「processing pressure」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

Before the semiconductor substrate is processed in the processing chamber 10, a zero point of the pressure gauge 30 and the MFC 20 is adjusted.例文帳に追加

処理室１０で半導体基板が処理される前に圧力計３０およびＭＦＣ２０のゼロ点が調整される。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus that makes in-plane distribution of substrate temperature uniform even when gas pressure of a heat transfer gas is high.例文帳に追加

伝熱ガスのガス圧が高圧であっても、基板温度の面内分布を均一化できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a highly efficient estimating method of illustrated accurate average effective pressure while reducing a burden of arithmetic processing in a control system.例文帳に追加

制御系での演算処理の負担を低減しながらも精度の良い図示平均有効圧の推定方法を提案する。 - 特許庁

More specifically, brake fluid, contained in the stroke simulator 24, is connected to a fluid pressure circuit in vacuum-filling processing.例文帳に追加

すなわち、真空充填処理に際してストロークシミュレータ２４にブレーキフルードを封じ込めた状態で液圧回路に接続する。 - 特許庁

To provide a seal system ensuring the safe operation of an extremely high-pressure centrifugal compressor for processing lethal gas.例文帳に追加

致死ガスを処理する非常に高圧の遠心圧縮機の安全な作動を保証する密封システム（１０）を提供する。 - 特許庁

To selectively conduct the plasma etching to silicon nitride under the almost normal pressure for the processing object including silicon nitride and silicon oxide.例文帳に追加

窒化シリコンと酸化シリコンを有する被処理物において、略常圧下で前記窒化シリコンを選択的にプラズマエッチングする。 - 特許庁

The amount of the fluid in the space is adjusted to control the processing pressure to the work by the chuck plate.例文帳に追加

空間内の液体の量を調節することにより、チャックプレートによる被加工物への加工圧力を制御する。 - 特許庁

To easily provide appropriate printing quality, in the case of adjusting a printing pressure in test printing processing of a printing state.例文帳に追加

印字状態のテストプリント処理の印字圧の調整において、適正な印字品質を容易に提供できるようにする。 - 特許庁

The thawing process in the process (1) may be performed at the same time as enzyme-impregnating processing under reduced pressure in a succeeding process.例文帳に追加

また、上記工程（１）における解凍処理を、次工程の減圧下の酵素含浸処理と同時に行ってもよい。 - 特許庁

The natural fiber base is produced by processing bark of Cryptomeria japonica and/or white cedar into chips for vegetation, mixing the chips with an adhesive and subjecting the chips to pressure forming.例文帳に追加

杉および／または桧の樹皮を植生用に加工したチップに接着剤を混入し、加圧成形する。 - 特許庁

To provide a liquid treatment apparatus which can restrict pressure fluctuations inside a liquid treatment unit where a processing body is treated with liquid.例文帳に追加

処理体を液処理する液処理部内の圧力の変動を抑制することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁

Processing gas is introduced into a reaction chamber in a state where it is controlled to prescribed gas pressure, and it is kept a for prescribed time.例文帳に追加

次に、所定のガス圧力に制御した状態でプロセスガスを反応室内に導入し、一定時間保持する。 - 特許庁

The normal pressure plasma processing apparatus M includes a pair of upper and lower first and second electrode units 10, 20, and a movement mechanism 30.例文帳に追加

常圧プラズマ処理装置Ｍは、上下一対の第１、第２電極ユニット１０，２０と移動機構３０を備えている。 - 特許庁

Such treeing-resistant insulating material can be manufactured by performing crystallization under pressure after orientation processing.例文帳に追加

このような耐トリー絶縁材料は、配向処理を行なった後、圧力下で結晶化処理を行なうことにより製造できる。 - 特許庁

LUBRICATED STEEL PANEL EXCELLENT IN MOLD GALLING RESISTANCE AND CONTINUOUS MOLDABILITY IN HIGH SURFACE PRESSURE/STRONG IRONING PROCESSING, AND MOLDING METHOD THEREFOR例文帳に追加

高面圧強しごき加工での耐型カジリ性、連続成形性に優れた潤滑処理鋼板およびその成形方法 - 特許庁

The upper surface of the stage body 21 of the stage 20 of the normal-pressure plasma processing apparatus M is assumed to be a substrate installation face made of metal.例文帳に追加

常圧プラズマ処理装置Ｍのステージ２０のステージ本体２１の上面を金属からなる基板設置面とする。 - 特許庁

The allowable variation range of the maximal blood pressure predetermined for the patient 1 is set in a processing computer 6 for monitoring.例文帳に追加

監視用処理コンピュータ６には患者１に予め定められた最高血圧の許容変動範囲を設定する。 - 特許庁

When the timing of performing the first and second conversion processing overlaps, the AD conversion unit 31 does not perform the second conversion processing, and then the control processing unit 34 performs the control on the basis of the estimated value of the in-cylinder pressure.例文帳に追加

第１及び第２の変換処理の実行タイミングが重なる場合には、ＡＤ変換部３１は、第２変換処理を実行せず、制御処理部３４は、筒内圧推定値に基づいて制御を実行する。 - 特許庁

To provide a plasma generation apparatus, a plasma processing apparatus, a plasma generation method and a plasma processing method, that can generate a plasma of large area and uniform plasma density even when processing pressure is high.例文帳に追加

本発明は、処理圧力が高い場合であっても大面積、かつ均一なプラズマ密度のプラズマを生成することができるプラズマ生成装置、プラズマ処理装置、プラズマ生成方法及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus for performing easy electric discharge under the atmospheric pressure with the existence of nitrogen while enduring long-time streamer electric discharge to provide an object with wide-range uniform processing with low damage in a shorter processing time.例文帳に追加

大気圧・窒素中の放電が容易で、長時間のストリーマ放電に耐え、広範囲で均一な処理ができ、対象物に低ダメージの処理ができ、処理時間が短縮されたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

A physical property change detection means for heat, light and pressure required for the image-processing of the image-processing unit 2 and a fault detection means for the image- processing unit 2 are provided and the data are transmitted to the management unit 3.例文帳に追加

また、画像処理装置２の画像処理に必要な、熱、光、圧力等の物理特性値変化検出手段及び画像処理装置２の異常検出手段を備え、それらのデータを管理装置３に送信する。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate grinding machine that performs constant-speed grinding processing and constant-pressure grinding processing in a series of operations, makes a processed alteration layer thin, and improves processing efficiency.例文帳に追加

一定速度での研削加工と一定圧力での研削加工を一連の動作で行うことを可能とし、加工変質層を薄くし、かつ加工能率の向上を図った半導体基板研削機を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and method, which reduce a difference in a processing characteristic in a stacking direction or a difference in a processing characteristic within a substrate surface in a batch type vertical hot wall pressure reducing CVD apparatus.例文帳に追加

バッチ式縦形ホットウオール形減圧ＣＶＤ装置において、積層方向の処理特性差、あるいは基板面内の処理特性差を低減する基板処理装置、及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Of a plurality of vacuum chambers, a vacuum chamber 2 closest to the atmospheric pressure side is vented to the atmospheric pressure, and a vacuum chamber 3 on the vacuum processing device side adjacent to the chamber 2 is roughly exhausted.例文帳に追加

複数の真空チャンバー中、大気圧側に最も近い真空チャンバー２を大気圧にベントすると共に、２に隣接する真空処理装置側の真空チャンバー３を荒引排気する。 - 特許庁

To provide a leak checking method for detecting whether there is a leak in a substrate processing apparatus which processes a substrate under pressure close to the atmospheric pressure, and easily specifying the place of the leak.例文帳に追加

大気圧付近の圧力下で基板を処理する基板処理装置におけるリークの有無を検出することが可能であり、リーク箇所の特定が容易であるリークチェック方法を提供する。 - 特許庁

An AE signal processing device 13 makes a comparison between a measurement parameter obtained from the acoustic emission signal and a preset evaluation reference parameter, thereby inspecting the quality of the pressure welding part of a friction pressure welding part.例文帳に追加

ＡＥ信号処理装置１３は、アコースティック・エミッション信号から得た計測パラメータと予め定めた評価基準パラメータとを比較して、摩擦圧接部品の圧接部の品質を検査する。 - 特許庁

First and second pressure contact electrodes 41, 42 of the piezoelectric element 4, and third and fourth pressure contact electrodes 51, 52 of the signal processing circuit 5 are arranged facing, in a separated state at a prescribed interval S.例文帳に追加

圧電素子４の第１・第２圧接電極４１、４２と、信号処理回路５の第３・第４圧接電極５１、５２と、を所定間隔Ｓを設けて分離した状態で対向配置する。 - 特許庁

The sheet processing apparatus applies pressure while the bundle of the sheets is fixed by grasping the bundle of the sheets using a clamp material 890 when the pressure is applied to the bundle of the sheets by a pair of press rollers 861.例文帳に追加

プレスローラ対８６１でシート束にプレス処理を行う際に、シート束をクランプ部材８９０で把持することによりシート束を固定させた状態でプレス処理を行う。 - 特許庁

When the contact pressure detected by the pressure sensor 20 departs from a prescribed range, measurement data obtained by the timing is abandoned and not used for an arithmetic processing in a succeeding stage.例文帳に追加

更に、圧力センサ２０で検出した接触圧が所定範囲を逸脱している場合には、そのタイミングで得られた測定データを廃棄し、後段の演算処理に利用しないものとする。 - 特許庁

To provide a device for detecting tire air-pressure drop that derives a single reduced-pressure determination result by processing determination values of a DLR system and an RFM system simultaneously.例文帳に追加

ＤＬＲ方式およびＲＦＭ方式の判定値を同時に処理することにより単一の減圧判定結果を導くことができるタイヤ空気圧低下検出装置を提供する。 - 特許庁

Then, the output of the pressure sensor 60 is fed back to an arithmetic processing section which is a control part that adjusts the rotational speed of the pressure roller 31 so as to keep the fixing linear speed constant.例文帳に追加

そこで、圧力センサ６０の出力を制御部である演算処理部にフィードバックし、加圧ローラ３１の回転数を調整して、定着線速を常に一定に保つようにする。 - 特許庁

To provide an electronic apparatus which absorbs the processing variations of components and brings a heat dissipating block into pressure contact at a proper pressure with a heat dissipating surface of an apparatus body to offer a sufficient cooling effect.例文帳に追加

部品の加工上のバラツキを吸収して放熱ブロックを機器本体の放熱面部に適切な圧力で圧接させて十分な冷却効果を得ることができるようにする。 - 特許庁

To provide a high pressure processing apparatus which uses a high pressure fluid which enables efficient cleanliness of a passage system of the apparatus and increased cleaning degree of the passage system of the apparatus.例文帳に追加

高圧処理装置の流路系を効率よくクリーニングし、かつ、高圧処理装置の流路系の清浄度を向上できる高圧流体を用いた高圧処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pressure governor and its processing method for suppressing degradation of air tightness and pressure governance, and securing good performance even for long term use.例文帳に追加

本発明の目的は、長期にわたって使用しても気密性能の低下や整圧性能の低下を抑制して良好な性能を確保する整圧器及びその処理方法を提供する点にある。 - 特許庁

In this pressure-sensitive keyboard and its arrangement used by a pressure-sensitive information processing system, input to the ten direction keys corresponding to ten fingers is carried out by applying force without changing finger positions.例文帳に追加

感圧式情報処理システムが使用するキーボード及びその配列で、１０個の方向キーは１０本の指に対応し、施力により入力し、指の位置を変える必要はない。 - 特許庁

Next, the inside of the processing tank 21 is set at a specified high pressure, thereby supplying a steam that is adjusted at a high boiling temperature corresponding to the specified pressure for reflow soldering.例文帳に追加

次に、処理槽２１内を所定の高圧とすることにより、その圧力に対応する高い沸点温度に調整された蒸気が供給されてリフロー半田付けが行われる。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus for generating stable plasma at from high pressure to low pressure by forming an adequate resonance region in a top plate according to plasma conditions.例文帳に追加

プラズマ条件に応じて天板内に最適な共振領域を形成し、高い圧力から低い圧力にわたって安定したプラズマの発生が可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pressure-sensitive adhesive film for protection which shows appropriate adhesion to an adherend and does not generate a pollutant derived from the pressure-sensitive adhesive film on processing such as cutting.例文帳に追加

被貼付体に対して適度な接着性を示し、且つ、カッティング等の加工の際には粘着フィルム由来の汚染物質が発生しない保護用粘着フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a transferable fluidized processing earth pressure-feed pump capable of pressure-feeding fluidized processed earth discharged through a chute of a mixer car simply and costlessly force-fed through an intermediate range to an executing site.例文帳に追加

ミキサ車のシュートを通って排出される流動化処理土を、簡易且つ安価に施工現場に中距離圧送できる可搬式流動化処理土圧送ポンプを提供すること。 - 特許庁

While using column switching, preprocessing is performed by using a low-pressure pump under such optimal pressure as to prevent the occurrence of clogging, the status of the processing is monitored using an ultraviolet detector.例文帳に追加

カラムスイッチング法を用いて，前処理は低圧のポンプを用いて目詰まり等起こさない最適な圧力下で行い，その処理状況は紫外線検出器を用いてモニターする。 - 特許庁

A pressure adjusting device 57 is commanded by a control device 17 for adjusting the air pressure, whereby variation volume of the curvature of the reflection face M is adjusted corresponding to a laser processing condition.例文帳に追加

制御装置１７から圧力調整装置５７に指令して前記気体圧を調整することにより、レーザ加工条件に応じて反射面Ｍの曲率の変化量を調整する。 - 特許庁

The silicon nitride film 23 is deposited by supplying a processing gas containing a silane gas, a nitrogen gas and a hydrogen gas to a processing vessel of a plasma deposition apparatus, exciting the processing gas to generate plasma while maintaining the temperature of the substrate inside the processing vessel at 100°C or lower and the pressure inside the processing vessel at 20-60 Pa, and applying plasma processing using the plasma.例文帳に追加

シリコン窒化膜２３は、プラズマ成膜装置の処理容器内にシランガス、窒素ガス及び水素ガスを含む処理ガスを供給し、処理容器内の基板の温度を１００℃以下に維持し、且つ処理容器内の圧力を２０Ｐａ〜６０Ｐａに維持した状態で、処理ガスを励起させてプラズマを生成し、当該プラズマによるプラズマ処理を行って成膜される。 - 特許庁

To provide a maintenance method of a liquid jetting apparatus capable of shortening a maintenance processing time by detecting that a cavity covered by a cap member is recovered from a negative pressure state to an atmospheric pressure state after a suction processing, and to provide the liquid jetting apparatus.例文帳に追加

吸引処理の後にキャップ部材で覆われた空間が負圧状態から大気圧に戻ったことを検出して、メンテナンス処理時間の短縮を図ることができる液体噴射装置のメンテナンス方法、及び液体噴射装置を提供する。 - 特許庁

This leak determining device determines if the evaporation fuel processing system has a leak or not based on pressure detected by the pressure sensor after the evaporation fuel processing system is closed in a case where stop of the internal combustion engine is detected.例文帳に追加

リーク判定装置は、内燃機関が停止されたことが検出されたならば、該蒸発燃料処理系を閉じた後、圧力センサによって検出された圧力と所定に基づいて、該蒸発燃料処理系内にリークがあるかどうかを判定する。 - 特許庁

To obtain a releasable pressure-sensitive adhesive sheet which retains such a pressure-sensitive adhesive power as not to allow the sheet to come off from an adherend when the adherend is fixed e.g. in processing a member and which, when peeled off after the processing of the member, can be easily peeled off without staining the adherend.例文帳に追加

部材加工時等の被着体固定時には被着体から剥離しない程度の粘着力を有し、部材加工後等の再剥離時には、被着体を汚染することなく容易に剥離できる再剥離用粘着シートを得る。 - 特許庁