pattern sの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 417件
For example, with respect to frame lines or continuous lines M_1 and M_2 of individual unit patterns "1" and "2" constituting a given pattern "12", a curve part is defined by the minimum required number of circular arcs E in stead of many minute segments S by data compression processing.例文帳に追加
たとえば、所与のパターン「12」を構成する個々の単位パターン「1」,「2」の枠線または連続線M_1,M_2について、データ圧縮処理により、曲線部分を多数の微小線分Sに代えて必要最小限の個数の円弧Eで定義する。 - 特許庁
A heat generation layer M and/or a microwave shielding layer S formed in a predetermined pattern by overlaying the internal surface of a container 10 with conductive polymers, thereby providing the container 10 to be heated by microwaves with a plurality of food materials stored and positioned in a container body 11.例文帳に追加
容器10の内面に、導電性高分子を積層して所定パターンに形成された発熱層M及び/又はマイクロ波シールド層Sを形成し、容器本体11に複数の食材を収納配置したマイクロ波加熱用容器10とする。 - 特許庁
Wiring 105 to be measured is placed at the center, and wiring width W, wiring interval S, wiring formation region X/Y, and data ratio D of wiring to be actually wired in the wiring formation region X×Y are variably changed so that the test pattern of wiring can be prepared.例文帳に追加
被測定配線105を中心に置き、配線幅W、配線間隔S、配線の形成領域X、Y、配線形成領域X×Yに実際に配線される配線のデータ率Dを種々変えた配線のテストパターンを作成する。 - 特許庁
Then, the signal light 5 is broken, reading light 6 of S polarization is applied to the optical storage medium 10, the first hologram is reproduced as diffraction light 8 of S polarization, its intensity is detected by a photo detector 53s, and the recording/reproducing head 20 is aligned to the optical storage medium 10 based on the detection signal of the alignment pattern included in the first hologram.例文帳に追加
次に、信号光5は遮断し、S偏光の読み出し光6を光記録媒体10に照射して、第1のホログラムをS偏光の回折光8として再生し、その強度を光検出器53sにより検出して、第1のホログラムに含まれている位置合わせ用パターンの検出信号に基づいて、記録再生ヘッド20と光記録媒体10の位置合わせをする。 - 特許庁
Sets of wiring 1a-4a are designed so that a composite wiring pattern formed by superimposing the multilayer wirings 1a-4a configuring a package substrate 10 can completely cover a gap s generated between wiring of each layer to be moisture permeating routes R1, R2 and a through-hole 5.例文帳に追加
パッケージ基板10を構成する多層配線1a〜4aを重畳した合成配線パターンが、水分侵入経路R1、R2となる各層の配線間に生ずる隙間sやスルーホール5を完全に被覆するように配線1a〜4aを設計する。 - 特許庁
The thread 44 is inserted from a front surface 32A side of the base material 32 to the back surface 32B side of the base material 32 through the through hole 36, and a loop part 44A of the thread 44 coming out of the back surface 32B is hooked on the thread locking protrusion piece 38, and the stitch pattern S is provided.例文帳に追加
基材32の表面32A側から挿通孔36を介して該基材32の裏面32B側へ糸44を挿通し、該糸44の裏面32Bから出たループ部分44Aを、糸掛止突片38に引っ掛けることでステッチ模様Sが設けられている。 - 特許庁
The inserted additional information is detected by a location pattern detection part 21 of a transmission SDH part (S-SDH part) connected to a transmission-side transmission line and TU pointer value generated by a pointer insertion part 22 is outputted through an SDH process part 23.例文帳に追加
この挿入された付加情報を、送信側伝送路に接続される送信SDH部(S_SDH部)のロケーションパタン検出部21で検出し、ポインタ挿入部22で生成したTUポインタ値を生成して、SDH処理部23を介して出力する。 - 特許庁
An attachment verifying print pattern (S) is formed on a prize-application label (1) in a label attaching process for attaching the label (1) to an article package in order to certify the label (1) as a one attached to the packaged article (6) and good for the prize-winning competition.例文帳に追加
応募された懸賞応募用ラベル(1)が商品包装体(6)に係着されていたラベルであることを認証するために、該ラベル(1)を商品包装体に係着するラベル係着工程において、該ラベル(1)に係着証明印影(S)を表出させる。 - 特許庁
The surface of the substrate 1 is exposed by removing the film 2 by performing the dry etching treatment of about 15 s of a time by using a gas containing, for example, CF_4 and O_2 with the pattern 3 as a mask on the exposed film 2.例文帳に追加
そのレジストパターン3をマスクとして、たとえばCF_4とO_2とを含むガスを用いて時間約15秒間のドライエッチング処理を、露出している有機ARC膜2に施すことにより、有機ARC膜2を除去して半導体基板1の表面を露出する。 - 特許庁
By detecting plural signals corresponding to a prescribed pit-land pattern from a reproducing signal series S outputted by a crosstalk reducing circuit 2, the gain which minimizes the changed amount of levels of the detected plural signals is set as the gain of a gain variable amplifier circuit 24.例文帳に追加
クロストーク低減回路2が出力する再生信号系列Sから、所定のピット−ランドパターンに対応する信号を複数検出して該検出した複数の信号のレベルの変動量を最小とする利得を利得可変増幅回路24の利得とする。 - 特許庁
To provide inkjet printer paper capable of forming letters, pattern(s) or color layers on the reverse face in such a density that a user can recognize the reverse/obverse face of the paper and enabling the user to make a color fading of discriminable letters or the like without consciousness of color fading operation.例文帳に追加
インクジェットプリンタ用紙において、ユーザが用紙の表裏を認識できる濃度で裏面を表す文字、絵柄または色層を裏面に形成し、ユーザが消色作業を意識することなく識別文字などの消色が行うことが可能なプリンタ用紙を提供する。 - 特許庁
The bits having the bit value of 1 are inverted successively into 0 from the bit in an S-1 number to the bit pattern at the maximum value next, and a mask generation in which all upper bits from the inverted bit positions are set in 1 and the lower bits in 0 is conducted.例文帳に追加
次に、最大値のbitパターンに対しては、S−1番目のbitから順次bit値が1であるbitを0に反転し、反転したbit位置より上位のbitを全て1、下位のbitを0としたマスク生成を行う。 - 特許庁
Thus, when the manuscript for the skew detection to be conveyed has a skew, as the image data recorded by reading the test pattern are outputted as the triangular image S having the base of a width dimension D in accordance with a skew amount of the manuscript, the width dimension D of the base of the outputted triangular image S is visually measured, thereby obtaining the skew amount of the manuscript.例文帳に追加
これにより、搬送される斜行検知用原稿に斜行がある場合は、テストパターンを読み取って記録した画像データが、原稿の斜行量に応じた幅寸法Dの底辺を備える三角形状の画像Sとして出力されるので、この出力された三角形状の画像Sの底辺の幅寸法Dを目視で測定することで、原稿の斜行量を知ることができる。 - 特許庁
A pattern inspection system 1A generates a difference image U between an image to be inspected S and a reference image R and converts the pixel value of each pixel in the difference image U into an error probability value Er using a standard deviation σ concerning to the pixel value of the difference image U.例文帳に追加
パターン検査装置1Aは、被検査画像Sと参照画像Rとの間の差分画像Uを生成し、当該差分画像Uの画素値に関する標準偏差σを用いて当該差分画像Uにおける各画素の画素値をエラー確率値Erに変換する。 - 特許庁
The gas containing a solvent delivered to a reflow processing space S forms a unidirectional flow toward the solvent suction port 75 and when the solvent in the atmosphere of the reflow processing space is sucked to a resist on the surface of the substrate G, the resist is softened and fluidized, thus forming a deformation resist pattern.例文帳に追加
リフロー処理空間Sへ吐出された溶剤を含む気体は、溶剤吸入口75へ向かう一方向の流れを形成し、基板G表面のレジストにリフロー処理空間の雰囲気中の溶剤が吸収されることにより、レジストが軟化して流動化し、変形レジストパターンが形成される。 - 特許庁
In the pneumatic tire having a blocklike tread pattern, a sipe is not arranged on a surface on a stepping in side F of a block, and a plurality of zigzag sipes S are arranged on a kicking out side K of the block 5 to prevent the communication with a lateral channel 3 adjacent to the kicking out side K of the block 5.例文帳に追加
ブロック状のトレッドパターンを有する空気入りタイヤにおいて、前記ブロックの踏み込み側F表面ではサイプを配置せず、ブロック5の蹴り出し側Kに、ジグザグ状サイプSを前記ブロック5の蹴り出し側Kに隣接する横溝3に連通しないように複数本配置する。 - 特許庁
A decorative sheet S formed of a polyolefin resin and having a concave-convex pattern 4 formed by embossing comprises the lower layer 1 of an olefinic thermoelastomer and the upper layer 2 of a crystalline polyolefin resin and the surface protective layer 3 of a cured product of an ionizing radiation curable resin stacked on the lower layer 1.例文帳に追加
ポリオレフィン系樹脂からなりエンボス加工による凹凸模様4を有する化粧シートSを、オレフィン系熱可塑性エラストマーの下層1上に、結晶性ポリオレフィン系樹脂の上層2、及び、電離放射線硬化性樹脂の硬化物の表面保護層3が積層された構成とする。 - 特許庁
The target temperature value of the strip S at each outlet side in plural zones 31 and 32 is set so that the fuel flow distribution in each of plural zones 31 and 32 in the heating zone 3 becomes a prescribed pattern, to put it concretely, the fuel flow distribution in each of the zones 31 and 32 is substantially equalized.例文帳に追加
加熱帯3の複数のゾーン3_1 、3_2 の各々における燃料流量分布が所定のパターン、具体的には各ゾーン3_1 、3_2 における燃料流量分布が実質的に均一となるように、複数のゾーン3_1 、3_2 の各々の出側におけるストリップSの目標板温値を設定する。 - 特許庁
The pattern forming material comprises a support and at least a photosensitive layer on the support, wherein the photosensitive layer contains at least a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, the sensitivity of the photosensitive layer is ≤20 mJ/cm^2, and the shortest developing time when the photosensitive layer is developed after exposure is 15-50 s.例文帳に追加
支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、該感光層の感度が20mJ/cm^2以下、露光後に現像する際の最短現像時間が15〜50秒間である。 - 特許庁
To provide an optical shape-measuring apparatus for solving the problem of deterioration in shape measurement accuracy, by preventing the deterioration in the S/N of the quantity of light, in an optical shape measurement method for obtaining an illumination angle from information on the quantity of light of pattern light irradiated.例文帳に追加
照射角度を、照射されたパターン光の光量の情報から求める光学的形状測定方法において、光量のS/Nの劣化を防止して、形状測定精度が劣化するという問題を解消した光学的形状測定装置を提供すること。 - 特許庁
The embossing apparatus for applying the embossed pattern to the continuously fed sheet-like material S is equipped with an embossing roll 10 and a plurality of receiving rolls 20, 21 and 22 provided so as to successively come into contact with the embossing roll 10 along the peripheral direction of the embossing roll 10.例文帳に追加
連続的に搬送されるシート状材料Sに凹凸形状の模様を付けるエンボス加工装置は、エンボスロール10と、エンボスロール10の周方向に沿ってこのエンボスロール10に順次当接するよう設けられた複数の受けロール20、21、22とを備えている。 - 特許庁
With the stencil plate (pattern forming part) 321A of a stencil plate belt 321 positioned right above the plate S, while a coating spray mechanism, which is not given in Fig., installed above the plate 321A is moved, the powder coating is sprayed over the whole range of the plate 332A.例文帳に追加
孔版ベルト321の孔版(柄孔形成部)321Aを被加工板Sの真上に位置させた状態で、孔版(柄孔形成部)321Aの上方に設けた図示しない塗料散布機構を移動させながら粉体塗料を孔版(柄孔形成部)321Aの全範囲に亘って散布する。 - 特許庁
A position where shading is palest in the gradation pattern GP is detected by a signal from a reflection type sensor S provided integrally with a print head H (S5), and skewing amount accompanying with conveyance of the print sheet P1 is obtained based on deviation amount from a reference position at the detection position to display it (S6).例文帳に追加
プリントヘッドHと一体に設けた反射型センサSからの信号によりグラデーションパターンGPにおける濃度の最淡位置を検出し(S5)、この検出位置の基準位置からのずれ量に基づいてプリントシートP1の搬送に伴う斜行量を求めて、これを表示する(S6)。 - 特許庁
In this game machine, the number of the numerical values from the initial value to final value of each of a big winning count value (label-TRND-AZ1), a big winning pattern count value (label-TRND-AZ1) and a start value count value (label-TRND-S) is set to an even number.例文帳に追加
本発明の遊技機によれば、大当たりカウント値(ラベル−TRND−AZ1)、大当たり図柄カウント値(ラベル−TRND−AZ1)及び開始値カウント値(ラベル−TRND−S)のそれぞれの初期値から最終値までの数値の個数が偶数個に設定されている。 - 特許庁
This target M of the non-contact extensometer is formed by a pattern different in optical property from the surface of the test pieces, which has an elliptical edge shape taking the extension direction (longitudinal direction) of the test piece S as a minor axis and the direction (cross direction) orthogonal to the extension direction as a major axis.例文帳に追加
試験片Sの伸び方向(長手方向)を短軸とし、上記伸び方向と直交する方向(幅方向)を長軸とした楕円状の縁部形状を有して試験片の表面とは光学的性質を異ならせたパターンからなる非接触伸び計ターゲットMとする。 - 特許庁
To obtain in a recording/reproducing device a reproduced signal having both a satisfactory S/N ratio and frequency characteristics by using a simple constitution from an optical recording medium whereon a specific pattern suitable for adjusting the reproduction laser power without affecting the data utilizing efficiency of the optical recording medium is recorded.例文帳に追加
記録再生装置において、光記録媒体のデータ利用効率に影響を与えず再生レーザパワーを調整することに適した特定パターンを記録した光記録媒体から、簡単な構成でS/N比と周波数特性が共に良好な再生信号を得る。 - 特許庁
As a result, when the inductor component 100 of the present invention is mounted on a printed board 40, a space S formed by the recession 101a reduces a capacitance component even if a wiring pattern 42 is arranged at the position that is counter to the inductor conductors 141 and 142.例文帳に追加
これにより、本発明によるインダクタ部品100をプリント基板40に実装すると、インダクタ導体141,142と対向する位置に配線パターン42が配置されている場合であっても、凹部101aにより形成される空間Sによって容量成分が低減する。 - 特許庁
The decorative sheet S comprising a polyolefinic resin and having an embossed pattern 4 formed by emboss processing is constituted by laminating an upper layer 2 comprising an olefinic thermoplastic elastomer and a surface protective layer 3 comprising cured matter of an ionizing radiation curable resin on a lower layer 1 comprising a crystalline polyolefinic resin.例文帳に追加
ポリオレフィン系樹脂からなりエンボス加工による凹凸模様4を有する化粧シートSを、結晶性ポリオレフィン系樹脂の下層1上に、オレフィン系熱可塑性エラストマーの上層2、及び、電離放射線硬化性樹脂の硬化物の表面保護層3が積層された構成とする。 - 特許庁
The multicolor pattern coating composition of this invention is composed by dispersing a coloring paint into an aqueous dispersion medium in particles, wherein the aqueous dispersion medium has the viscosity of 0.1-5.0 Pa s and the specific gravity of 0.95-1.10, and the specific gravity difference of the aqueous dispersion medium and the coloring paint is not more than 0.05.例文帳に追加
本発明の多彩模様塗料組成物は、水性分散媒に、着色塗料が粒状に分散されてなり、水性分散媒の粘度が0.1〜5.0Pa・s、比重が0.95〜1.10であり、水性分散媒と着色塗料の比重差が0.05以下であることを特徴とする。 - 特許庁
The basic algorithm predates, and is a little fancier than, an algorithmpublished in the late 1980's by Ratcliff and Obershelp under the hyperbolic name ``gestalt pattern matching.'' The idea is to find the longest contiguous matching subsequence that contains no``junk'' elements (the Ratcliff and Obershelp algorithm doesn'taddress junk).例文帳に追加
基礎的なアルゴリズムは可塑的なものであり、1980年代の後半に発表されたRatcliffとObershelpによるアルゴリズム、大げさに名づけられた``ゲシュタルトパターンマッチング''よりはもう少し良さそうなものです。 その考え方は、``junk''要素を含まない最も長いマッチ列を探すことです(RatcliffとObershelpのアルゴリズムではjunkを示しません)。 - Python
A point when a length equivalent to the deduction of the spun length La from the slub length L corresponding to the design pattern DP is spun is set to the point of starting acceleration in spinning a portion(slub S) thicker than the standard thickness portion(standard portion YO) of the spun yarn, thus making a variable-speed control of the front roller.例文帳に追加
そして、その紡出長LaをデザインパターンDPのスラブ長Lから差し引いた分の長さが紡出された時点を、前記紡出糸の基準太さの部分(基準部Y0)より太くなる太糸部(スラブS)の紡出時における加速開始時点に設定して、フロントローラを変速制御する。 - 特許庁
The conjugated cyclic compound is caused to photopolymerize by the pulsed laser light L at the irradiation position P of the material S to react while controlling the irradiation position P thereby to form the reaction product containing the conductive conjugated polymer in the predetermined pattern.例文帳に追加
そして、被反応物Sの照射位置Pにおいて、パルスレーザ光Lによって共役環状化合物を光重合反応させるとともに、照射位置Pを制御することにより、電気伝導性の共役高分子を含む反応生成物を所定のパターンで形成する。 - 特許庁
The decorative sheet S comprising a polyolefinic resin and having an embossed pattern 4 formed by emoss processing is constituted by laminating an upper layer 2 comprising a crystalline polyolefinic resin and a surface protective layer 3 comprising cured matter of an ionizing radiation curable resin on a lower layer 1 comprising an olefinic thermoplastic elastomer.例文帳に追加
ポリオレフィン系樹脂からなりエンボス加工による凹凸模様4を有する化粧シートSを、オレフィン系熱可塑性エラストマーの下層1上に、結晶性ポリオレフィン系樹脂の上層2、及び、電離放射線硬化性樹脂の硬化物の表面保護層3が積層された構成とする。 - 特許庁
Grooves 11 corresponding to a prescribed pattern shape to be coated with an organic electroluminescent(EL) material are formed on the substrate S and the organic EL material is poured from nozzles 4a-4c in the grooves 11 by moving the nozzles 4a-4c along the grooves 11.例文帳に追加
有機EL材料を塗布すべき所定のパターン形状に応じた溝11を基板S上に形成しておき、この溝11にノズル4a〜4cを沿わせるようにノズル4a〜4cを移動させて、ノズル4a〜4cからの有機EL材料を溝11内に流し込んで塗布する。 - 特許庁
Since a semiconductor film on the surface of a substrate is obliquely irradiated with a laser beam while the substrate is moved at a constant speed of 20-200 cm/s, the semiconductor film on the large-sized substrate can be uniformly irradiated with the laser beam, the concentric circle pattern is not formed or the formation of the concentric circle pattern is reduced in a semiconductor device being manufactured.例文帳に追加
本発明によれば、20〜200cm/sの間の一定の速度で基板を移動させながら、前記基板の表面上の半導体膜にレーザ光を斜めに照射させるので、大型の基板上の半導体膜においても均一なレーザ光を照射することができ、同心円模様が形成されない、もしくは同心円模様の形成を低減した半導体装置を作製することができる。 - 特許庁
The patterning method of a wafer W includes a step for forming an L&S pattern 54A including multiple line patterns 40A on the surface of the wafer W, and a step for forming an L&S 56A including multiple linear resist patterns 42NA arranged between the multiple line patterns 40A on the surface of the wafer W so that the line widths of the line patterns 40A and the resist patterns 42NA have a negative correlation.例文帳に追加
ウエハWにパターンを形成するパターン形成方法において、ウエハWの表面に複数のラインパターン40Aを含むL&Sパターン54Aを形成することと、ウエハWの表面の複数のラインパターン40Aの間に配置される複数のライン状のレジストパターン42NAを含むL&Sパターン56Aを、ラインパターン40Aの線幅とレジストパターン42NAの線幅とが負の相関を持つように形成することと、を含む。 - 特許庁
A center decoration 12 comprises an opening 11 for exposing a pattern display device 6, a performance operation device 39 arranged on one side in a left-to-right width direction of the opening 11 for moving a performance member 43 onto a game ball stage S, and a transparent panel 31 for shielding the front part of the opening 11 and the performance member 43.例文帳に追加
センター飾り12は、図柄表示装置6を露出させる開口11と、開口11の左右幅方向の一側に配置されて演出部材43を遊技球ステージS上に移動させる演出作動装置39と、開口11及び演出部材43の前方を遮蔽する透明パネル31とを備える。 - 特許庁
To acquire an image information detecting device capable of detecting a pattern image with high accuracy by taking a condition of spherical aberration of an illumination optical system into account, thereby increasing a quantity of illumination light in the central portion of an illumination area and its vicinity and hence improving the S/N ratio of a detection signal.例文帳に追加
照明光学系の球面収差の状態を考慮することにより照明領域中心部及びその近傍の照明光量を大きくすることができ、検出信号のS/N比を向上させ位置検出用のパターン像を高精度に検出することができる画像情報検出装置を得ること。 - 特許庁
The security device includes a sensor capable of discriminating the binary value and comprising a magnetic sensor capable of discriminating an S-pole and an N-pole; a security key operated from the outside to the sensor; and a confirmation means for confirming that the result of detection of the security key matches a predetermined pattern.例文帳に追加
S極とN極を判別できる磁気センサにより構成され2値を判別できるセンサと、前記センサに対して外部から操作されるセキュリティキーと、前記セキュリティキーの検知結果が所定のパターンと合致していることを確認する確認手段とを備えていることを特徴とするセキュリティ装置。 - 特許庁
A joining pattern is formed by printing resin-coated metal particles 10 each comprising a metal particle 1 having a melting point of 250°C or below and an average diameter of 0.1-20 μm and a resin layer 2 covering it and having a melt viscosity of 500 Pa*s or less at 200°C on a circuit board 40 by using an electrophotography method.例文帳に追加
250℃以下の融点を有する平均粒径0.1〜20μmの金属粒子1と、これを被覆する200℃における溶融粘度が500Pa・s以下の樹脂層2からなる樹脂被膜金属粒子10を、回路基板40上に電子写真法を用いて印刷して接合パターンを形成する。 - 特許庁
In a communications navigation system S, a server device SV has a map output part 1a which classifies map data into a plurality of patterns according to the characteristics of coordinate lines and outputs map data enabling one pattern to be selected from the plurality of patterns according to the amount of movement for each one coordinate and the amounts of movements in the directions of X and Y coordinates.例文帳に追加
通信ナビゲーションシステムSにおいて、サーバ装置SVは、座標列の特性に基づいて複数のパターンに分類し、これら複数のパターンから1座標毎の移動量およびX,Y座標方向の移動量に従って1つのパターンを選択可能とした地図データを出力する地図出力部1aを備えた。 - 特許庁
To provide a magnetic transfer master body which maintains vertical symmetry of magnetic transfer waveform without changing L/S ratio of a magnetic pattern when microfabricating the magnetic transfer body, to provide a magnetic transfer unit thereof, magnetic recording medium manufactured by using the magnetic transfer unit, and magnetic recording system using the magnetic recording medium.例文帳に追加
磁気転写マスタ体の微細加工時における磁気パターンのL/S比を変えずに磁気転写波形の上下対称性を維持できる磁気転写マスタ体、磁気転写装置、この磁気転写装置を用いてつくられる磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体を用いた磁気記録装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
The pattern 62 is formed on the subfield 42 and has a line width L selected, so that the line width L/space width becomes S≤1, 1/2, and 1/4 for L larger than 500 nm, L in the range of 400 nm to 500 nm, and L less smaller than 400 nm, respectively.例文帳に追加
実デバイスパターン62はサブフィールド42に形成され、線幅が500nmを越えるパターンの場合には線幅L/スペース幅S≦1、線幅が400nm〜500nmのパターンの場合には線幅L/スペース幅S≦1/2、線幅が400nm未満のパターンの場合には線幅L/スペース幅S≦1/4であるデバイスパターンとする。 - 特許庁
In this method for coating the building board, a natural groove pattern coating film with stereoscopic effect is formed by spraying a coating material adjusted to have 2,000-300,000 mPa s viscosity to the groove part of the building board using a fine spray nozzle having 0.3-3.0 mm diameter at 0.02-0.3 mPa atomizing air pressure.例文帳に追加
建築板の溝部に対して、口径0.3〜3.0mm、アトマイズエアー圧力0.02〜0.3mPaの微細噴霧ノズルで、粘度2,000〜30,000mPa・sに調整した塗料を噴霧することにより、自然で立体感のある溝模様塗膜を形成させることを特徴とした建築板の塗装方法とする。 - 特許庁
A laminate of the thick film, a pattern and the like are formed using the negative resist composition for a thick film comprising a photoacid generator (A) represented by formula (1), a phenolic resin (B) having an ADR (alkali dissolution rate) of ≥1,000 Å/s, and an epoxy resin (C) having two or more epoxy resins per molecule.例文帳に追加
下記式(1)で表される光酸発生剤(A)、ADR(アルカリ溶解速度)が1000Å/s以上であるフェノール樹脂(B)及び一分子中にエポキシ基を二個以上有するエポキシ樹脂(C)を含有してなる厚膜用ネガ型レジスト組成物を用いて、厚膜の積層体、パターン等を形成する。 - 特許庁
A decorative sheet S is constituted by laminating a first layer 1 comprising a base material sheet, a second layer 2 containing an org. pigment as a colorant and having a pattern layer formed by printing and a third layer 3 having a whole solid layer containing an inorg. pigment as a main component of a colorant formed to the entire surface thereof by printing or coating.例文帳に追加
装飾シートSは、基材シートからなる第一層1と、有機顔料を着色剤として含み印刷等で形成された絵柄層を有する第二層2と、全面に印刷、塗工等で形成された無機顔料を着色剤の主成分として含む全ベタ層からなる第三層3とが積層された構成とする。 - 特許庁
Thus, diffraction light of the second laser beam from a hologram pattern 29 is entirely made incident on only an area in which a projecting adhesive at the projecting surface 32 does not exist to prevent degrading of the S/N ratio of a signal output from the optical monitor 26 to correctly detect the light quantity of the output of a second light source 22.例文帳に追加
こうして、ホログラムパターン29からの第2レーザ光の回折光を、総て突出面32のはみ出し接着剤が存在しない領域のみに入射させて、光モニタ26から出力される信号のS/N比の低下を防止し、第2光源22の出力光量を正確に検出する。 - 特許庁
In this system 10, a first upper limit speed pattern in which speed is gradually reduced from a predetermined speed to a predetermined terminal speed in a section C1 to be controlled whose distance is a distance L1 from a position B1 where the train arrives after a predetermined time elapses from the start of YP signal reception to the target stop position S or less is used.例文帳に追加
このシステム10では、YP信号受信開始から所定時間経過後に到達する位置B1から目標停止位置Sまでの距離L1以下の制御対象区間C1において所定速度から所定の終端速度まで漸減する第一の上限速度パターンが、用いられる。 - 特許庁
The black layer 46 is subjected to dry etching to integrally form a peripheral light-shielding film 45 covering the peripheral region S of a pixel forming region A of the solid-state imaging element 10, and an aperture pattern to leave a black matrix 41 as boundaries among red, green and blue pixels 40R, 40G and 40B, respectively, on the pixel forming region A.例文帳に追加
黒色層46をドライエッチングして、固体撮像素子10の画素形成領域Aの周縁領域Sを覆う周縁遮光膜45と、画素形成領域A上に赤色・緑色・青色画素40R,40G,40B間の境界となるブラックマトリックス41を残すように開口パターンとを一体形成する。 - 特許庁
In the method of operating the dust collector S for shaking off the dust stuck to the filtration surface of the filter 7 which filters dust-containing air by a pressure gas jetted to the back surface side of the filtration surface of the filter 7, at least one of the jetting power and jetting cycle of the pressure gas is changed by a preset pattern.例文帳に追加
含塵空気を濾過するフィルタ7の濾過面に付着したダストを、フィルタ7の濾過面の裏面側に噴出される圧力気体で払い落とすようにした集塵機Sの運転方法において、圧力気体の噴出力及び噴出周期の少なくとも一方を、予め設定したパターンで変化させるようにする。 - 特許庁
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
| この対訳コーパスは独立行政法人情報通信研究機構の研究成果であり、Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unportedでライセンスされています。 |
| Copyright 2001-2004 Python Software Foundation.All rights reserved. Copyright 2000 BeOpen.com.All rights reserved. Copyright 1995-2000 Corporation for National Research Initiatives.All rights reserved. Copyright 1991-1995 Stichting Mathematisch Centrum.All rights reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|