「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(400ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has improved performance of Line Width Roughness and Depth of Focus and also adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and to provide a pattern forming method employing the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス、デプスオブフォーカスの性能が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition excelling in surface smoothness, heat resistance, toughness, developability and insulation, and to provide a curable film, a curable laminate, a permanent pattern forming method and a printed board that uses the curable composition.例文帳に追加

表面平滑性、耐熱性、強靭性、現像性及び絶縁性に優れた硬化性組成物、並びに、該硬化性組成物を用いた硬化性フィルム、硬化性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, a film of which even when cured at ≤250°C, after curing ensures physical properties comparable to those of a film cured at a high temperature, to provide a method of manufacturing a pattern-cured film using the resin composition, and to provide electronic components.例文帳に追加

２５０℃以下で硬化しても、硬化後の膜の物性が、高温で硬化したものと遜色ない性能が得られる感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたパターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a coated decorative plywood by which a decorative veneer allows a pattern of natural textile to stand out sharply and discoloration of the decorative veneer and reduction in the strength of the plywood caused by the influence of a base material are prevented.例文帳に追加

化粧単板に自然な風合いの模様を浮かび上がらせると共に、基材の影響による化粧単板の変色や合板強度の低下を防止できる塗装化粧合板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an embossed can body, which does not require alignment between a die and a printed pattern when embossing the can body, and by which embossing work can be performed on a can body of a circular truncated conical shape.例文帳に追加

エンボス加工に際して金型と印刷模様との位置合わせを必要とせず、また缶胴が円錐台形状の缶体についても缶胴にエンボス加工を施すことのできるエンボス加工缶体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a light-emitting device and a substrate for evaporation capable of improving accuracy of pattern formation of respective color EL layers when manufacturing a full-color flat panel display using red, green, and blue light-emitting colors.例文帳に追加

赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、各色のＥＬ層のパターン形成の精度を向上させることが可能な発光装置の作製方法及び蒸着用基板を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which improves LWR, development defects and DOF and is adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＬＷＲ、現像欠陥及びＤＯＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a narrow frame touch input sheet with a protection film and a laminate narrow frame touch input sheet with a protection film which are suitable for a capacitance type touch sensor with a narrow frame and a two-layered transparent conductive film pattern and a method for manufacturing them.例文帳に追加

狭額縁で透明導電膜パターンが二層の静電容量式のタッチセンサーに適する保護フィルム付き狭額縁タッチ入力シート、保護フィルム付き積層狭額縁タッチ入力シート及びこれらの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mist etching apparatus and a mist etching method which can also be applied even to a material to which etching processing is difficult and can obtain an excellent pattern shape in which side etching is suppressed and an etching processing surface is smooth.例文帳に追加

エッチング処理が困難な材料に対しても適用可能であり、サイドエッチングを抑制し、且つエッチング処理面が平滑である良好なパターン形状を得ることができるミストエッチング装置及びミストエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a resist pattern forming method capable of improving the sensitivity without deteriorating the resolution in lithography of a resist film with an ArF excimer laser, an F_2 excimer laser, an EUV, an electron beam, and the like.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_２エキシマレーザー、ＥＵＶ又は電子線等によるレジスト膜のリソグラフィーにおいて、解像性を損なわずに感度を向上させることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供できる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition containing nanoparticles excelling in dispersibility in both resin and a developing solution and having excellent transmissivity and patterning property, and to provide a photosensitive element using the photosensitive resin composition, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

樹脂中及び現像液中の双方でナノ粒子の分散性が良く、透過率、パターニング性に優れるナノ粒子を含有した感光性樹脂組成物及び、それを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method forms the coated resin layer being the ink flow passage wall thereon and dissolves and removes the photosensitive resin composition layer forming the ink flow passage pattern by irradiating the ionizing radiation of the second wavelength region after forming an ink discharge opening.例文帳に追加

そして、その上にインク流路壁となる被覆樹脂層を形成し、インク吐出口を形成後、第二の波長域の電離放射線を照射してインク流路パターンを形成している感光性樹脂組成物層を溶解除去する。 - 特許庁

The method of forming the resist patterns includes cleaning the resist pattern with a rinse liquid having a surface tension of ≤67×10^-3 N/m after selectively exposing and developing resist films formed on a substrate and having a film thickness of ≤50 nm.例文帳に追加

基板上に形成された、その膜厚５０ｎｍ以下であるレジスト膜を選択的に露光し、現像した後、表面張力が６７×１０^−３Ｎ／ｍ以下のリンス液で洗浄することを含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a split wavelength plate filter excellent in pattern accuracy, uniform thickness and in-plane uniformity and having high reproducibility and high productivity so as to accurately handle the pixel part of a stereoscopic picture display device.例文帳に追加

立体画像表示装置の画素部に対して正確に対応するように、パターン精度や均一厚み、面内均一性に優れ、かつ再現性及び量産性の高い分割波長板フィルターの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a method for facilitating tests by a frequency divider circuit that verifies a timing, even at test operation by adding a test circuit to the frequency divider circuit so as to reduce a test pattern and to obtain the frequency divider circuit with the test circuit.例文帳に追加

分周回路にテスト回路を追加することによりテストパタンを短縮化し、且つテスト動作時でもタイミング検証を可能にする分周回路によるテスト容易化方法及びテスト回路付き分周回路を提供する点にある。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in adhesion and resolution and suppressing the generation of scum and a photosensitive element useful for increasing the density of a printed wiring board, to provide a method for producing a resist pattern and to obtain a printed wiring board.例文帳に追加

密着性、解像度に優れ、かつスカムの発生を抑える感光性樹脂組成物を提供し、さらにプリント配線板の高密度化に有用な感光性エレメント、レジストパターンの製造法およびプリント配線板を得る。 - 特許庁

The manufacturing method of the patterned medium is characterized in that a seed layer on a substrate is patterned using a bit pattern stamper formed by utilizing self-organization of a self-organized material in track patterns and the magnetic layer is provided on the seed layer.例文帳に追加

トラックパターン内での自己組織化材料の自己組織化を利用して作製したビットパターンスタンパを用いて、基板上のシード層をパターン化し、該シード層上に磁性層を設けることを特徴とするパターンドメディアの製造方法。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for accurately and efficiently forming a magnetized pattern, and to provide an inexpensive magnetic disk and a low-cost magnetic recorder in a short time.例文帳に追加

磁化パターン形成方法及び磁化パターン形成装置において、微細な磁化パターンを効率よく更に精度よく形成することができるようにし、ひいては、磁気ディスク及び磁気記録装置において、短時間かつ安価に提供できるようにする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a printed board of good conductivity for forming a circuit pattern of a high density and turning a conductor layer formed inside a via hole and a through-hole to a sufficient thickness.例文帳に追加

高密度の回路パターンを形成することを可能とすると共にビアホール内及びスルーホール内に形成する導体層を十分な厚みにすることができる、電気的導通の良好なプリント基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To generate a switching pattern that is superior in reduction of harmonic noise and the number of switching times in an AC-AC direct converter which controls a bidirectional switch by a spatial vector modulation system, using a control method of virtual DC link control system.例文帳に追加

制御法を仮想ＤＣリンク方式とし、空間ベクトル変調方式で双方向スイッチを制御する交流−交流直接変換装置において、高調波ノイズやスイッチング回数の低減に優れたスイッチングパターンを生成する。 - 特許庁

To provide a process for producing an electromagnetic wave shielding/light transmitting window material in which a conductive pattern of small and uniform linewidth can be formed stably, and to provide an electromagnetic wave shielding/light transmitting window material produced by that method.例文帳に追加

線幅が小さくて均一な導電性パターンを安定して形成することができる電磁波シールド性光透過窓材の製造方法と、この方法によって製造された電磁波シールド性光透過窓材を提供する。 - 特許庁

The pattern forming method in which the positive resist composition is used contains two kinds of resins containing specific repetitive units with alicylic groups, and (B) compound generating an acid upon being irradiated with active rays or radiation rays.例文帳に追加

脂環基を有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂を２種、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a nail art operating apparatus which is capable of accurately drawing an image in a short time and in which the structure of the apparatus itself does not become complicated even when a user can select a pattern among a number of patterns, and a nail art operating method.例文帳に追加

画像を精度よく短時間に描くことができ、多くの図柄からユーザが選択できるようにした場合にも装置自体の構造が複雑にならない、ネイルアート施術装置、及びネイルアート施術方法の提供を目的とする。 - 特許庁

After the conductive paste is printed on the surface of a glass substrate by an intaglio offset printing method, the conductive paste is baked at the same time when the glass substrate is reinforced by heating it to form the conductive pattern.例文帳に追加

製造方法は、前記導電性ペーストを、凹版オフセット印刷法によってガラス基板の表面に印刷したのち、加熱して前記ガラス基板を強化処理するのと同時に導電性ペーストを焼成して導電パターンを形成する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus, an image processing method, an image processing program, and a recording medium for switchably controlling whether to change image data on the basis of authentication information of a user when a pattern of an original image is detected.例文帳に追加

原稿画像のパターンを検知した場合に使用者の認証情報に基づいて、画像データを変更するか否かを切り替えるよう制御する画像処理装置、画像処理方法、画像処理プログラムおよび記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a flash memory device having a bar resistance measuring pattern capable of measuring a bar resistance having a stable value by suppressing influence on a parasitic interface as much as possible, and to provide a method forming the same.例文帳に追加

寄生インタフェース抵抗に対する影響を極力抑えることにより、安定した値を有するバー抵抗を測定することが可能なバー抵抗測定パターンを有するフラッシュメモリ素子およびその形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having excellent sensitivity, resolution and adhesion property as a mask material for sand blasting with which a fine pattern can be worked with high yield in a base material to be worked, and to provide a method of sand blast surface working by using the laminate.例文帳に追加

感度、解像度、密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for supplying an alkaline developing solution, in which a deterioration state of an alkaline developing solution can be reliably evaluated, dimensional accuracy of a resist pattern can be maintained fully and deterioration in cost benefit can be prevented.例文帳に追加

アルカリ系現像液の劣化状態を確実に見極めることができ、レジストパターンの寸法精度を充分に確保でき、経済性の悪化をも抑止できるアルカリ系現像液供給方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

A manufacturing method of a patterned retarder includes a light alignment stage to position, on an alignment layer, a polarization filter 20 with light shielding parts 21 and wire grid pattern parts 22 repeatedly formed and to apply light from above the polarization filter 20 for alignment.例文帳に追加

配向膜の上部に光遮断部２１とワイヤーグリッドパターン部２２が繰り返し形成された偏光フィルター２０を位置させ、偏光フィルター２０の上部から光を照射して配向させる光配向段階を含む。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer substrate on which conductor patterns causing no disconnection or short circuit, particularly, a portion for connecting end portions of respective conductor pattern layers, can be formed with a required thickness and line width and favorable location accuracy.例文帳に追加

断線やショ—トを生じることのない導電体パタ—ン、特に導電体パ夕—ン各層の端部接続部を所望の厚みおよび線幅にかつ位置精度よく形成することができる多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a projection aligner and a method for fabricating a semiconductor element suitable for fabrication of such a semiconductor element as high resolution projection alignment is ensured by selecting an optimal illumination system depending on the direction, line width, and the like, of a pattern shape.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a high-quality pattern-forming body which makes only an objective region accurately liquid-phobic, when forming liquid-philic and liquid-phobic patterns utilizing plasma irradiation.例文帳に追加

本発明は、プラズマ照射を利用して、親液性および撥液性のパターンを形成する際、目的とする領域のみ、高精細に撥液性とされた、高品質なパターン形成体の製造方法を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus, image processing method, image processing program and recording medium in which visibility of plotting elements in an original image can be kept appropriate when superimposing a predetermined pattern on the original image.例文帳に追加

原稿画像に所定のパターンを重畳させる際に、原稿画像における描画要素の視認性を適切に保つことのできる画像処理装置、画像処理方法、画像処理プログラム及び記録媒体の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method capable of accurately inspecting very small foreign matter and pattern defects which occur in manufacturing processes at high speed in a device manufacturing process for forming circuit patterns on substrates of semiconductor devices etc.例文帳に追加

半導体デバイス等の基板上に回路パターンを形成するデバイス製造工程において、製造工程中に発生する微小な異物やパターン欠陥を、高速で高精度に検査できる装置および方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photo-acid generating agent which enhances transparency and can prevent the lowering of sensitivity and of thermal stability, a photoresist composition containing the photo-acid generating agent and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

透明性を向上させた上で、感度及び熱安定性の低下を防止することができるようにした光酸発生剤及びそれを含有するフォトレジスト組成物、並びに該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The optical waveguide having a square core part with a flat upper face of the core is produced by forming a groove pattern deeper than the core depth by a glass molding method and then filling the groove with a resin material having large cure shrinkage.例文帳に追加

ガラス成形工法によりコア部深さよりも深い溝形状を形成し、硬化収縮の大きい樹脂材料を充填することによって、コア部上面の平坦な矩形のコア部を有する光導波路を作製する。 - 特許庁

To provide a method for forming a negative type pattern which is transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light, does not swell while having such a chemical structure as to ensure high dry etching resistance and has superior resolution.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmを含む遠紫外線領域で透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new method for producing such an alkaline earth thioaluminate-based fluorescent compound that only the diffraction pattern of a perfect alkaline earth thioaluminate compound is detected and no other substances' diffraction patterns are recognized in the X-ray diffractometry.例文帳に追加

Ｘ線回折分析において完全なアルカリ土類チオアルミネート化合物の回折パターンのみ検出され、他の物質の回折パターンが認められないアルカリ土類チオアルミネート系蛍光体化合物の新規な製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a mold and a molding method which enable molding of a molded body of an almost prescribed thickness even when a material charge is excessive and enable also molding of the molded body having a clear-cut indentation pattern (design).例文帳に追加

原料チャージ量が過大であっても略規定厚みの成形体を成形することが可能であり、鮮明な凹凸模様（意匠）を有した成形体を成形することも可能な成形型及び成形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a boiler and a steam temperature adjusting method for the boiler, which perform an efficient operation by adjusting the pattern of the flow of a combustion gas generated in combustion of a burner and controlling the temperature of the steam produced in a superheater.例文帳に追加

バーナの燃焼で発生した燃焼ガスの流れのパターンを調整し、過熱器で生成される蒸気の蒸気温度を制御し、効率的な運転を可能としたボイラ及びボイラの蒸気温度調整方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask capable of obtaining a display of a deposition pattern achieving high brightness, and preventing its own deformation, as well as a manufacturing method of the display manufactured by using the mask.例文帳に追加

本発明の目的は、本発明の目的は、高輝度を実現可能な蒸着パターンのディスプレイを得ることができ、マスクの変形を防止することができるマスク、及びマスクを使用して製造するディスプレイの製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a tire performance simulation method more excellent in analysis precision than a conventional one by using a tire model 10 capable of reproducing transformation flexibility of a tread part model 12 more faithfully where a tread pattern is engraved.例文帳に追加

トレッドパターンが刻まれたトレッド部モデル１２の変形自由度をより忠実に再現することができるタイヤモデル１０を利用することによって、従来と比較して解析精度が優れたタイヤ性能シミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printing method and its apparatus which can prevent misregistration between the print object area on a substrate and a print pattern forming area to be printed actually caused by the size variation of the print object area in the substrate.例文帳に追加

基板における印刷対象領域のサイズのばらつきによる基板上の印刷対象領域と実際に印刷される印刷パターン形成領域とのずれを防止することができる印刷方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide the dual gate forming method of a semiconductor device for removing a photoresist film pattern for use as an ion implantation mask film without a residue and preventing a water mark generated in a cleaning step for the removal of a natural oxide film.例文帳に追加

イオン注入マスク膜として用いられるフォトレジスト膜パターンを残留物なしに除去し、自然酸化膜除去のための洗浄工程で発生するウォーターマークを防止する半導体素子のデュアルゲート形成方法を提供する。 - 特許庁

This invention relates to (A) a polymerizable imide monomer represented by general formula (1) (wherein R is H or methyl), (B) a photosensitive polymer, (C) a photocuring composition including a photoinitiator, a pattern production method using the composition and an electronic component.例文帳に追加

（Ａ）一般式（１）［式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示す］で表される重合性イミド単量体、（Ｂ）感光性ポリマー及び（Ｃ）光開始剤を含む光硬化性組成物、これを用いたパターンの製造法並びに電子部品。 - 特許庁