「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(398ページ目) - Weblio英語例文検索

This is a resist pattern surface modifying method to radiate either an ionizing radiation ray or a far-ultraviolet ray to the resist layer after forming asperities to increase the carbon-carbon bonding density at least on the outermost surface of the resist layer.例文帳に追加

凹凸パターン形成後のレジスト層に電離性放射線及び遠紫外光のいずれかを照射し、該レジスト層の少なくとも最表面部分の炭素−炭素結合密度を増加させるレジストパターンの表面改質方法である。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for positioning a magnetic head, which reduce influence of displacement of each burst pattern when the magnetic head is positioned based on amplitudes of burst signals read from a plurality of burst patterns.例文帳に追加

複数のバーストパターンから読み出されるバースト信号の振幅に基づいて磁気ヘッドの位置決めを行う際に、各バーストパターンの位置ずれの影響を低減することが可能な、磁気ヘッドの位置決め方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive film pattern having a fine structure, excellent in adhesiveness to a base material, form accuracy and reliability, formed requiring no complicated and costly equipment and steps and a method of forming the same.例文帳に追加

本発明の目的は、微細な形状を有し、基材との密着性や形状精度、信頼性に優れ、複雑、高価な設備、工程を必要とせずに形成する導電膜パターン及びその形成方法を提供することにある。 - 特許庁

The positive resist composition contains two kinds of resins each of which has a repeating unit selected from among general formulas (1) to (6) and has solubility in an alkali developing solution increased by action of an acid, and the pattern forming method is also provided.例文帳に追加

下記一般式（１）〜（６）から選ばれる繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を２種類含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法。 - 特許庁

The manufacturing method includes a film-forming process for forming a film 13 of silicon dioxide on the surface 11 of a die 1 having an irregular pattern 12, and a mold releasing agent formation process for applying a silane coupling agent to the surface of the film 13 of silicon dioxide.例文帳に追加

凹凸パターン１２を有する金型１の表面１１に二酸化ケイ素の膜１３を形成する成膜工程と、前記二酸化ケイ素の膜１３の表面にシランカップリング剤を塗布する離型剤形成工程とを含む。 - 特許庁

According to the method for manufacturing a thin-film magnetic head, an electron beam resist 49 is irradiated with an electron beam to form a resist layer 70 having a main pattern 72 and a plurality of projected parts 74 extended from its outer edge to the surroundings.例文帳に追加

本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、電子ビームレジスト４９に電子ビームを照射して、主パターン７２と、その外縁部から周囲に向かって延びる複数の突部７４とを有するレジスト層７０を形成する。 - 特許庁

To provide a method capable of forming both fine short pores and fine long pores in an appropriate shape, in case of manufacturing of a shadow mask with fine short pores and fine long pores with different lengths formed in a given pattern.例文帳に追加

長さの異なる微細短孔と微細長孔とが所定パターンで形成されたシャドウマスクを製造する場合において、微細短孔と微細長孔の両方共を適正形状に形成することができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a character generation processing method which is high in speed of modification character generation processing, is small in memory use size and font size required for a character pattern development region and enables character expression having designability assuring character quality.例文帳に追加

修飾文字生成処理が高速で、文字パターン展開領域に要するメモリ使用サイズやフォントファイルサイズが小さく、文字品質が確保されたデザイン性のある文字表現を可能とする文字生成処理方法を提供する。 - 特許庁

In a device manufacturing method and a lithographic apparatus in which a pattern is transferred from a patterning device onto a substrate, a measurement target is provided on the substrate in a process, enabling execution of a substrate measurement by using radiation of a first wavelength.例文帳に追加

パターンがパターニングデバイスから基板上に転写されるデバイス製造方法およびリソグラフィ装置では、計測ターゲットが第１波長の放射を使用して基板計測の実行を可能にする工程で基板上に提供される。 - 特許庁

This cutting method of the polyether sulfonic acid resin film is characterized by punching the polyether sulfonic acid resin film by installing a Thomson blade of one blade on a paper carton punching wooden pattern by inclining outward by 0.5 to 1 degree so that an edge comes to the inside.例文帳に追加

紙器打ち抜き用の木型に、片刃のトムソン刃を内側に刃先がくるようにし外側に０．５〜１度傾けて取り付け、ポリエーテルスルフォン樹脂フィルムを打ち抜くことを特徴とするポリエーテルスルフォン樹脂フィルムの切断方法。 - 特許庁

To provide an exposure device inspection method and an exposure device, capable of obtaining a highly accurate inspection result by forming a highly accurate transfer pattern and by acquiring diffraction light detection data, when inspecting the exposure device using a photo mask.例文帳に追加

フォトマスクを用いて露光装置の検査を行う際に、高精度な転写パターンを形成し、回折光検出データを取得し、高精度の検査結果を得ることが可能な露光装置の検査方法、及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a metal pattern having a high sensitivity to electroless plating, having an excellent homogeneity of a plated film, and retaining a high adhesion to a substrate even after a long-term storage under the condition of high temperature and high humidity.例文帳に追加

無電解めっき感度が高く、めっき被膜の均質性に優れ、高温・高湿環境下に長期間保存されても基板に対する密着性が高い金属パターンを得ることができる金属パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of forming a resin structure having a fine pattern comprises using a mold having a spigot structure in which a core is set so as to fit into a cavity, filling the cavity with a resin, and forming the resin under pressure.例文帳に追加

本発明の微細パターンを有する樹脂構造物の形成方法は、キャビティに嵌合するようにコアが設置されたインロー構造の金型を用いて、該キャビティ内に樹脂を充填して、該樹脂を加圧下で成形する工程を含む。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding light transmission window material and its manufacturing method, wherein a fine conductive pattern adhered firmly to a substrate can be formed on a transparent substrate composed of a synthetic resin such as PET or the like.例文帳に追加

ＰＥＴなどの合成樹脂よりなる透明基材上にも、微細でしかもしっかりと該基材に付着した導電性パターンを形成することができる電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

According to the method, the shape of a resist pattern being formed on an wafer can be predicted by numerical simulation without requiring any preliminary measurement or experiment for predicting diffusion phenomenon of acid in the heating process of resist following to exposure.例文帳に追加

この結果、レジスト露光後加熱の工程における酸の拡散現象を予測するために予備的な実測実験を行なうことなく、ウェーハ上に形成されるレジストパターン形状を数値シミュレーションにより予測することができる。 - 特許庁

To provide a narrow frame touch input sheet in which a narrow frame transparent conductive film pattern is suitable to a two-layer capacitance type touch sensor, a laminated narrow frame touch input sheet and a method for manufacturing a narrow frame touch input sheet.例文帳に追加

狭額縁で透明導電膜パターンが二層の静電容量式のタッチセンサーに適する狭額縁タッチ入力シート、積層狭額縁タッチ入力シート及び狭額縁タッチ入力シートの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and an apparatus for manufacturing a sheet in which a fine pattern is formed on the surface in which one cycle of heating and cooling of a mold is performed for a short time, and the temperature of a mold surface can be equalized simultaneously.例文帳に追加

金型の加熱と冷却の１サイクルを短時間で行い、同時に金型表面の温度を均一化することができる、微細パターンが表面に賦形されたシートの製造方法と製造装置を提供すること。 - 特許庁

In the method for manufacturing the decorative plate having an uneven surface pattern, after the chipboard 1 is impregnated with water 3 from the surface, an uneven part 4 is made on the surface by drying the surface and then the surface is subjected to color application.例文帳に追加

チップボード１の表面から水３を含ませた後、表面を乾燥させて表面に凹凸部４を生ぜしめ、しかる後、表面に着色塗装することを特徴とする表面凹凸模様を有する化粧板の製造方法。 - 特許庁

To provide a solid ink composition used for a printed mask, capable of being removed quickly and efficiently by a suitable alkaline solvent, to provide a printed mask formed from the composition, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

好適なアルカリ性溶媒で迅速且つ効率的に除去することが可能な、プリントマスクに使用される固形インク組成物、該組成物から形成されるプリントマスク、及び該組成物を使用するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a capacitor capable of increasing capacitance density, simplifying a manufacturing process, improving high frequency characteristics, and improving the versatility of a dielectric material without requiring pattern formation on a nano scale, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ナノスケールのパターン形成を必要とせずに、容量密度の向上，製造プロセスの簡略化，高周波特性の向上，誘電体材料の汎用性の向上を図ることができるコンデンサ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having excellent lithography characteristic, a new high molecular compound useful as a base material component of the positive type resist composition, and also to provide a method of forming a resist pattern using the positive type resist composition.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask inspection device and a mask inspection method which can accurately specify irregularity of a measurement region on a measured object with a shape of a pattern having multiple steps from a SEM image, and determine its structure exactly.例文帳に追加

多段のパターンで形成されている測定対象に対して、ＳＥＭ像から測定対象領域の凹凸を的確に特定し、その構造を正確に判定することのできるマスク検査装置及びマスク検査方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming method by which a coating film having good curability in a deep portion without a pattern defect and having high contrast and high image stability can be formed while preventing a developing solution from directly contacting a substrate.例文帳に追加

深部硬化性が良好でパターンの欠損がなく、高いコントラスト性と高い画像安定性を有する塗膜を、現像液が基材に直接触れることなく形成することが可能な画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a simple method for manufacturing an electromagnetic wave control material having excellent conductivity and including metal wiring that can be formed in a fine pattern as designed and has a uniform shape, and to provide an electromagnetic wave control material.例文帳に追加

簡便な製造方法でありながら、導電性に優れ、かつ金属配線を設計どおりの微細なパターンに形成可能であり、その形状が均一である電磁波制御材の製造方法及び電磁波制御材を提供する。 - 特許庁

To provide a composite picture forming method and apparatus for appropriately forming a composite picture according to the pattern condition of an overlapping domain in the case of forming a composite image.例文帳に追加

本発明は、合成画像を形成する場合に、重複領域のパターンの状態に応じて、適正に合成画像を形成することを目的とする合成画像形成方法、及び合成画像形成装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that is improved to prevent a modified resist surface layer from peeling when continuously performing dry etching and wet etching by the same resist pattern.例文帳に追加

同一のレジストパターンにより、ドライエッチングおよびウエットエッチングを連続的に行なう際に、変質したレジスト表面層を剥がれなくするように改良された、半導体装置の製造方法を提供することを主要な目的とする。 - 特許庁

To provide a novel molded coil with lead wires that does not crack or break a material covering lead wires even if a covering resin is molded in a metal pattern and that can decrease a production cost thereof, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

金型を用いて樹脂をモールドしても各リード線に被覆された被覆材が亀裂したり破断したりすることがないとともに生産コストを低減できる新規なリード線付モールドコイル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor light emitting device that can suitably pattern a semiconductor film by forming a mask having sufficient resistance to wet etching carried out when the semiconductor film is patterned.例文帳に追加

半導体膜をパターニングする際に行われるウェットエッチングに対して十分な耐性を有するマスクを形成することにより、半導体膜のパターニングを適切に行うことができる半導体発光装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus, an image processing method, and a computer program capable of simplifying a time and work of imaging a calibration pattern image and capable of highly accurately performing distortion correction in a wider range.例文帳に追加

キャリブレーションパターン画像の撮像の手間を簡略化することができるとともに、より広い領域にて高い精度でディストーション補正をすることができる画像処理装置、画像処理方法、及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

A pattern forming method of the present invention includes (A) forming a film with a resist composition; (B) exposing the film to light; and (C) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、（Ａ）レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（Ｂ）前記膜を露光することと、（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでいる。 - 特許庁

To provide a novel compound useful as an acid generator for resist composition, the acid generator formed of the compound, the resist composition containing the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition preferable for immersion exposure or alkali development, and also to provide a method of forming a resist pattern using the resist composition, and a fluorine-contained high molecular compound useful as an additive used in the resist composition.例文帳に追加

液浸露光用、またアルカリ現像用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素高分子化合物の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for preventing the deformation of a pattern in an STI region patterning process concerning a nonvolatile semiconductor integrated circuit device with a configuration where a plurality of transistor cells having a common gate are arranged like an array.例文帳に追加

共通ゲートを有する複数のトランジスタセルをアレー状に配置する構成を持つ不揮発性半導体集積回路装置において、ＳＴＩ領域のパターニング工程でのパターンの変形を防ぐ製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet for supporting and protecting a semiconductor wafer, and a method for grinding the back of the semiconductor wafer such that adhesion residue is effectively prevented owing to unevenness of a formation surface for a circuit pattern or the like of a recent semiconductor wafer.例文帳に追加

近年の半導体ウェハの回路パターン等の形成面における凹凸に起因する糊残りを効果的に防止することができる半導体ウェハ保持保護用粘着シート及び半導体ウェハの裏面研削方法を提供する。 - 特許庁

To provide a copper foil peeling method of a printed wiring board capable of improving accuracy of a peel strength test, and improving efficiency of a measuring work, by peeling off with a fixed width, a copper foil pattern for the peel strength test.例文帳に追加

ピール強度試験用の銅はくパターンを一定幅で引き剥がすことによりピール強度試験の精度の向上と測定作業の効率向上を実現できるプリント配線板の銅はく引き剥がし方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring substrate with high reliability including a highly-reliable conductor pattern and preventing cracks, disconnection, short circuit or the like, and to provide a method of efficiently manufacturing the wiring substrate.例文帳に追加

クラック、断線、短絡等の発生が防止された、信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を提供すること、前記配線基板を効率よく製造することのできる製造方法を提供すること。 - 特許庁

The gardening label is made up as a pattern diagram formed by re-sorting the plants and making them into patterns by a novel-format plant display method to solve the problem in a currently available gardening label.例文帳に追加

本発明は、現在提供されている園芸用ラベルに対して、新たな形式の植物表示方法によって植物を再分類してパターン化した模式図として提供することで課題を解決しようとするものである。 - 特許庁

To provide a method for simply, rapidly and accurately inspecting the disconnection or conductivity abnormality of the conductive pattern of a translucent conductive membrane without damaging the translucent conductive membrane being a measuring target.例文帳に追加

透光性導電性薄膜の導電性パターンの断線や導電性異常等を、簡便かつ迅速であり、更に測定対象の透光性導電性薄膜を傷つけることなく、正確に検査する方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing a garment includes: form-knitting pants (garment) 12; and printing a three-dimensional pattern 18 on the pants 12 mounted on a torso 10 by an ink-jet printer 16 mounted on the end of a robot arm 14.例文帳に追加

本発明の衣類の製造方法は、パンツ（衣類）１２を成型編みした後、トルソー１０に装着したパンツ１２に、ロボットアーム１４先端に取り付けたインクジェットプリンタ１６によって、立体的に絵柄１８のプリントを行う方法である。 - 特許庁

A plate-like member 3 is stuck on a support base board 1 via an adhesive layer 2, and plural cross-sectional pattern members 31, 32 and 33 are collectively formed by performing patterning up to penetrating through the plate-like member 3 by using a photolithography method.例文帳に追加

支持基板１上に接着層２を介して板状部材３を貼り付け、フォトリソグラフィー法を用いて板状部材３を貫通するまでパターニングして複数の断面パターン部材３１，３２，３３を一括して形成する。 - 特許庁

The pattern forming method comprises a step for forming an etching mask 2 on the surface of a substrate 1 of a sintered body material and a step for dry-etching the material through the etching mask 2 as a mask, wherein the cross sectional area of the etching mask 2 is a trapezoid.例文帳に追加

焼結体素材の基板１の表面にエッチングマスク２を形成する工程と、前記エッチングマスク２をマスクとしてドライエッチングする工程を含むパターン形成方法において、前記エッチングマスク２の断面形状が台形をなす。 - 特許庁

To provide a contact exposure method and an apparatus for obtaining a uniform exposure pattern with less unevenness by imparting simple alteration even when a conventional contact exposure apparatus using a light source having variance in luminance energy or irradiation direction.例文帳に追加

露光量バラツキや照射方向のバラツキのある光源を使用した従来のコンタクト露光装置場合でも、簡単な改造を施すだけで、ムラの少ない一様な露光パターンが得られるコンタクト露光方法及び装置の実現。 - 特許庁

To provide a building plate capable of providing color appearance of different colors and tones of color even in a protruded part of recessed and protruded pattern and providing complicated design appearance having reality and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

凹凸模様の凸部だけにおいても異なる色彩又は色調等の色外観を呈することができ，一層複雑でリアリティのある意匠外観を呈することができる建築板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method is characterized in coping with a problem, in which one character pattern is formed with the preprinted character and the printed character being overlaid, by presenting a character string column to be read with multiple hypotheses for a character slicing and also based on character string notation knowledge.例文帳に追加

読取り対象文字列行を文字切出し多重仮説で表現し、かつ文字列表記知識に基づき、プレ印刷文字と印字文字とが重なって１つの文字パタンとなる問題に対処することを特徴とする。 - 特許庁

To suppress occurrence of warpage and to improve electric and mechanical reliabilities with respect to a manufacturing method of an electronic device having a structure wherein a conductive pattern and a bump are connected, and with respect to the electronic device.例文帳に追加

本発明は導電パターンとバンプとを接続する構造を有する電子装置の製造方法及び電子装置に関し、反りの発生を抑制すると共に電気的接続の信頼性の向上を図ることを課題とする。 - 特許庁