「processing pressure」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The gas in the reactor pressure vessel 1 is guided to the gas waste processing system 19 by way of a reactor pressure vessel head spray pipe 8 and a main steam drain pipe 9a.例文帳に追加

原子炉圧力容器１内の気体を原子炉圧力容器ヘッドスプレイ配管８および主蒸気ドレン配管９ａを介して気体廃棄物処理系19へ導出する。 - 特許庁

To provide a high pressure vessel for high pressure hydrogen, having lower cost and higher hydrogen embrittlement resistance without the need for complicated processing such as fitting-in work for an inner layer liner.例文帳に追加

内層ライナーの嵌め込み作業といった煩雑な加工を行うことなく、低コストで、耐水素脆化性に優れた高圧水素用高圧容器を提供する。 - 特許庁

To provide an oxygen partial pressure controller with which an oxygen partial pressure of atmospheric gas etc. of a processing apparatus can be controlled within a range of 0.2-10^-30 atm under the condition of low material cost and low operating cost.例文帳に追加

低材料コストかつ低操業コストの条件のもと、処理装置の雰囲気ガス等の酸素分圧を0.2〜10^-30atmの範囲で制御しうる酸素分圧制御装置の提供。 - 特許庁

To provide a vaporized fuel processing device having a pressure-regulating valve for preventing damage to a fuel tank due to the pressure in the fuel tank at collision of a vehicle.例文帳に追加

車両衝突時に燃料タンク内の圧力により燃料タンクが破損するのを防止する圧力調整弁を備えた蒸発燃料処理装置を提供する。 - 特許庁

The variable fuel pressure system approaches the filter value to an actual detection value of a fuel pressure sensor by filter-processing it in giving a weight to approach to the actual fuel pressure under a condition that a large deviation from the actual fuel pressure value is easily generated when a difference of the target fuel pressure value to be set and the present filter value is a predetermined value or more.例文帳に追加

本発明の可変燃圧システムは、設定される目標燃圧値と現在のフィルタ値との差が所定値以上のとき、実際の燃圧に近づく重みつけでフィルタ処理させることによって、実際の燃圧値と大きなずれが生じやすい状況のとき、フィルタ値を実際の燃圧センサの検出値に対して近づけるようにした。 - 特許庁

To apply fine lens processing pressure and perform the fine adjustment, in a lens processing device cutting and polishing a surface of a lens material to be a processing object, while performing dependent rotation of the surface of the lens material by pressing the surface on a processing surface of a rotating lens processing tool.例文帳に追加

加工対象のレンズ素材の表面を、回転しているレンズ加工具の加工面に押し付けて従属回転させながら、当該レンズ素材の表面の切削、研磨加工を行うレンズ加工装置において、微小なレンズ加工圧力を加えることができ、その微細調整も可能にすること。 - 特許庁

To provide a low pressure transportation method and a low pressure transportation system for a processing solution, which can surely prevent the mixing and dissolution of bubbles into the processing solution when the processing solution is transported from a first tank to a second tank even when performing deaeration and degassing in a batch system.例文帳に追加

バッチ方式で脱気・脱泡処理を行う場合においても、処理液を第１タンクから第２タンクへ搬送するに際して、処理液へ気泡が混入溶解されることを確実に防止することが可能な処理液の減圧搬送方法及び減圧搬送装置を提供する。 - 特許庁

A circuit board 9 where a plurality of electric circuit components constituting a signal processing circuit for processing outputs of a capacitance type pressure sensor element, with the inclusion of a signal processing IC 4, are mounted on the mounting surface of a base member, is disposed above the capacitance type pressure sensor element.例文帳に追加

静電容量型圧力センサ素子の上方には、基板部材の実装面上に圧力センサ素子の出力を処理するための信号処理回路を構成する信号処理用ＩＣ４を含む複数の電気回路部品を実装した回路基板９を配置する。 - 特許庁

The load lock system includes: a load lock chamber 3 disposed between a storage port 10 for storing a substrate and a processing chamber 1 for processing the substrate in a processing space of which pressure is maintained lower than the external pressure; and a dehumidifying unit 97 for forming a dehumidified atmosphere in the load lock chamber 3.例文帳に追加

ロードロックシステムは、基板を格納する格納ポート１０と外部の圧力より低い圧力に維持された処理空間内で該基板を処理するための処理室１との間に配置されるロードロック室３と、ロードロック室３内に除湿された環境を形成する除湿ユニット９７と、を備える。 - 特許庁

To restrain draining of a battery by reducing an electric power consumption of a control unit during engine stopping, in a constitution in which, after engine stopping, reduction in pressure of a processing passage of an evaporation fuel processing device is performed and at this time the pressure in the processing passage is detected to carry out leak diagnosis.例文帳に追加

エンジン停止後に蒸発燃料処理装置の処理経路内を減圧し、そのときの処理経路内の圧力を検出してリーク診断を行う構成において、エンジン停止中におけるコントロールユニットの消費電力を低減し、バッテリの消耗を抑止する。 - 特許庁

The method has a processing-to-size step for pressing the wire connection portion by a main electrode 12 to perform a bending processing up to a predetermined position, and a processing under constant pressure step for causing an electric current to flow through the wire connection portion via the main electrode 12 while pressing the the wire connection portion under a predetermined pressure by the main electrode 12.例文帳に追加

この溶接方法は、結線部を主電極１２にて押圧して所定位置まで曲げ加工を行う定寸加工工程と、結線部を主電極１２にて所定圧力で押圧しながら該主電極１２を介して結線部に電流を流す定圧加工工程とを有する。 - 特許庁

The blood pressure information measuring device includes a determination processing part 103 to determine a control range of cuff pressure in detecting a control target value for servo control based on reference pulse waves, measurement pulse waves, and cuff pressure, and a detection processing part 104 to detect the control target value by gradually varying the cuff pressure in the determined control range.例文帳に追加

血圧情報測定装置は、基準脈波、計測用脈波およびカフ圧に基づいて、サーボ制御の制御目標値を検出する際のカフ圧の制御範囲を決定するための決定処理部１０３と、決定された制御範囲において、カフ圧を徐々に変化させることにより制御目標値を検出するための検出処理部１０４とを含む。 - 特許庁

The fluid feed device is constituted so as to feed the fluid using the flow channel for allowing the fluid to flow and has a pressure producing means which produces pressure for feeding the fluid, a plurality of processing parts for processing the fluid, the valve positioned between a plurality of the processing parts to control the flow of the fluid and a pressure releasing means for releasing the pressure in the flow channel.例文帳に追加

流体を流すための流路を用いて流体を搬送する流体搬送装置であって、前記流体を搬送するための圧力を発生する圧力発生手段と、前記流体に対し処理を行う複数の処理部と、該複数の処理部の間に位置し前記流体の流れを制御するためのバルブと、前記流路中の圧力を開放する圧力開放手段と、を有する流体搬送装置。 - 特許庁

In maintenance, the exhausting of the processing chamber P is stopped first, then an inert gas such as a nitrogen gas is introduced into the processing chamber P from an introduction port not shown in Figure, and a pressure is increased to a degree of 1000Pa (specific internal pressure).例文帳に追加

メンテナンス時などにおいては、まず、プロセス室Ｐの排気を停止し、不図示の導入口からプロセス室Ｐ内に窒素ガスなどの不活性ガスを導入して、１０００Ｐａ（所定の内圧）程度まで圧力を増大させる。 - 特許庁

A semiconductor manufacturing apparatus comprises pressure adjustment means 19 capable of adjusting a pressure inside a processing chamber 11, and a gas supply source 15b and a mass flow controller 17b flowing an inert gas at an adjusted flow rate into the processing chamber 11.例文帳に追加

処理室１１内の圧力を調整可能な圧力調整手段１９と、処理室１１内に流量が調整された不活性ガスを流入させるガス供給源１５ｂおよびマスフローコントローラ１７ｂとが設けられている。 - 特許庁

Here, the actuator 62 is feedback controlled by a control means 66 so as to conform the actual intake air amount to the delay processing value of the target intake air amount or the actual supercharge pressure to the delay processing value of the target supercharge pressure.例文帳に追加

この場合に、実吸入空気量が目標吸入空気量の遅れ処理値とまたは実過給圧が目標過給圧の遅れ処理値と一致するように制御手段６６が前記アクチュエータ６２をフィードバック制御する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method with which even when a wafer is processed in a low-pressure state, a temperature of the wafer can be efficiently adjusted while preventing attachment of particles to the wafer and an occurrence of damage to the wafer; and also provide a recording medium used for the substrate processing apparatus and the substrate processing method.例文帳に追加

ウェハを低圧状態で処理する場合であっても，ウェハに対するパーティクルの付着や損傷の発生を防止しながら，ウェハの温度を効率的に調節できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a machining method for a dynamic pressure generating groove capable of easily processing with low running cost a groove for generating dynamic pressure in a dynamic pressure bearing interposing fluid such as air between opposing inner and outer cylindrical circumferential faces for journaling it by dynamic pressure so as to freely relatively rotate.例文帳に追加

この発明は、対向する内外筒状周面間に空気等の流体が介在して動圧により相対回転自在に軸支する動圧軸受において、動圧発生用の溝を容易に且つランニングコストを安く加工可能な動圧発生用溝の加工方法を提供する。 - 特許庁

An exfoliation sheet 4 is exfoliated from the pressure sensitive adhesive sheet 1 formed by laminating a base material 2, a pressure sensitive adhesive 5 and the exfoliation sheet 4 in this order, and the processing aptitude is evaluated from the size of a stingy area 3 of the pressure sensitive adhesive at a sectional exfoliated part of the exfoliated pressure sensitive adhesive sheet 1.例文帳に追加

基材２、粘着剤５、剥離シート４の順に積層された粘着シート１から、前記剥離シート４を剥離させ、この剥離させた粘着シート１の断面剥離部分における前記粘着剤の糸曳き面積３の大きさにより、加工適性を評価する。 - 特許庁

To provide a fluid dynamic pressure bearing and a forming method for a dynamic pressure generating groove, which contribute to the enhancement of productivity and process performance because the dynamic pressure generating groove can be excellently and quickly formed in the thrust bearing surface or the radial bearing surface of the fluid dynamic pressure bearing by means of a laser processing method.例文帳に追加

レーザ加工法により、流体動圧軸受のスラスト軸受面またはラジアル軸受面に動圧発生溝を迅速かつ良好に形成することができ、生産性の向上、加工性能の向上に寄与する、流体動圧軸受及び動圧発生溝の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device for monitoring a city water pressure reducing valve, enabling the prediction of a sign of trouble in the pressure reducing valve and coping therewith earlier in trouble by collecting pressure data on the primary and secondary sides of the city water pressure reducing valve installed in areas with a remote managing computer for analyzing processing.例文帳に追加

各地に設置されている水道用減圧弁の１次側と２次側との圧力データを、遠隔地の管理用コンピュータで収集して、分析処理することにより、減圧弁の故障の前兆の予測や、故障時の早期対応を図れる水道用減圧弁の監視装置を提供する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 10 is further equipped with a pressure supervisory unit 50, providing: a tube passage 51 for pressure measurement whose one end is opened in a clearance at a position facing to a center section Wa of the substrate W; and a pressure sensor 53 coupled to the other end of the tube passage 51 for pressure measurement.例文帳に追加

基板処理装置１０は、基板の中央部Ｗａに対面する位置において隙間にその一端が開放された圧力測定用管路５１と、圧力測定用管路の他端に連結された圧力センサ５３と、を有する圧力監視装置５０を、さらに備える。 - 特許庁

Pressure of a processing chamber for forming an EL layer by using the printing method (or called a printing chamber) in a pixel part of a light-emitting device is put in a pressurizing state of atmospheric pressure (normal pressure) or the atmospheric pressure or more, and the inside of the printing chamber is filled with an inert gas or put in a solvent atmosphere.例文帳に追加

発光装置の画素部に印刷法を用いてＥＬ層を形成するための処理室（または、印刷室と呼ぶ）の圧力を大気圧（常圧）又は大気圧以上の加圧状態にし、さらに印刷室内を不活性気体で充填したり、溶媒雰囲気とすることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus that promptly lowers the temperature of a heating plate, while the infiltration of particles into a processing chamber and rise of the internal pressure of the processing chamber are prevented.例文帳に追加

処理室へのパーティクルの侵入および処理室の内圧の上昇を防止しつつ、加熱プレートを迅速に降温することができる加熱処理装置を提供すること。 - 特許庁

Control method for the pushing action by the pressure hammer is changed depending on whether the ground electrode 14 exists in a rough processing zone A or in a finishing processing zone B.例文帳に追加

粗加工領域Ａに接地電極１４があるときと、仕上加工領域Ｂに接地電極１４があるときとで、押圧ハンマーによる押圧動作の制御方法を変更する。 - 特許庁

The processing for decompressing the pressure chamber and changing the condition into vacuum condition is made to be performed at the timing under recording operation before the processing for ejecting the ink or the timing under recording standby.例文帳に追加

圧力室を減圧して負圧状態にする処理を、インクを排出させる処理に先立つ記録動作中または記録待機中のタイミングで行うようにする。 - 特許庁

To provide a processing method and processing apparatus of a molded body which can suppress the generation of bubbles, prevent pressure distortion, improve dimensional stability, and easily control temperature.例文帳に追加

気泡発生を抑制するとともに、圧力歪みを防ぎ寸法安定性に優れ、温度調節が簡単な成形体の加工方法及び加工装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a system for detecting the supply pressure of processing liquid being supplied by a pressurizing system and delivering clean processing liquid from an delivery opening onto the surface of a substrate.例文帳に追加

加圧方式で供給される処理液の供給圧を検出し、吐出口から清浄な処理液を基板表面へ吐出できるような装置を提供する。 - 特許庁

The heating temperature of a pressure member 71 in warm-up processing is adjusted according to the shift time until shifting to an energy saving mode from the completion of warm-up processing is made.例文帳に追加

ウォームアップ処理の完了から省エネルギモードに移行するまでの移行時間に応じてウォームアップ処理における加圧部材７１の加熱温度を調節する。 - 特許庁

To provide a pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor wafer processing which reduces imperfections and, at the same time, excels in resistance to chipping and prevents the scattering of chips on dicing in the semiconductor wafer processing.例文帳に追加

半導体ウエハ加工に際して、不純性が少なくかつ耐チッピング特性に優れダイシングの際のチップ飛びを防ぐ半導体ウエハ加工用粘着シートを提供すること。 - 特許庁

The image is fixed on the recording medium by applying prasma processing to an image (3) recorded on a recording medium (10) using a recording material containing a component curable by normal pressure plasma processing.例文帳に追加

常圧プラズマ処理により硬化する成分を含む記録剤を用いて記録媒体に記録された画像に対して施すことで、画像を記録媒体に定着させる。 - 特許庁

To provide a processing method for a solution layer for, for example, forming a thin film on the base or processing the base surface in a liquid phase at normal temperature under normal pressure.例文帳に追加

液相中で、常温、常圧にて、例えば基体上に薄膜を成膜し、あるいは又、基体表面を処理するための溶液層の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a failure diagnosing device for a vaporized fuel processing device capable of sensing a fuel leak at the processing device accurately even if the internal pressure of a tank has changed largely.例文帳に追加

タンク内圧が大きく変化しても蒸発燃料処理装置における燃料の漏れ異常を高い精度で検出することのできる異常診断装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dynamic-pressure bearing motor which can improve the processing work efficiency and reduce manufacturing cost, by minimizing the processing to a bearing sleeve.例文帳に追加

軸受スリーブに対する加工を最小限に抑え、これにより加工作業性を改善し、製造コストを低減することができる動圧軸受モータを提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus for easily unifying a plasma density distribution near a substrate under plasma processing conditions, such as a wide range of gas species and pressure.例文帳に追加

本発明は、広範囲なガス種や圧力等のプラズマ処理条件において基板近傍プラズマ密度分布を均一にするプラズマ処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which can conduct plasma processing for a substrate by producing plasma under atmospheric pressure, while suppressing the discharge of gas to the atmosphere.例文帳に追加

大気へのガスの放出を抑制しつつ、大気圧にてプラズマを発生させて基板に対するプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

The signal processing section records positive and negative of the rate of change when the pressure of the acoustic waves change prior to processing the waveforms of the acoustic waves detected by the detecter.例文帳に追加

この信号処理部は、検出器により検出された音響波を波形処理する前に、該音響波の圧力変化時における変化率の正負を記憶する。 - 特許庁

In supplying one of the first and second material gases to the processing chamber, the gas is supplied while making pressure in the processing chamber vertically fluctuate.例文帳に追加

第１の原料ガスＡ又は第２の原料ガスＢの一方の原料ガスを処理室内に供給する際、処理室内の圧力を上下に変動させつつ供給する。 - 特許庁

The pump module 15 operates to diagnose a trouble on sealability in a vapor processing flow passage including the canister 8 to change the internal pressure of the processing flow passage.例文帳に追加

ポンプモジュール１５は、キャニスタ８を含むベーパ処理流路における気密性に関する故障を診断するために作動し、その処理流路の内部圧力を変更する。 - 特許庁

In the device for processing the groove, the assist gas pressure composition in the laser beam scanning direction is preferably 0.06 MPa to 0.15 MPa in the processing point.例文帳に追加

上記溝加工装置において、レーザビーム走査方向のアシストガス圧力成分は加工点において０．０６ＭＰａ以上０．１５ＭＰａ以下であることが好ましい。 - 特許庁

In the bulge processing method, water hammer phenomenon is generated in the closed annular flow passage 5 by using the bulge processing device, and the work 3 is bulge-processed by utilizing the pressure rise caused thereby.例文帳に追加

前記バルジ加工装置を用いて閉環状流路５に水撃を発生させ、それによる圧力上昇を利用して被加工材３を成形するバルジ加工方法。 - 特許庁

To provide a spin processing device capable of preventing pressure in a processing tank from increasing even if the revolution speed of a rotary table is increased.例文帳に追加

この発明は回転テーブルの回転数を増大させても、処理槽内の圧力が上昇するのを防止できるようにしたスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To enable one internal combustion engine pressure sensor disposed on the cylinder head of an internal combustion engine to simultaneously sense combustion pressure and detect abnormalities in a fuel injection system to thereby simplify an arrangement about the cylinder head, relating to the pressure sensor and a pressure signal processor for processing pressure signals output from the internal combustion engine pressure sensor.例文帳に追加

本発明は内燃機関のシリンダヘッドに配設される内燃機関用圧力センサ、及びこの内燃機関用圧力センサから出力される圧力信号を処理する圧力信号処理装置に関し、一つの内燃機関用圧力センサで燃焼圧の検知と燃料噴射装置の異常検出を可能とし、これによりシリンダヘッド周りの構成の簡単化を図ることを課題とする。 - 特許庁

A pressure gage 6 and a vacuum gage 7 measure the supply pressure value of a gas bomb 1-side and a pressure value in the vacuum processing chamber 2 of a semiconductor manufacture device in a state where a stop value 4 is opened and a stop valve 5 is closed.例文帳に追加

開閉弁４が開き開閉弁５が閉じた状態で、ガスボンベ１側の供給圧力値と半導体製造装置の真空処理室２内の圧力値をそれぞれ圧力計６及び真空計７により測定する。 - 特許庁

To control the pressure in a back pressure chamber without increasing the processing accuracy of a valve stopper for damping valve or a backup collar when back pressure chamber is provided at the back face of the damping valve, by installing the backup collar at the periphery of the valve stopper.例文帳に追加

減衰バルブのためのバルブストッパの外周にバックアップカラーを設け、減衰バルブの背面側に背圧室を設けるに際し、バルブストッパやバックアップカラーの加工精度を上げることなく、背圧室の圧力を制御可能にすること。 - 特許庁