pattern sの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 416件
In this imaging performance evaluation method for imaging optical systems, an image of a random pattern 1 by an imaging optical system S to be inspected is imaged, texture feature quantities are calculated from the photographed image of the random pattern, and the imaging performance of the optical system S is evaluated, using the obtained texture feature quantities.例文帳に追加
被検結像光学系Sによるランダムパターン1の像を撮像して、撮像されたランダムパターンの像からテクスチャー特徴量を算出し、得られたテクスチャー特徴量を用いて被検結像光学系Sの結像性能を評価する結像光学系の結像性能評価方法。 - 特許庁
A driver 5 and a receiver 10 respectively supply serial data having a regular bit pattern such as a clock, which includes 1's and 2's alternately with each other during an adjustment period and supply a data signal (IDATA) on the basis of serial data having an arbitrary bit pattern during a transfer period following the adjustment period.例文帳に追加
ドライバ5及びレシーバ10は、調整期間にはクロックのような1と0とが交互に繰り返し出現する規則的なビットパターンを有するシリアルデータに、その後の伝送期間には任意のビットパターンを有するシリアルデータにそれぞれ基づくデータ信号(IDATA)を供給する。 - 特許庁
A formation position of a sub-pattern SP(LM) for a light magenta ink (LM) is present at the center side of a paper S more than a formation position of a sub-pattern SP(M) for a magenta ink (M) in a movement direction.例文帳に追加
ライトマゼンタインク(LM)についてのサブパターンSP(LM)の形成位置は、移動方向において、マゼンタインク(M)についてのサブパターンSP(M)の形成位置(よりも用紙Sの中央側にある。 - 特許庁
A third pattern ITO is aligned to a first pattern G formed in the mth layer (m: a positive integer), and second patterns S and D formed in the nth layer (n: a positive integer) on a substrate P.例文帳に追加
基板Pの第m層(mは正の整数)に形成された第一パターンGと、第n層(nは正の整数)に形成された第二パターンS、Dとに対して第三パターンITOを位置合わせする。 - 特許庁
According to plural (three) unit patterns (e.g., PA, PB, PC) contained in an inspection image S formed by a repeated pattern, a reference image PI is automatically generated as an ideal pattern.例文帳に追加
繰り返しパターンで構成される被検査画像Sに含まれる複数(3つ)の単位パターン(たとえばPA、PB、PC)に基づいて、理想パターンとしての参照画像PIを自動的に生成する。 - 特許庁
In at least part of a plurality of wiring pattern bodies LP1, a slit S is formed, which is capable of transmitting light and sets the variation in the resistance value between each wiring pattern body LP1 into a predetermined range.例文帳に追加
複数の配線パターン本体LP1の少なくとも一部に、光を透過可能であるとともに各配線パターン本体LP1間の抵抗値のばらつきを所定の範囲内に設定するスリットSを形成する。 - 特許庁
Even if the length of the wiring pattern body LP1 differs from the other, it is possible to suppress the variation in the resistance value resulting in the difference in the length of the wiring pattern body LP1 by utilizing the slit S capable of transmitting light.例文帳に追加
配線パターン本体LP1の長さが異なる場合でも、光を透過可能なスリットSを利用して配線パターン本体LP1の長さが異なることに起因する抵抗値のばらつきを抑制できる。 - 特許庁
In the method for forming the contact hole toward an S/D region 25 on an interlayer insulating film 40 covering the S/D region 25 on the surface of a semiconductor substrate 20, a resist pattern 50 forming an opening at the upper part of the S/D region 25 is formed on the interlayer insulating film 40.例文帳に追加
半導体基板20表面のS/D領域25上を覆う層間絶縁膜40にS/D領域25に至るコンタクトホールを形成する方法であって、層間絶縁膜40上にS/D領域25の上方を開口するレジストパターン50を形成する。 - 特許庁
Therefore, the lost foam pattern M is embedded in the molding sand S while holding the shape at the producing time without causing any deformation and damage.例文帳に追加
従って、消失模型Mが変形したり損傷を受けたりすることがなく、製作時の形状を保って鋳砂S中に埋設される。 - 特許庁
When the sequin S is dropped from the embroidery pattern in the process of working, a worker operates a mending switch after stopping an embroidery machine 1.例文帳に追加
加工途中に刺繍柄からシークインSが抜け落ちたときに、作業者は刺繍ミシン1を停止させた後に、補修スイッチを操作する。 - 特許庁
Continuously, the substrate S for the diffraction optical element is prepared, and a diffraction optical element pattern is drawn by electron beam exposure after resist film formation.例文帳に追加
続いて、この回折光学素子用の基板Sを用意し、レジスト成膜後に電子ビーム露光により回折光学素子パターンを描画する。 - 特許庁
the syndrome S is inputted into burst error pattern generating circuits 2-1 through 2-p which overlap by b-1 bits with each other, with each having information framework of 2b-bit length.例文帳に追加
互いにb−1ビット重なり、長さ2bビットの情報枠のバースト誤りパターン生成回路2-1〜2-pにシンドロームSを入力する。 - 特許庁
According to the IMF, the global imbalance is the pattern seen in the global economy after the end of the 1990?s between the current account surplus and current account deficit.例文帳に追加
IMFによれば、「グローバル・インバランス」とは、1990 年代後半以降の世界経済に見られる経常赤字と経常黒字の構成パターンを表す。 - 経済産業省
Of the pattern inspection device 1, a comparing inspection part 10 generates a defect candidate area D in an inspected image S by comparing the inspected image S with a reference image R.例文帳に追加
パターン検査装置1において、比較検査部10は、被検査画像Sと参照画像Rとを比較して被検査画像Sにおける欠陥候補領域Dを特定する2値化された欠陥候補画像Qを生成する。 - 特許庁
Drawing of a plurality of patterns having different radii is carried out with respect to a resist coated on a substrate S, while a substrate S is rotated at an arbitrary angular velocity, to find one of the pattern radii providing an optimum quantity of light exposure after development.例文帳に追加
基板S上に塗布されたレジストに対し、任意の角速度で基板Sを回転しながら半径の異なる複数のパターンの描画を行い、現像後に露光量が最適なパターンの半径を求める。 - 特許庁
A magnetic screw shaft 11 on which a magnetic pattern comprising N, S magnetic pole pairs is spirally formed, is rotated to reciprocate a cutter part with a magnetic pattern corresponding to the magnetic pattern, formed so as to be connected in a contactless state to the magnetic screw shaft 11.例文帳に追加
N,S磁極対からなる磁気パターンが螺旋状に形成された磁気ネジシャフト11を回転させることにより、この磁気パターンに対応する磁気パターンが形成され、磁気ネジシャフト11に非接触で連結するカッタ部5を往復動作させるようにする。 - 特許庁
Then the oscillator 1, the frequency divider 2, and the 4-phase modulation pattern generator 3 are respectively operated to generate a 4-value fixed pattern, the S/P converters 4a, 4b convert the 4-value fixed pattern into 8-bit parallel data suitable for an input section of the modulator 5 and supply the data to the modulator 5.例文帳に追加
そして、発振器1,分周器2,4相変調パターン発生器3のそれぞれを動作させて4値固定パターンを生成し、この4値固定パターンを変調器5の入力部に応じた8ビットパラレルデータに変換して変調器5に供給する。 - 特許庁
Furthermore, the shift quantity is preferably selected to half a period (p) of the repetitive pattern in the before- processing image S (0.5×p) as a maximum value.例文帳に追加
また、シフト量の大きさは、処理前画像Sにおける繰り返しパターンの周期の大きさpの半分の大きさ(0.5×p)を最大値とすることが好ましい。 - 特許庁
If they fall within the constant velocity section, the trapezoidal speed pattern is divided into 8-m/s sections (S7), and minimum speed of each axis is transferred to a servo system.例文帳に追加
等速区間に収まる場合は、台形速度パターンを8m/s毎の区間に分割してから(S7)、各軸の下限速度をサーボシステムに転送する。 - 特許庁
An oblique wiring verification part 30 verifies the space between the oblique wiring patterns fused by the first pattern fusing part 28 with an allowable minimum space value S.例文帳に追加
斜め配線検証部30は、第1図形融合部28で融合された斜め配線図形同士の間隔を許容最小間隔値Sにより検証する。 - 特許庁
Finally, the mold release agent S on the template T is rinsed, and a mold release film S_F is deposited on the template T along a transfer pattern (Fig. 11(e)).例文帳に追加
その後、テンプレートT上の離型剤Sをリンスし、当該テンプレートT上に転写パターンに沿った離型膜S_Fを成膜する(図11(e))。 - 特許庁
The light-distribution pattern P2 for an overhead sign is obtained by reflecting the light L2 of the semiconductor type light source 7 with s second reflection surface 9.例文帳に追加
また、半導体型光源7からの光L2を第2反射面9で反射させることにより、オーバーヘッドサイン用の配光パターンP2が得られる。 - 特許庁
The chips C after dicing are stuck to a ring frame F through the intermediary of an adhesive sheet S, and a protecting sheet S1 is stuck to the circuit pattern surfaces of the chips C.例文帳に追加
予めダイシングされたチップCが、粘着シートSを介してリングフレームFに貼着され、チップCの回路パターン面には保護シートS1が貼付されている。 - 特許庁
To provide a circuit pattern inspection apparatus suited for obtaining defective images with high resolution and high S/N with high efficiency at defective image capture time.例文帳に追加
欠陥画像取得時に高分解能でかつ高S/Nの欠陥画像を高効率で得るのに適した回路パターン検査装置を提供すること。 - 特許庁
The atomized material is formed into a long section by the pattern control air concentrated on the intersecting segment S of the imaginary planes P1 and P2.例文帳に追加
この仮想平面P1,P2の交差線S上に集中するパターン制御エアーにより、上記微粒化材料の霧を細長い断面形状にする。 - 特許庁
To provide a circuit pattern inspection device, suitable for very efficiently obtaining a high S/N defective image of high resolution, when the defective image is obtained.例文帳に追加
欠陥画像取得時に高分解能でかつ高S/Nの欠陥画像を高効率で得るのに適した回路パターン検査装置を提供すること。 - 特許庁
A controller 10 and plural units M, S are placed in a radio transmission area 1 and they can communicate with each other by using a global transmission pattern.例文帳に追加
ワイヤレス伝送エリア1内には、コントローラ10と複数のユニットM,Sが配置され、互いにグローバル伝送パターンを用いて無線通信可能となっている。 - 特許庁
To perform Inter-Symbol Interference (ISI) scaling on an S-parameter touchstone file to generate ISI scaling to a serial data pattern generated by direct digital synthesis.例文帳に追加
Sパラメータ・タッチストーン・ファイルに符号間干渉(ISI)スケーリングを行い、ダイレクト・デジタル・シンセシスで生成するシリアル・データ・パターンにISIスケーリングを発生させる。 - 特許庁
A serial data pattern parameter and the ISI scaling value used together with the S-parameter touchstone file are compiled to generate a digital data waveform recording file.例文帳に追加
Sパラメータ・タッチストーン・ファイルと共に使用するシリアル・データ・パターン・パラメータ及びISIスケーリング値はコンパイルされて、デジタル・データの波形記録ファイルを生成する。 - 特許庁
Since the regularity for a comparatively long period present in a repetitive pattern of the before-processing image S can be cancelled, moire can be eliminated.例文帳に追加
処理前画像Sにおける繰り返しパターンに存在する比較的長周期の規則性を打ち消すことができるので、モアレを除去することが可能になる。 - 特許庁
On the creping pattern, a land part L forming a face directly in touch with sheets and a sea parts S recessed from the land part L are arranged at random.例文帳に追加
シボ模様では、紙葉類と直接的に接する面を形成する陸地部Lとこの陸地部Lから凹陥する海部Sとが無秩序に配置されている。 - 特許庁
To provide a color image forming device having less toner consumption by not forming toner of a foundation and forming a patch pattern in a recording medium and detecting the patch pattern with high S/N ratio.例文帳に追加
本発明の課題は、下地のトナーを形成せずにパッチパターンを記録媒体に形成し、これを高いSN比で検出することによりトナーの消費量の少ないカラー画像形成装置を提供することである。 - 特許庁
Based on predetermined line data, the control circuit generates the punch data including: draw data for drawing predetermined pattern(s) on the workpiece W through formation of a plurality of penetrations H; cut data for cutting along the outline of the pattern(s) ; and auxiliary cut data for forming cut E which helps the user when detaching the outline of the pattern from workpiece W.例文帳に追加
制御回路は、所定の模様のラインデータから、被加工物Wに対し複数の小孔Hにより所定の模様を描画するための描画データと、模様の輪郭に沿って切断するためのカットデータと、被加工物Wから模様の輪郭部分を切離す作業をユーザが容易に行うための切込みEを形成する補助切込データとを含む打刻データを作成する。 - 特許庁
The laminated substrate is pattern-molded, by using a standard photograph flat-plate technology and etching is applied, and a rectangular or a columnar column is formed on the upper part of the substrate, composed of conductive layer(s) and non-conducive layer(s).例文帳に追加
積層された基板を標準的な写真平板技術を使用してパターン成形し、そしてエッチングして、導電性層及び非導電性層からなる基板の上部に矩形状または円柱状の柱を形成する。 - 特許庁
The jig 1 for forming the film includes: bridge members 4; actuators 5; an island part masking member 31 for masking the island region of the substrate surface S; and an outer periphery masking member 32 for masking the outer region of the pattern on the substrate surface S.例文帳に追加
成膜用治具1は、ブリッジ部材4と、アクチュエータ5と、基板表面Sの島領域をマスクする島部マスク部材31と、基板表面Sにおけるパターンの外部領域をマスクする外周マスク部材32とを備える。 - 特許庁
The input bit (SS 561) which is made hardly influenced by the disturbance in such a manner is used and a count value (S 563) of a non-modulation region (Unity) existing in front of a SYNC pattern is utilized for generation of a gate signal (S 564) in order to detect a synchronizing signal.例文帳に追加
こうして外乱に影響され難くした入力ビット(S561)を用い、SYNCパターンの前にある無変調領域(Unity)のカウント値(S563)を同期信号検出のためのゲート信号(S564)生成に利用する。 - 特許庁
The magnetic N-S serve band section includes a servo track segment, which is initialized by the polarity of the N magnetic pole, and a servo pattern of the polarity of the S magnetic pole recorded on the servo track segment which is initialized by the polarity of the N magnetic pole.例文帳に追加
磁気N−Sサーボ・バンド・セクションは、N磁極の極性により初期化されたサーボ・トラック・セグメントと、このN磁極の極性により初期化されたサーボ・トラック・セグメント上に記録されたS磁極の極性のサーボ・パターンとを含む。 - 特許庁
An evaluation point P is determined on each partial curved plane S and the distribution pattern of light is calculated and displayed for each curved plane S based on the reflection conditions of the light from the light source position F for each evaluation point P.例文帳に追加
そして、部分曲面S上に評価点Pを設定するとともに、評価点Pそれぞれでの光源位置Fからの光の反射条件に基づいて、部分曲面Sごとに配光パターンを算出して表示する。 - 特許庁
To provide a rame-containing patterned scrubbing brush and a scrubbing brush fabric having been impossible to commercialize so far, by forming alphabet letter(s) or desired pattern(s), or the like so as to float in a sharp and clear-cut fashion using a single rame yarn and colored yarns.例文帳に追加
一本のラメ糸と色糸を用いてシャープでくっきり浮き出すようにアルファベット文字や所望の絵柄等を形成できるようにしてこれまで商品化できなかった絵柄模様のラメ入りたわし、及びたわし生地を提供する。 - 特許庁
In addition to a lens barrel 5 which houses a projection optical system 3, a substrate cleaning unit 41 is provided which cleans a substrate S using the same liquid as a liquid which is supplied to an immersion region, prior to exposure of a pattern to the substrate S.例文帳に追加
投影光学系3を収納する鏡筒5に加えて基板洗浄ユニット41を設け、基板Sへのマスクパターンの露光に先立って、液浸領域に供給される液体と同一の液体を用いて基板Sを洗浄する。 - 特許庁
The film thickness measuring method forms a laminated film L0 by integrating an adhesion layer L1 comprising film thickness T1 on a substrate S including a mask pattern M by forming the mask pattern M on the substrate S, a measuring object layer Lm, and a protection layer L2 comprising film thickness T2 by having higher mechanical strength than the measuring object layer Lm in order.例文帳に追加
基板Sの上にマスクパターンMを形成し、マスクパターンMを含む基板Sの上に膜厚T1からなる密着層L1と、測定対象層Lmと、測定対象層Lmよりも高い機械的強度を有して膜厚T2からなる保護層L2とを順に積層して積層膜L0を形成した。 - 特許庁
A phase shift value collection section 23 collects a phase shift value of intermediate symbol data for each reference pattern every time a symbol data sequence outputted from a demodulation processing section 21 receiving a signal S to be measured is coincident with the reference pattern preset by a pattern setting section 22.例文帳に追加
位相推移値収集部23は、被測定信号Sを受けた復調処理部21から出力されるシンボルデータ列が、パターン設定部22によって予め設定された参照パターンに一致する毎に、その中間シンボルデータの位相推移値を参照パターン毎に収集する。 - 特許庁
The three-dimensional conductive molding 1 includes a molding 8 with a conductive pattern layer 6 or the conductive pattern layer 6 and an insulating pattern layer 7 formed thereon, and a resin binder 33 of the layer(s) is formed of a postcure type of an ionizing radiation curing resin including conductive nanofiber 3.例文帳に追加
立体形状導電性成形品1は、成形体8上に導電パターン層6あるいは導電パターン層6と絶縁パターン層7とが形成され、それらの層の樹脂バインダー33が後硬化タイプの電離放射線硬化性樹脂からなり、導電性ナノファイバー3を含んでいる。 - 特許庁
Sliding contact pattern 165 which sliding contacts the first moving body 130 through the connecting parts 67, 77 is formed and switch output detection members (third slider 115 and third sliding pattern 37) which extract the output of the push switch S through the connecting parts 67, 77 and the slide contact pattern 165 are installed.例文帳に追加
第1移動体130に接続部67,77を弾接させて摺接する摺接パターン165を形成し、押圧スイッチSの出力を接続部67,77と摺接パターン165を介して取り出すスイッチ出力検出部材(第3摺動子115と第3摺動パターン37)を設ける。 - 特許庁
It is preferable that the height ratio (H/R) of the microlens 4 is 5/8-1, a space ratio (S/D) is ≤1/2, a filling rate is ≥40%, the refractive index of a stock material is 1.3-1.8, and a distribution pattern is an equilateral triangle grating pattern or a random pattern.例文帳に追加
上記マイクロレンズ4の高さ比(H/R)としては5/8以上1以下、間隔比(S/D)としては1/2以下、充填率としては40%以上、素材の屈折率としては1.3以上1.8以下、配設パターンとしては正三角形格子パターン又はランダムパターンが好ましい。 - 特許庁
The optical image intensity distribution formed on a resist disposed on the side of a lower layer of a diffraction pattern by performing whole image exposure from the side of an upper surface of the diffraction pattern formed by lines L and spaces S on a substrate at a predetermined pattern pitch is calculated by using a multi-mode waveguide path analytic model or fractional Fourier transform for the diffraction pattern.例文帳に追加
ラインLとスペースSによって所定のパターンピッチで基板上に形成された回折パターンの上面側から全面露光を行なうことによって回折パターンの下層側に配置されたレジストに形成される光学像強度分布を、回折パターンに対してマルチモード導波路解析モデル又はフラクショナルフーリエ変換を用いることにより算出する。 - 特許庁
Since a display pattern, a sound effect pattern and a light emission pattern as a series of variation patterns of the variable display is designated at a time by a variation pattern designating command, it is not necessary to transmit control commands to respective control boards S, D, M, and L from the main control board C at each point where the state of the variable display changes.例文帳に追加
変動パターン指定コマンドによって変動表示の一連の変動パターンとしての表示パターンと効果音パターンと発光パターンとを一度に指定することができるので、変動表示の状態が変化する各ポイント毎に、主制御基板Cから各制御基板S,D,M,Lへそれぞれ制御用コマンドを送信する必要がない。 - 特許庁
Based on results of imaging in a specific plurality of measuring ranges being on a straight line, on an L/S pattern extracted from results P of imaging of a mark as a measuring pattern, a representative point of each measuring range is detected.例文帳に追加
計測用パターンとしてのマークの撮像結果Pから抽出された、L/Sパターン上において、直線上に並ぶ特定の複数の計測範囲内の撮像結果に基づいて、それぞれの計測範囲の代表点を検出する。 - 特許庁
By contrast, when pattern images Spy to Spk are to be formed on a sheet S in response to the instruction of the main control section 40, the image forming control section 46 does not perform deviation correction in the process of forming a pattern image.例文帳に追加
これに対して、画像形成制御部46は、メイン制御部40からの指示に応じて用紙Sにパターン画像Spy〜Spkを形成する場合は、パターン画像の形成に際して片寄り補正を実施しないこととしている。 - 特許庁
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