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pattern on patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 29471件
To provide a solar dial for timepiece having a three-dimensional pattern layer on which an irregular pattern having a depth appears and by which a high-quality impression can be felt.例文帳に追加
深みを持った凹凸模様を出現させて高級感を感じさせる立体的模様層を有する時計用ソーラ文字板を提供する。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive resin composition capable of being cured by heat treatment at ≤300°C, and to form a cured relief pattern having chemical resistance in the pattern after curing on a substrate.例文帳に追加
300℃以下の熱処理による硬化が可能であり、硬化後のパターンに耐薬品性を有する硬化レリーフパターンを基板上に形成する。 - 特許庁
To provide a pattern manufacturing system for suppressing irregularity of line width of a pattern line on a both-face substrate, and to provide an exposure device and an exposure method.例文帳に追加
両面基板におけるパターン線の線幅のばらつきを抑えることができるパターン製造システム、露光装置、及び露光方法を提供する。 - 特許庁
The ornament is attached to the nail, has a display section to change the color and the pattern on a surface, and changes the display section with an electromagnetic means or the like to retain the pattern.例文帳に追加
爪に装着し,表面に色、模様を変更する表示部を有し、この表示部を電磁手段等により、変更してその模様を保持する装着具。 - 特許庁
This exposure device is provided with the blind device 10 regulating the illuminating area of a mask R having a pattern, and a pattern image transmitted through the illuminating area is exposed on a base plate P.例文帳に追加
パターンを有したマスクRの照明領域を規定するブラインド装置10を備え、照明領域を透過したパターン像を基板Pに露光する。 - 特許庁
Accordingly, when exposure (pattern transfer on the substrate) is performed in this state, an immersion method is applied and a pattern is transferred with good precision onto the substrate.例文帳に追加
従って、この状態で露光(パターンの基板上への転写)を行うことにより、液浸法が適用されて精度良く基板上にパターンが転写される。 - 特許庁
At stops of the reel rotation, optical images 46 of the patterns allotted in the pattern areas 42 are projected on the projection parts 42c of the pattern areas 42.例文帳に追加
リールが回転を停止したときは、図柄領域42の投影部42cにその図柄領域42に割り当てられている図柄の光学像46を投影する。 - 特許庁
The gradient direction of the relief pattern, on the surface of the glass 2, which becomes a pattern of the ultraviolet-curable resin 3, proceeds to the center of the concentric circle from its peripheral edge.例文帳に追加
紫外線硬化型樹脂3の型にもなるガラス2の表面のレリーフパターンの傾斜の方向は、同心円の周縁部から中心部に向かっている。 - 特許庁
To obtain a wide margin of the depth of focus upon exposure for forming a resist pattern, and to form a resist pattern in a desired shape on a resist undercoat film.例文帳に追加
レジストパターン形成時の露光におけるフォーカス深度マージンが広く、且つレジスト下層膜上に所望の形状のレジストパターンを形成することを目的とする。 - 特許庁
To provide a color cathode-ray tube in which occurrence of doming is prevented and in which a black lateral stripe pattern or a bright lateral stripe pattern is not visually observed on a screen.例文帳に追加
ドーミングの発生が防止され、且つ、画面上に、黒い横縞模様や明るい横縞模様が視認されないカラー陰極線管を提供する。 - 特許庁
Since edge portions of the magnetic medium 15 make no contact with the pattern surface 21a of the substrate 21, the lead conductor disposed on the pattern surface 21a will not break.例文帳に追加
磁気メディア15のエッジ部分が基板21のセンサパターン面21aに当接しないため、センサパターン面21aに配設されたリード導体が断線しない。 - 特許庁
The formation of the minute pattern is performed by use of a metal mold 2 having a minute pattern by recessed parts 18 formed on a surface by photolithographic technique as a die.例文帳に追加
そして、微細模様の形成は、表面にフォトリソグラフィ技術を用いて凹部18による微細模様を形成した金型2を型として用いて行う。 - 特許庁
To provide a negative type resist composition excellent in pattern shape, having low dependency of pattern size on post-exposure baking temperature and excellent also in sensitivity and resolution.例文帳に追加
パターン形状に優れ、パターン寸法の露光後ベーク温度依存性が小さく、また、感度や解像性にも優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
Shift of the head is calculated based on the distance from the detected position of each pattern element to the detected position of the pattern element of a reference head.例文帳に追加
各パターン要素が検出された位置から基準ヘッドのパターン要素が検出された位置までの距離に基づいてヘッドのずれ量を算出する。 - 特許庁
An inversion pattern (2nd inversion pattern) 23 is only formed of silicon rubber of, for example, approximately 10 mm in thickness and has many fine projections 25 formed on one surface.例文帳に追加
反転型(第2の反転型)23は、例えば厚さ10mm程度のシリコンゴムで形成されれば良く、一面に多数の微細な突起25が形成されている。 - 特許庁
A pattern defect of the absorbing film 4 is corrected, and then, the thickness of the buffer film 3 on a portion below the pattern defect is thinned to form a film thin portion 5.例文帳に追加
吸収膜4のパターン欠陥を修正した後、パターン欠陥の下方にある部分の緩衝膜3の膜厚を薄くして膜薄部5を形成する。 - 特許庁
To set arbitrary sensitivity by reducing the influence of a position shift of an inspection pattern on a pattern inspecting device, the contraction of a base material, etc.例文帳に追加
パターン検査装置において検査パターンの位置ずれや基材の収縮等による影響を少なくし、任意の感度を設定できるようにすること。 - 特許庁
A robot motion selection part 78 selects a robot motion pattern having the highest similarity from the robot motion pattern storage part 75 on the basis of a comparison result.例文帳に追加
その比較結果に基づいて、ロボット運動選択部78は、最も類似性の高いロボット運動パターンをロボット運動パターン記憶部75から選択する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a panel for information display in which a pattern electrode is easily formed and the pattern electrode can be formed on a substrate at low cost.例文帳に追加
パターン電極の形成が容易で、安価にパターン電極を基板上に形成することのできる情報表示用パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁
To measure the registration precision of a resist pattern to a reference layer (a resist pattern formed through a thin film on the reference layer) with high precision.例文帳に追加
基準層に対するレジストパターン(基準層の上に薄膜を介して形成されたレジストパターン)の重ね合わせ精度の測定を高い精度で行う。 - 特許庁
Moreover, since discharging is performed perpendicularly to the insulating substrate, the wiring pattern is not affected by dust or defects on the insulating substrate and no faulty pattern is formed.例文帳に追加
また、絶縁基板に対して垂直に吐出することで、ほこりや絶縁基板に存在する欠陥に影響されず、パターン不良を発生させない。 - 特許庁
On the top of a semiconductor substrate 100, there are formed a first mask pattern 121 and a second mask pattern 123 which includes a corner portion 125 having a curved inner side.例文帳に追加
半導体基板100の上部に、第1マスクパターン121及び内側が湾曲するコーナー部125を含む第2マスクパターン123が形成される。 - 特許庁
A sameness determination part 50 determines the sameness between the surface pattern and the reference pattern, based on the similarity degree calculated by the similarity degree calculation part 48.例文帳に追加
同一性判定部50は、類似度算出部48が算出した類似度に基づき、上記基準パターンと表面パターンとの同一性を判定する。 - 特許庁
This light-emitting device is provided with a substrate 2 having a wiring pattern 5 and having a silver mirror plating layer 9 formed on a predetermined region including the wiring pattern 5.例文帳に追加
本発明の発光装置は、配線パターン5を有し配線パターン5上を含む所定の領域に銀鏡メッキ層9が形成された基板2を備えている。 - 特許庁
In the belt member 200 having the magnetic layer 202 on which the magnetized pattern is written, the magnetized pattern is read by the magnetic head.例文帳に追加
かかる磁化パターンを書き込んだ磁性層202を有するベルト部材200においては、その磁化パターンを磁気ヘッドによって読み込ませることができる。 - 特許庁
Edge detection is performed for a fine pattern exposed by a stepper and the profile of each individual pattern is detected on the surface and bottom surface of resist.例文帳に追加
ステッパにより露光した微細パターンに対しエッジ検出を行い、個々のパターンに対してレジスト表面及び底面におけるパターン形状を検出する。 - 特許庁
The wiring board 1 comprises a base substrate 10, a wiring pattern 20 formed on the base substrate 10, and a resin layer 30 which partially covers the wiring pattern 20.例文帳に追加
配線基板1は、ベース基板10と、ベース基板10に設けられた配線パターン20と、配線パターン20を部分的に覆う樹脂層30とを含む。 - 特許庁
This suppresses partial trailing or production of an undercut part due to the dense or sparse state of the pattern and realizes high accuracy resist patterning without depending on the density of the pattern.例文帳に追加
パターンの疎密による部分的なパターンの裾引きやアンダーカットの発生を抑制し、パターンの疎密にかかわらず精度の高いレジストのパターニングが可能になる。 - 特許庁
A latent image after being formed by exposing a pattern area by converting a laser beam 8 for exposure on the upper layer is developed to form a pattern.例文帳に追加
露光用のレーザービーム8を上層に集光し、パターン領域を露光して潜像を形成した後、該潜像を現像液で現像してパターンを形成する。 - 特許庁
The wiring board comprises a base substrate 10, a wiring pattern 20 formed on the base substrate 10, and a resin layer 30 which partially covers the wiring pattern 20.例文帳に追加
配線基板は、ベース基板10と、ベース基板10に設けられた配線パターン20と、配線パターン20を部分的に覆う樹脂層30とを含む。 - 特許庁
To manufacture a master carrier having a pattern of soft magnetic layer accurately corresponding to the fine pattern on a substrate and to realize a magnetic transfer having a high transferring quality.例文帳に追加
基板の微細パターンに正確に対応した軟磁性層によるパターンを有するマスター担体を作成し、転写品質の高い磁気転写が行えるようにする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device and a method for preparing mask pattern data by which a pattern shape to be formed on a wafer can be stabilized.例文帳に追加
ウエハ上に形成されるパターンの形状を安定させることが可能な半導体装置の製造方法、マスクパターンデータ作成方法を提供する。 - 特許庁
To improve the manufacturing yield of a semiconductor device by preventing formation of an error pattern in a resist pattern by reducing fine residue on a semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板上の微小残渣を低減して、レジストパターンにおける不正パターンの形成を防止し、半導体装置の製造歩留まりを向上させる。 - 特許庁
The surface of the food 6 is selectively irradiated with a laser beam L according to a given image pattern and the image pattern is formed on the surface of the food 6.例文帳に追加
与えられた画像パターンに応じて食品6の表面に選択的にレーザ光Lを照射し、食品6の表面に画像パターンを形成する。 - 特許庁
To prevent a fine pattern formed on a substrate from collapsing by inhibiting the processing liquid from coming out of the tip side of the fine pattern.例文帳に追加
処理液が微細パターンの先端側から抜けるのを抑制することにより、基板に形成された微細パターンの倒壊を防止することができる。 - 特許庁
A predetermined conductor pattern (wiring pattern) 2 consisting of copper is formed on an insulating layer 1 including a base resin layer 1a and a base adhesive layer 1b.例文帳に追加
ベース樹脂層1aおよびベース接着剤層1bからなる絶縁層1上に、銅からなる所定の導体パターン(配線パターン)2が形成されている。 - 特許庁
This kraft paper 1 having the fibrous pattern containing the fibers 3 of a waste hemp bag as a component and having the fibrous pattern by the fibers 3 of the waste hemp bag on its surface is provided.例文帳に追加
廃麻袋の繊維3を組成分として含有し、表面に該廃麻袋の繊維3による繊維模様を有する繊維模様付きクラフト紙1。 - 特許庁
An inter-board connection electrode wiring pattern similar to the signal line take-out electrode wiring pattern is formed on the surface of the connection substrate.例文帳に追加
接続基板の表面には、信号線取り出し電極配線パターンと同一パターンの基板間接続用電極配線パターンが形成されている。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of simultaneously forming a wiring pattern and a via pattern on one copper film using anisotropic etching.例文帳に追加
異方性エッチングを利用して、1つの銅膜に配線パターンとビアパターンとを同時に形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The image forming device forms a predetermined toner pattern on a photoreceptor drum 3 in a non-printing state and transfers the toner pattern to an intermediate transfer belt 2.例文帳に追加
画像形成装置は,非印字動作中に,感光体ドラム3上に所定のトナーパターンを形成し,そのトナーパターンを中間転写ベルト2上に転写する。 - 特許庁
In the reverse demodulation step, channel bit strings up to the first synchronization pattern is demodulated based on the second synchronization pattern, and the second demodulation data string is output.例文帳に追加
逆向復調ステップでは、第2同期パターンを基点として第1同期パターンまでのチャネルビット列が復調され、第2復調データが出力される。 - 特許庁
To form an upper layer silylation pattern of a fixed thickness without depending on the thickness of an upper layer resist film or a fine width of an upper layer silylation pattern.例文帳に追加
上層レジスト膜の膜厚、又は上層シリル化パターンの線幅に依存することなく、上層シリル化パターンを一定の膜厚で形成する。 - 特許庁
Positions of a phase shifter 106 to a phase shifter 109 are determined based on the layout data with the underlay pattern 102 and the dummy underlay pattern 105 placed.例文帳に追加
下層パターン102及びダミー下層パターン105が配置されたレイアウトデータを基に位相シフタ106から位相シフタ109の配置を決定する。 - 特許庁
A first anode terminal 6a and a first cathode terminal 6b are connected to an anode pattern 7a and a cathode pattern 7b formed on a substrate 9.例文帳に追加
第一の陽極端子6aと第一の陰極端子6bを、基板9に形成された、陽極パターン7a及び陰極パターン7bに接続する。 - 特許庁
To improve accuracy in controlling amount of shrink by preventing dependence on pattern density in shrinking a photoresist pattern with shrinking technology utilizing thermal flow.例文帳に追加
サーマルフローを利用したシュリンク技術によって、フォトレジストパターンをシュリンクする際のパターン密度依存性を防止し、シュリンク量の制御精度を向上する。 - 特許庁
Timing to change the scroll direction thus becomes random based on relation between the reversed pattern number when the reach condition is decided and the expected stopped pattern.例文帳に追加
これにより、リーチ状態決定時における逆転図柄数と予定停止図柄との関係に基づいて、スクロール方向を切換えるタイミングがランダムになる。 - 特許庁
Since the evaluation is performed by using a circuit design value and actual pattern layout data, the more precise and highly accurate evaluation based on the actual pattern layout is performed.例文帳に追加
回路設計値と実際のパターンレイアウトデータを用いて評価するので、実際のパターンレイアウトに即した、より正確で高精度な評価が行える。 - 特許庁
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