「pattern s」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

METHOD FOR MEASURING PITCH OF L/S PATTERN例文帳に追加

Ｌ／Ｓパターンのピッチを測定する方法 - 特許庁

An in-database frequency p(s) calculation part 2 computes ratios of the occurrence frequency of a state sequence pattern s to the occurrence frequencies of "elements t of T[s]" of pattern subsets T[s] of the state sequence pattern s.例文帳に追加

データベース内度数ｐ（ｓ）の計算部２は、状態列パターンｓの部分パターン集合Ｔ〔ｓ〕の要素ｔ∈Ｔ〔ｓ〕の出現頻度に対する状態列パターンｓの出現頻度の比を求める。 - 特許庁

A layer of a resin laminate (1) is provided on a surface of a substrate S to form a pattern.例文帳に追加

基板(S) 面に樹脂積層体(1) の層を設けてパターンを形成する。 - 特許庁

To enhance the resolution and contrast of the L/S pattern of a photoresist pattern.例文帳に追加

フォトレジストパターンのＬ／Ｓパターンの解像度及び対照比を向上させる。 - 特許庁

The L/S pattern includes an L/S pattern of a period P_1 satisfying λ/NA<P_1<2λ<NA and an L/S pattern of a period P_2 satisfying 1.2P_1<P_2<1.6P_1.例文帳に追加

Ｌ／Ｓパターンには、λ／ＮＡ＜Ｐ_１＜２λ／ＮＡを満たす周期Ｐ_１のＬ／Ｓパターンと、１．２Ｐ_１＜Ｐ_２＜１．６Ｐ_１を満たす周期Ｐ_２のＬ／Ｓパターンとが含まれる。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device enhanced in S/N ratio, and a pattern inspection method.例文帳に追加

Ｓ／Ｎ比が高いパターン検査装置及びパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

A tetragonal lattice pattern 9 is formed in a photoresist by carrying out first exposure through an L/S pattern and a second exposure through an L/S pattern inclined from the above L/S pattern by 90° with an optical exposure system.例文帳に追加

光学露光装置を用いて、 Ｌ／Ｓパタ−ンにより第１の露光を行い、これと９０°傾けたＬ／Ｓパタ−ンにより第２の露光を行ってフォトレジストに正方格子パターン９を露光する。 - 特許庁

DESCRIPTION Output pieces of FILE separated by PATTERN(s) to files `xx01', `xx02', . 例文帳に追加

pattern引き数で指定される行が入力ファイルに存在しない場合はエラーとなる。 - JM

The candidate information S includes a pattern specified by a pattern specifying command.例文帳に追加

この候補情報Ｓは、図柄指定コマンドで指定された図柄を含んで構成されている。 - 特許庁

Whether mask pattern data are right or not is verified by comparing the L/S obtained by measuring a dimension in each line pattern group with a L/S pattern specification table.例文帳に追加

各線パターン集合を測長して得られるＬ／Ｓと、Ｌ／Ｓパターン仕様テーブルと、を比較することによって、マスクパターンデータが正しいかどうかを検証する。 - 特許庁

A signal processing part 334 obtains a distance S between the receiver 31 and an ear of a user (the degree of closure of an ear hole) on the basis of the reflection signal D(n) and a sound source signal X(n), and a correction pattern determination part 335 outputs a correction pattern P(S) corresponding to the distance S.例文帳に追加

そして反射信号D(n)と音源信号X(n)に基づいて、信号処理部３３４が、レシーバ３１とユーザの耳との距離S（耳穴の密閉度）を求め、補正パターン決定部３３５が、この距離Sに応じた補正パターンP(S)を出力する。 - 特許庁

A pattern S returning all operation oil of a pilot circuit to a tank is integrated as a pattern of the pattern changer changing over the operation pattern of operation patterns 21, 22.例文帳に追加

操作レバー21,22の操作パターンを切り替えるパターンチェンジャの一のパターンとして、パイロット回路の作動油をすべてタンクに戻すパターンＳを組み込んだ。 - 特許庁

In the diaphragm of the relay lens group 1b, a slit pattern S is inserted.例文帳に追加

リレーレンズ群１ｂの絞りには、スリット状パターンＳが挿入される。 - 特許庁

A formation method of self-aligned double pattern is capable of providing a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) processing.例文帳に追加

本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)処理を用いた基板処理方法を供することができる。 - 特許庁

A formation method of self-aligned double pattern of the present invention is capable of providing a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) processing.例文帳に追加

本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)処理を用いた基板処理方法を供することができる。 - 特許庁

On a surface Sa of a sheet S, a solid image test pattern TPa is formed.例文帳に追加

シートＳの一方面Ｓａに、ベタ画像テストパターンＴＰａを形成する。 - 特許庁

A wiring pattern 44 is formed in at least the first region s 48.例文帳に追加

配線パターン４４は、少なくとも第１領域４８に形成されている。 - 特許庁

An unexpectedness measure calculation part 4 computes measures I(s) of unexpectedness according to the in-database frequencies p(s), the assumed frequencies q(s), and relative occurrence frequencies of the "elements t of T[s]" in the pattern subsets T[s].例文帳に追加

意外性尺度の計算部４は、データベース内度数ｐ（ｓ）と想定度数ｑ（ｓ）と、部分パターン集合Ｔ〔ｓ〕内での要素ｔ∈Ｔ〔ｓ〕の相対出現頻度に基づき意外性の尺度Ｉ（ｓ）を求める。 - 特許庁

The pattern of the resist 11 is recessed by a distance S by a dry etching method.例文帳に追加

次に、ドライエッチングによってレジスト１１のパターンを距離Ｓだけ後退させる。 - 特許庁

The patterning apparatus so removes a processing object material S provided in a base material P as to pattern it.例文帳に追加

基材Ｐに設けられた処理対象材Ｓを除去してパターニングする。 - 特許庁

The sheet for forming an electrode is used to form a pattern by providing the layer of a resin lamination body 1 on the surface of a substrate S.例文帳に追加

基板(S) 面に樹脂積層体(1) の層を設けてパターンを形成するための電極形成用のシートである。 - 特許庁

A first exposure is made with an optical aligner using an L/S pattern, and a second exposure is made using the same L/S pattern but 90° tilted to expose a square lattice pattern 9 on a photoresist film.例文帳に追加

光学露光装置を用いて、 Ｌ／Ｓパタ−ンにより第１の露光を行い、これと９０°傾けたＬ／Ｓパタ−ンにより第２の露光を行ってフォトレジストに正方格子パターン９を露光する。 - 特許庁

The film thickness inspection device detects a relative position of the minute spot S to the color pattern P and images the minute spot S on the color pattern P with the moving means 25 on the basis thereof.例文帳に追加

カラーパターンＰに対する微小スポットＳの相対位置を検知して、これに基づいて移動手段２５にて微小スポットＳをカラーパターンＰ上に結像させる。 - 特許庁

The synchronization pattern is inserted into a signal S44 by a P/S conversion circuit 45 and a synchronization processing is performed based on the synchronization pattern by an S/P conversion circuit 51 on the receiving side.例文帳に追加

Ｐ／Ｓ変換回路４５で、信号Ｓ４４に同期パターンを挿入し、受信側のＳ／Ｐ変換回路５１で当該同期パターンを基に同期処理を行う。 - 特許庁

When a pattern displaying the screen S becomes either of a grand opening, a middle opening and a small opening, the screen S opens to expose the main pattern.例文帳に追加

また、障子Ｓ表示パターンが大開放、中開放、および小開放のいずれかとなった場合に、障子Ｓが開放してメイン装飾図柄が露出表示される。 - 特許庁

When the screen S closes, a stop display pattern d is displayed in the front of the screen S, announcing a stop display of the main pattern to the player.例文帳に追加

さらに、障子Ｓが閉じている際には、障子Ｓの前面に停止表示図柄ｄが表示され、メイン装飾図柄が停止表示されたことを報知している。 - 特許庁

the controller 10 transmits a local transmission pattern to each of the units M, S in a communication setting state by the global transmission pattern.例文帳に追加

コントローラ１０はグローバル伝送パターンによる通信設定状態で、ローカル伝送パターンを各ユニットＭ，Ｓに送信する。 - 特許庁

To provide a formation method of self-aligned double pattern capable of improving a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) procedure and a subsystem.例文帳に追加

本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)手順及びサブシステムを用いた基板処理方法の改善を目的とする。 - 特許庁

The primary conductive pattern P1 comprises a plurality of patterns 3's, each containing a signal pattern S and two ground patterns G's placed on both sides of S, which are extended along the lengthwise direction of the flexible flat cable 2.例文帳に追加

第１導体パターンＰ１は、絶縁シート２の長さ方向に延びる一つの信号パターンＳと、その信号パターンＳの両側に配置された二つのグランドパターンＧとを組とするパターン群３を複数組備える。 - 特許庁

The ratio L/S of width L of the projection-shaped magnetic layer pattern in the circumferential direction thereof to an interval S between the projection-shaped magnetic layer patterns in the circumferential direction thereof is defined as L/S <1.例文帳に追加

突起状磁性層パターンの円周方向の幅Ｌと、突起状磁性層パターン同士の円周方向の間隔Ｓとの比Ｌ／ＳをＬ／Ｓ＜１とする。 - 特許庁

The sheet S is accommodated in the accommodating path C during normal printing operation and is fed to the image transfer parts during image adjustment and during cleaning the photoreceptor 11, where the toner pattern image is transferred to the sheet S, or the sheet S cleans a surface of the photoreceptor 11, according to the relative difference between conveying speed of the sheet S and the circumferential speed of the photoreceptor 11.例文帳に追加

シートSは通常のプリント動作時には格納通路Cに格納されており、画像調整時及び感光体11のクリーニング時には画像転写部へ送り出され、トナーパターン像を転写され、あるいは、シートSの搬送速度と感光体11の周速との相対的な差によってシートSが感光体11の表面を清掃する。 - 特許庁

As a result, the wiring pattern is exposed on the photosensitive member S without being disconnected.例文帳に追加

この結果、感光材Ｓには、配線パターンが断線されていない状態で露光される。 - 特許庁

To provide a technology capable of detecting a circuit pattern defect at a high S/N ratio.例文帳に追加

高いＳ／Ｎ比で回路パターンの欠陥を検出することができる技術を提供する。 - 特許庁

Thus, despite the presence of the pattern of irregularities at the internal interface of the decorative sheet S, it is possible to clearly recognize the pattern from outside by light reflection upon the internal interface of the decorative sheet S due to the presence of the decorative layer 2 on the back of the pattern.例文帳に追加

装飾シートＳの内部界面に凹凸模様があっても、その裏面に装飾層２が存在するため、界面での光反射によって外部から凹凸模様を鮮明に認識することができる。 - 特許庁

Since polarization change is reacted with sensitivity with a fine pattern, circuit pattern defects can be detected at a high S/N ratio.例文帳に追加

偏光の変化が微細なパターンに敏感に反応するので、高いＳ／Ｎ比で回路パターンの欠陥を検出することができる。 - 特許庁

The image forming apparatus includes an image-adjusting and cleaning sheet S that is a sheet for transferring a toner pattern image for image adjustment, and can clean a surface of the photoreceptor 11, and a accommodating path C in which the sheet S is accommodated.例文帳に追加

画像調整用のトナーパターン像を転写するためのシートであって、感光体11の表面を清掃することのできる画像調整兼クリーニングシートSと、該シートSを格納する格納通路Cとを備えている。 - 特許庁

About the state sequence pattern s, an assumed frequency calculation part 3 calculates assumed frequencies q(s) as conditional probabilities of the occurrence of s under the occurrence of the "elements t of T[s]" in a given probability distribution.例文帳に追加

想定度数計算部３は、所定の確率分布の下で、状態列パターンｓについて、要素ｔ∈Ｔ〔ｓ〕が出現したときにｓが出現する条件付確率である想定度数ｑ（ｓ）を計算する。 - 特許庁

Everytime the pattern is changed at the step (S 350), the working roller during its ascent is rotated so as to set to the head of the pattern worked therewith at the steps (S 315 to S 330) in order to form successively patterns on a sheet material in the working order.例文帳に追加

そして、模様が変わるたびに（Ｓ３５０）、上昇中の加工ローラが加工に用いる模様ので先頭に合わせて回転され（Ｓ３１５〜Ｓ３３０）、加工順序に沿って順次模様がシート材料に形成される。 - 特許庁

Then, in an exposure device B, the same L/S pattern is formed using the same mask, and the coherence factor of the exposure device B is adjusted to achieve the condition that the dimensional difference becomes minimum between the line width PB in that L/S pattern and the line width PA in the L/S pattern formed in the exposure device A.例文帳に追加

次に、露光装置Ｂにおいて、同一のマスクを用いて同一のＬ／Ｓパターンを形成するとともに、当該Ｌ／Ｓパターンのライン幅ＰＢと、露光装置Ａで形成したＬ／Ｓパターンライン幅ＰＡとの間の寸法差が最小になる条件に、露光装置Ｂのコヒーレンスファクタを調整する。 - 特許庁

Obtain a pattern area density αp for each region 31-34, convert it into a matrix pattern or L/S pattern, and make adjacent divisions mutually complementary sub-patterns.例文帳に追加

領域３１〜３４の各々についてパターン面積密度α_pを求め、マトリックスパターン又はＬ／Ｓパターンに変換し、隣り合う分割領域を互いにコンプリメンタリーなサブパターンとする。 - 特許庁

To provide a pattern direction measuring apparatus which can measure the direction of a L/S pattern formed on a resist without exposing the resist.例文帳に追加

例えばレジストを感光させることなく、レジストに形成されたＬ／Ｓパターンの方向を測定することのできる方向測定装置。 - 特許庁

To provide a servo pattern stable over a long period of time, easy to be written, and excellent in S/N ratio.例文帳に追加

長期間にわたり安定で、書き込みやすく、Ｓ／Ｎの優れるサーボパターンを提供する。 - 特許庁

A conductor pattern 2 is formed so as to extend from the inner side of the mounting region S to the outer side.例文帳に追加

実装領域Ｓの内側から外側に延びるように導体パターン２が形成される。 - 特許庁

An L/S pattern by light of wavelength λ is created by a spatial optical modulator 11.例文帳に追加

空間光変調素子１１により、波長λの光によるＬ／Ｓパターンが作成される。 - 特許庁

To provide a servo pattern stable for a long period of time, easy to be written and excellent in S/N ratio.例文帳に追加

長期間にわたり安定で、書き込みやすく、Ｓ／Ｎの優れるサーボパターンを提供する。 - 特許庁