high film retention in development, and excellent in resolution, and a method for producing a thick film resist pattern.例文帳に追加
接続端子などの製造に好適に用いることができ、かつ現像時の残膜率が高く、解像性に優れた厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an information recording and reproducing device with use of the cache method which permits the most efficient use of cache memory, irrespective of an access pattern transmitted from a host computer, in addition, a recording and reproducing controller, and a data recording and reproducing controller.例文帳に追加
ホストコンピュータからのアクセスパターンに関わらずに、キャッシュメモリを最大限に有効利用できるキャッシュ方式を用いた情報記録再生装置および記録再生制御装置およびデータ記録再生制御方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing for conveniently manufacturing an optical waveguide circuit furnished with an electric wiring, a pad for mounting and an electrode for light control or the like on the same plane with high accuracy of positions with respect to a core pattern of the optical waveguide.例文帳に追加
光導波路のコアパターンに対して電気配線、実装用パッド、光制御用電極等を高い位置精度で同一面内に備える光導波路回路を簡便に製造するための製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a highly accurate astigmatism correction adjusting method capable of obtaining stable image quality without depending on a pattern or a sample used for astigmatism adjustment and without relying on skill of a worker, in a charged particle beam device.例文帳に追加
荷電粒子線装置において、非点収差調整に用いるパターンまたは試料に依存せず、作業者のスキルに寄らず安定した像質を得ることができる高精度の非点収差補正調整方法を提供する。 - 特許庁
To provide a polymerizable monomer for use in a resist, suitable for microfabrication performed by dry exposure, immersion exposure or a double patterning process, and to provide a polymer of the same, a resist material using the same, and a pattern formation method.例文帳に追加
ドライ露光、液浸露光やダブルパターンニングプロセスで行われる微細加工に適するレジスト用重合性単量体およびそれら重合体の提供それらを使ったレジスト材料およびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an analog-digital conversion circuit that can easily revise the design of a layout pattern to revise a resolution in a short time and to provide a layout generating method, a layout generator and a layout generating program.例文帳に追加
分解能の変更のためのレイアウトパターンの設計変更を容易かつ短時間に行うことができるアナログ−デジタル変換回路、レイアウト作成方法、レイアウト作成装置およびレイアウト作成プログラムを提供することである。 - 特許庁
In a method for producing artificial marble, a resin composition 1 in which additives such as a pattern material, a filler, and a curing agent are incorporated in a thermosetting resin is obtained, injected in the casting mold 2, molded, and cured.例文帳に追加
熱硬化性樹脂に柄材と、充填剤と、硬化剤などの添加物を配合した樹脂組成物1を得て、この樹脂組成物1を注型用金型2に注入して成形硬化させる人造大理石の製造方法である。 - 特許庁
To provide a pattern inspection device capable of efficiently preparing master data provided with accuracy well suited to an actual inspection for an object which is a multi-piece article and providing them for the inspection and a method for preparing the master data.例文帳に追加
多ピース品である対象物について,現実の検査によく適合した精度を有するマスタデータを効率よく作成して検査に供することができるパターン検査装置およびそのマスタデータの作成方法を提供すること。 - 特許庁
The method includes: turning on a laser; then transmitting a synchronizing pattern sequence and a burst delimiter, transmitting data to be transmitted, and transmitting an end-of-burst delimiter after the transmission of the data to be transmitted is finished.例文帳に追加
この方法は、レーザをオンにした後で同期パターンシーケンスとバーストデリミタとを送信することと、送信されるべきデータを送信することと、送信されるべきデータの送信が終了した後でエンドオブバーストデリミタを送信することとを含む。 - 特許庁
Particularly, the high-resolution pattern of an organic luminescent layer can be obtained when the organic luminescent ink 22 constituted by dissolving or dispersing an organic luminescent material in the solvent is printed onto the substrate to be printed by the offset printing method.例文帳に追加
特に、有機発光材料を溶剤に溶解または分散させてなる有機発光インキ22をオフセット印刷法によって被印刷基板上に印刷した際に、高精細な有機発光層のパターンを得ることができる。 - 特許庁
In the natural language processor, natural language processing method, and natural language processing program, a pattern rule having a sentence ID, wherein the sentence ID for indicating the possibility of applicability to the same sentence simultaneously is given, is prepared in advance.例文帳に追加
本発明の自然言語処理装置、自然言語処理方法及び自然言語処理プログラムにおいては、予め、同一文に同時に適用する可能性の高さを示す文IDが付与された文ID付パターン規則を用意しておく。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a gray tone mask by which a light shielding film and a translucent film are formed from film materials having approximate etching characteristics without providing an etching stopper film, and misalignment of a pattern in a translucent part is prevented.例文帳に追加
エッチングストッパー膜を設けなくても、遮光膜及び半透光膜をエッチング特性が近似した膜材料で構成することができ、半透光部のパターンずれを防止できるグレートーンマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of complementarily dividing a mask used for an electron beam projection exposure, which is capable of dividing the mask quickly and reliably by introducing a simple procedure even when the mask has a very complicated pattern as an object of division.例文帳に追加
電子線投影露光用マスクの相補分割処理において、その分割対象となるパターン形状が非常に複雑な場合であっても、簡潔な手順を導入することにより、迅速かつ信頼性の高い処理を実現する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a printed circuit board having an embedded electronic component, which can improve reliability of circuit connection between an electronic component and a circuit pattern and can shorten a manufacturing process of embedding the electronic component into the printed circuit board.例文帳に追加
電子素子と回路パターン間の回路接続の信頼性が改善でき、印刷回路基板の内部に電子素子を内蔵する際の製造工程を短縮できる電子素子内蔵印刷回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an undercoating resin composition which counteracts the effects of the surface of a mask blank and imparts a rectangular cross-sectional shape to a pattern of a positive type chemical amplification type pbotosensitive resin composition and a method for producing a resist image.例文帳に追加
マスクブランクスの表面の影響を打ち消し、ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物のパターンの断面形状を矩形に現出させることができるアンダーコート樹脂組成物及びレジスト像の製造法を提供する。 - 特許庁
In the pattern forming method, the application, 1st exposure, development, 2nd exposure and heating of the positive type photosensitive resin composition are successively carried out and the quantity of light in the 2nd exposure is 2-15 times that in the 1st exposure.例文帳に追加
前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第1露光、現像、第2露光、加熱処理を順次行う工程において、第2露光の光量が、第1露光の2〜15倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a mold structure, and so on by which a signal output equivalent to a corner section is ensured without adversely affecting a master clock by changing the shape of a pattern angle even when resist resolution is insufficient.例文帳に追加
レジスト分解能が十分でない場合でも、パターン角の形状を変化させることで、マスタークロックには影響を与えず、角部に相当する信号出力を確保することができるモールド構造体の製造方法等の提供。 - 特許庁
To provide a building board and its manufacturing method presenting more complex grain-like design appearance by presenting different color appearance even only at the grain forming projection parts or recessed parts of an uneven grain pattern.例文帳に追加
木目凹凸模様の木目形成凸部だけにおいて,また凹部だけにおいても異なる色外観を呈することができ,より複雑な木目調の意匠外観を呈することができる建築板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a pattern forming method, a chemically amplified resist composition and a resist film which satisfy high sensitivity, high resolution, excellent roughness performance and excellent dry etching resistance, and further have excellent developing time dependency.例文帳に追加
高感度、高解像性、優れたラフネス性能、及び、優れたドライエッチング耐性を同時に満足するとともに、更には、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物、及び、レジスト膜を提供する。 - 特許庁
To provide an elevator installation with a cage and a cage position detecting device, using an inexpensive sensor device for accurately scanning a code mark pattern without impairing safety and reliability, and to provide its operating method.例文帳に追加
安全性と信頼性を損なわずに、低価格でのセンサ装置によるコードマークパターンの正確な走査を可能とする、ケージおよびケージ位置を検出する装置を備えるエレベータ設備、およびそのようなエレベータ設備の動作方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of removing resist materials on an object which become unnecessary, such as a semiconductor wafer, in the process of forming a fine pattern in the manufacture of a semiconductor, a circuit, various printed boards, a liquid crystal panel, or the like.例文帳に追加
本発明は、半導体、回路、各種プリント基板、液晶パネルなどの製造における微細パタ—ンを形成する工程において、半導体ウエハなどの物品上の不要となつたレジスト材を除去する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a device for manufacturing cells enhancing productivity by surely, accurately, quickly, effectively applying an adhesive in the prescribed pattern to the surface of a separator using a simple constitution, and making mass production possible, and to provide a method for manufacturing the cells.例文帳に追加
簡単な構成で、セパレータの表面には所定のパターンで接着剤を確実に精度よく短時間で無駄なく塗布してセルの生産性を向上させ、セルを量産することが可能な製造装置およびその方法を提供する。 - 特許庁
To provide a projection exposure method, in which a circuit pattern is formed at an accurate position even if relative position relation or an arrangement of respective reference marks deviates from a design value, and a decrease in throughput of manufacture of a printed circuit board is small.例文帳に追加
各基準マークの相対的な位置関係や配置が設計値に対して偏移しても回路パターンを的確な位置に形成でき、且つ、プリント基板の製造のスループット低下が少ない投影露光方法を提供する。 - 特許庁
To provide an exposure mask and a method for making a mask pattern by which not only the focus margin is improved in a photolithographic process but shrinkage in a line end is suppressed, and difference in the finish dimension in an etching process is suppressed.例文帳に追加
フォトリソグラフィー工程において、フォーカスマージンを向上させるだけでなく、ライン末端部の縮みを抑制し、かつエッチング工程において仕上がり寸法差を抑制する、露光用マスクとマスクパターンの作成方法を提供する。 - 特許庁
The method further comprises the steps of then opening to include the first opening, forming a second photoresist pattern 37 having a second opening 37a of an overhanging-like sectional shape at the sidewall, and then coating a second metal layer 39 thereon.例文帳に追加
次に、第1の開口部を包含するようにして開口し且つその側壁がオーバーハング状の断面形状の第2の開口部37aを設けた第2のフォトレジストパターン37を形成した後、第2の金属層38を被着する。 - 特許庁
To provide a tape and a sheet to be adhered to a pain area easily with an adhesive surface of an article adherable to a skin where a linear pattern having vertical and horizontal lines and diagonal lines added from both sides is printed as a method of removing a pain quickly.例文帳に追加
痛みを早急に取り除く方法として、肌に貼る事が出来る物の接着面に縦、横、両サイドから斜めを加えた線状の模様をプリントして、痛みのある部位に簡単に貼ることの出来るテープやシートを提供する。 - 特許庁
The method includes: a step of forming a thin film transistor and a connecting pattern connecting the drain electrode of the thin film transistor and a data line on a substrate of a liquid crystal display device; and a step of forming a pixel electrode connected to the drain electrode.例文帳に追加
液晶表示装置の基板上に薄膜トランジスタ及びそのドレイン電極とデータラインとを接続する接続パターンを形成するステップと、該ドレイン電極と接続される画素電極を形成するステップを有する。 - 特許庁
An inspection region 2 is designated using design information 1, region division 3 for measurement by a scatterometry method is performed, and pattern classification 4 of obtained and detected data is performed to classify patterns into a periodic region 5 and a non-periodic region 6.例文帳に追加
設計情報1を用いて検査領域2を指定し、スキャットロメトリー法によって測定するための領域分割3を行い、得られた検出データをパターン分類4し、周期領域5と非周期領域6に分類する。 - 特許庁
To provide a portable terminal apparatus in which a desired operating mode can be made to correspond to a data pattern of optional acceleration inputted by a user himself/herself and can be registered, and an operation control method for the same.例文帳に追加
使用者自身によって入力される任意の加速度のデータパターンに、所望の動作モードを対応付けて登録することができる携帯端末装置および携帯端末装置の動作制御方法を提供すること。 - 特許庁
The present invention relates to an alignment mark and a forming method thereof, wherein a plating electricity feeding film 13 is formed on a surface of a substrate 12, and a photoresist pattern is formed on the plating electricity feeding film 13 and then patterned by electric plating.例文帳に追加
基板12の表面にメッキ給電用膜13を形成し、次いで当該メッキ給電用膜13にフォトレジストパターンを形成して、その後電気メッキによりパターン形成されるアライメントマーク及びその作成方法である。 - 特許庁
To provide a method of easily manufacturing a bathtub and the like having highly glorious whiteness and blackness, metallicity, opaqueness coming from various other mixed coloring agents, or a picture pattern having various excellent designs having these as background.例文帳に追加
高光沢な白色性や黒色性、メタリック性、その他の各種の色材を混合した不透明性、或はこれらを背景として、各種の意匠性の高い絵柄模様を有する浴槽等を簡便に作製する方法を提供する。 - 特許庁
By this detection method, the location of the object 1 in the scene and the rotational direction of the object 1 can be detected at high speed since the amount of data handled is small compared with the conventional pattern matching and the calculation is limited to addition and subtraction.例文帳に追加
この物体検出方法は,従来のパターンマッチングに比べて扱うデータ量が少なく,演算も加減算だけでよいため,シーン中の対象物1の位置や対象物1の回転方向を高速で検出することができる。 - 特許庁
To provide a thermally curable resist composition which is suitable for a solder resist or an interlayer insulating film and is capable of forming a highly precise pattern by suppressing bleeding caused after screen printing and sagging occurred during heating, and to provide its curing method and use.例文帳に追加
スクリーン印刷後に生じるブリードや加熱時に発生するダレを抑制して高精細なパターン形成の可能なソルダーレジストや層間絶縁膜に好適な熱硬化性のレジスト組成物、その硬化方法及び用途を提供する。 - 特許庁
To provide a method for preparing CAM data for an electronic circuit board in which the CAD data of a line conductor or a surface conductor can be converted appropriately and efficiently into the CAM data consisting of the plating widow of the exposure mask for pattern plating.例文帳に追加
線路導体や面導体のCADデータを、パターンメッキ用露光マスクのメッキウィンドウからなるCAMデータに適正かつ効率的に変換することができる電子回路基板用CAMデータ作成方法を提供する。 - 特許庁
When forming a film pattern by supplying the functional fluid to a substrate, this method consists of a process for forming a bank on the substrate, a process for supplying the functional fluid to an area partitioned by the bank, and a process for burning the bank.例文帳に追加
機能液を基板上に供給して膜パターンを形成する際、基板上にバンクを形成する工程と、バンクによって区画された領域に機能液を供給する工程と、バンクを焼成する工程とを経て形成する。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition which can suppress contamination of a lens barrel, which has high etching durability, which can solve problems about edge roughness or the like and which has having high sensitivity, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加
本発明は、鏡塔汚染を抑制可能でかつ高エッチング耐性を有し、エッジラフネス等の問題を解決でき高感度な、感光性組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a deposition mask having the excellent positional accuracy of a pattern part even with a body frame of low strength with a sash removed therefrom when manufacturing the deposition mask by affixing a metal mask on a screen fabric, and transferring the metal mask to the body frame.例文帳に追加
紗上にメタルマスクを貼り、このメタルマスクを本枠へ転写する蒸着マスクの製造にて、桟を取り除いた強度の低い本枠でも、パターン部の位置精度の良好な蒸着マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a thermosensitive recording material having higher color optical density, where a color development part and a non-color development part with a pattern formed thereon is in an appropriate range, while reducing deposits on a thermal head, and to provide a method for forming patterns using the same.例文帳に追加
発色濃度が高く、パターン形成後の発色部及び非発色部の光沢度が適正な範囲であり、かつサーマルヘッドへのカス付着の少ない感熱記録材料およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an undercoating layer forming material for lithography which has good storage stability, ensures excellence in the form of the lower portion of a resist pattern and solves the problem such as lowering of burying properties and occurrence of voids, and to provide a method for forming a wiring using the same.例文帳に追加
保存安定性が良く、レジストパターン下部の形状、埋め込み特性、およびボイドの発生という問題を改善したリソグラフィー用下層膜形成材料、およびこれを用いた配線形成方法を提供する。 - 特許庁
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