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same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4750件
On a first mask 10, a main pattern 11 corresponding to a circuit 31 and a sub-pattern 12 formed of a plurality of auxiliary patterns 13 continuously arranged and having sizes to receive influences of aberration the same as that of the main pattern 11 at the time of exposure are formed.例文帳に追加
第１のマスク１０に、回路部３１に対応の主パターン１１と、露光時に主パターン１１が受ける収差と同じ収差の影響を受けるサイズを各々が有し、連なって配列された複数の補助パターン１３より成る副パターン１２とが形成されている。 - 特許庁
The communication means transmitting a signal for setting a display pattern, and when a display pattern for any one of the electric light warning display units 12 is set, display patterns of the other electric light warning display units 12 are set to the same display pattern.例文帳に追加
その通信手段は、表示パターンの設定のための信号を送るものとなしておき、何れか１つの電光威嚇表示ユニット１２の表示パターンを設定することで、他の電光威嚇表示ユニット１２の表示パターンを同一表示パターンに設定する。 - 特許庁
The method includes an exposure step of irradiating the transfer object body with exposure light using a photomask, wherein the photomask 5 used in the exposure step has a first light shielding pattern 53 and a second light shielding pattern 55 different from the first light shielding pattern formed on the same transparent substrate 51.例文帳に追加
フォトマスクを用いて被転写体に露光光を照射する露光工程を有し、露光工程で用いるフォトマスク５は、同一の透明基板５１上に形成された、第１遮光パターン５３と、該第１遮光パターンとは異なる第２遮光パターン５５とを有する。 - 特許庁
To provide an overlay vernier mask pattern of a semiconductor element, along with a method of forming the same, capable of correctly forming a first overlay vernier pattern at a lower part and a second overlay vernier pattern at an upper part in the case where a triplex key method is utilized by applying a double patterning technology.例文帳に追加
ダブルパターニング技術を適用して三重キーの方法を利用する場合、下部の第１オーバーレイバーニアパターンと、上部の第２オーバーレイバーニアパターンとが正常に形成されるようにする半導体素子のオーバーレイバーニアマスクパターンとその形成方法を提供する - 特許庁
The pattern of the mask is projected on the photosensitive substrate with an exposure light quantity substantially different from a standard exposure light quantity required for forming a pattern of desired line width on the photosensitive substrate using a standard mask having a pattern of line width same as the converted value.例文帳に追加
換算値に等しい線幅のパターンを有する標準マスクを用いて感光性基板上に所望線幅のパターンを形成するのに必要な標準露光光量とは実質的に異なる露光光量で、マスクのパターンを感光性基板上に投影する。 - 特許庁
In the manufacture of the defective mask for inspecting a defect in a pattern transfer mask used in a semiconductor lithography process, the mask pattern 4 that is the same as a pattern transfer mask to be inspected is formed on a mask substrate that becomes the base of the defective mask.例文帳に追加
半導体体リソグラフィ工程にて用いられるパターン転写マスクの欠陥を検査するための欠陥マスクを製造するのにあたり、その欠陥マスクの基となるマスク基板上に、検査対象となるパターン転写マスクと同一のマスクパターン４を形成する。 - 特許庁
To avoid lowering the yield due to breaking of a resist pattern and prevent an etching liquid flow from being blocked in the gap between thick film patterns to accurately form a desired pattern over the entire substrate, when photosensitive layers on a substrate are exposed and developed to form a mask pattern and the substrate is etched with the mask pattern to form the pattern of the same shape as that of the mask pattern on the substrate.例文帳に追加
基板上に形成された感光層に露光および現像によりマスクパターンを形成し、そのマスクパターンを用いて基板をエッチングすることにより、基板にマスクパターンと同一形状のパターンを形成する際に、レジストパターンの破れによる歩留の低下を防止する一方で、厚膜パターン同士の隙間でエッチング液の流れが阻害されることを防止し、基板全体にわたり所望のパターンを精度良く形成できるようにする。 - 特許庁
The inspecting method for the electrooptical device uses an inspection pattern 150 formed by forming a metal film pattern 129 formed at the same time with a metal film in a display area on an organic film pattern 115 formed at the same time with an organic film in the display area for inspection of a functional member formed by stacking a metal film on an organic film.例文帳に追加
本発明の電気光学装置の検査方法は、有機膜上に金属膜を積層してなる機能部材の検査について、表示領域の有機膜と同時に形成された有機膜パターン１１５上に、表示領域の金属膜と同時に形成された金属膜パターン１２９を形成してなる検査パターン１５０を用いる。 - 特許庁
MOLD RELEASE AGENT, METHOD OF FORMING IRREGULAR PATTERN AND MANUFACTURING PROCESS OF OPTICAL INFORMATION STORAGE MEDIUM USING SAME, AND OPTICAL INFORMATION STORAGE MEDIUM例文帳に追加
離型剤、これを用いた凹凸パターンの形成方法及び光情報記録媒体の製造方法、並びに光情報記録媒体 - 特許庁
METHOD FOR APPLYING COATING LIQUID, METHOD FOR FORMING COATED FILM, METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
塗布液の塗布方法、塗膜の形成方法、ならびにそれを利用したパターンの形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
To provide an antenna pattern frame in which an antenna radiator is formed on the surface; a method and mold for manufacturing the same; and an electronic device.例文帳に追加
本発明はアンテナ放射体を表面に形成したアンテナパターンフレーム、その製造方法及び製造金型、電子装置に関する。 - 特許庁
A receiver side applies descramble processing, by using the same scramble pattern e3 as that of a transmitter side, and an output of the descramble processing is used for discriminating the carrier.例文帳に追加
受信側で送信側と同一のスクランブルパターンｅ３でデスクランブル処理を行って、この出力でキャリアの判断をなす。 - 特許庁
In the coil pattern 11 of the layer having the land part 10, width (vertical direction) is made small so as not to overlap with the land part 10 in the same layer.例文帳に追加
ランド部１０を持つ層のコイルパターン１１は、同層内でランド部１０と重複しないように（上下方向）幅を小さくする。 - 特許庁
To provide a method of forming a conductive pattern of low cost and capable of shortening takt time, and to provide a composition using the same.例文帳に追加
低コストで、タクトタイムの短縮が可能な導電パターンの形成方法及びこれに用いる組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁
The main spray E and the diffusion spray F are sprayed at the same time to form a spray pattern in a cross shape on the whole.例文帳に追加
この主噴射Ｅと拡散噴射Ｆが同時に噴射されることにより全体的に十字形状の噴霧パターンが形成される。 - 特許庁
To provide a technique to more reliably erase all the pixels, with a same erasing pattern, without leaving an after-image while not blinking the whole screen.例文帳に追加
画面全体を点滅させることなく、全画素を同じ消去パターンで、より確実に残像無く消去する技術を提供する。 - 特許庁
To provide a heat radiation substrate in which a fine circuit pattern can be formed and which is improved in heat radiation characteristics, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
微細回路パターンの形成が可能であるうえ、放熱特性が向上した放熱基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
After a photoresist pattern 4 is formed, a silicon nitride film 3, an oxide film 2, and a silicon substrate 1 are continuously etched in the same etching chamber.例文帳に追加
フォトレジストパターン４を形成し、シリコンチッカ膜３、酸化膜２、シリコン基板１を同一エッチングチャンバー内で連続的にエッチングする。 - 特許庁
DEVELOPMENT LOADING EVALUATION PATTERN, EVALUATION METHOD USING THE SAME, MASK FOR DEVELOPMENT LOADING EVALUATION, DEVELOPING METHOD, AND ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
現像ローディング評価パターン、それを用いた評価方法、現像ローディング評価用マスク、および現像方法、並びに電子ビーム露光装置 - 特許庁
To provide a solid cosmetic having a delicate and clear convex-concave pattern formed on the surface thereof and a manufacturing method of the same.例文帳に追加
固形化粧料表面に繊細かつ明瞭な凹凸模様が形成された化粧料及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE ORGANIC MATERIAL, METHOD FOR APPLYING THE SAME, METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM PATTERN USING THIS AND DISPLAY DEVICE WITH THIS ORGANIC FILM例文帳に追加
感光性有機物及びその塗布方法並びにこれを用いた有機膜パターンの形成方法及びこの有機膜を有する表示装置 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR MAKING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD AND DISPLAY PANEL例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、プリント配線板、ディスプレイ板の製造方法 - 特許庁
The pattern is formed by using an unmagnified projection aligner at the same time when forming an aluminum wiring or a protection film (passivation film).例文帳に追加
このパターンは、等倍投影露光装置を用いて、アルミ配線形成時あるいは保護膜（パッシベーション膜）形成時に同時に形成する。 - 特許庁
CLEANING DEVICE FOR MASK FOR EXPOSURE, CLEANING METHOD USING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE TRANSFERRED WITH PATTERN USING CLEANED MASK FOR EXPOSURE例文帳に追加
露光用マスクの洗浄装置、これを用いた洗浄方法、及び洗浄した露光用マスクを用いてパターン転写した半導体装置 - 特許庁
Image data for generating forgery prevention pattern are fetched (step S1) and the image data are divided into blocks in the same shape (step S2).例文帳に追加
偽造防止パターンを作成する画像データを取り込み（ステップＳ１）、その画像データを同一形状のブロックに分割する（ステップＳ２）。 - 特許庁
Since the same test pattern TPb is also formed on the other surface Sb of the sheet S, the density difference between these images is emphasized when observed.例文帳に追加
シートＳの反対面Ｓｂにも同様のテストパターンＴＰｂを形成するので、両画像部の濃度差が強調されて見える。 - 特許庁
The work 18 is moved to the second working position (=imaged position) and worked with a laser beam 12 imaged with the same pattern as the one of the mask 14.例文帳に追加
第二の加工位置（＝結像位置）にワーク１８を移動させ、マスク１４のパターン通りに結像したレーザ光１２にて加工する。 - 特許庁
Therefore, there is no need of increasing space of installation of lamp devices even if the number of functions of light distribution pattern is increased, the number of lamp devices remaining the same.例文帳に追加
このために、配光パターンの機能が増えても、ランプ装置の数はそのままであり、ランプ装置の設置スペースを増やす必要がない。 - 特許庁
MONOMER, HIGH POLYMER COMPOUND FOR RESIST, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC PARTS例文帳に追加
単量体、レジスト用高分子化合物、感光性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、および電子部品の製造方法 - 特許庁
To provide a semiconductor device and a manufacturing method of the same, which can reduce an aspect ratio in processing of a gate pattern.例文帳に追加
本実施形態は、ゲートパターン加工時のアスペクト比を低減することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing hollow concrete blocks each having a complicated pattern or a water proof layer on a side surface and having the same heights.例文帳に追加
側面に複雑なパターン又は防水層を有する上、同一の高さを有する中空コンクリートブロックの製造方法を提供する。 - 特許庁
The marker such as the pattern, notch, cavity or the like of a metal coating is provided on the biochip to always set the biochip to the analyzing equipment in the same direction.例文帳に追加
バイオチップへ金属コーティングのパターン、切り欠き、窪みなどのマーカーを設けることで、分析機器へ常に同じ方向でセットできる。 - 特許庁
CURABLE RESIN FOR FORMING PHOTOSENSITIVE PATTERN, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, CURABLE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER, SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL PANEL AND LIQUID CRYSTAL PANEL例文帳に追加
感光性パターン形成用硬化性樹脂、その製造方法、硬化性樹脂組成物、カラーフィルター、液晶パネル用基板、及び、液晶パネル - 特許庁
To provide a resist composition for semiconductors with excellent sensitivity and roughness properties, and a method for resist-film and pattern formation using the same.例文帳に追加
感度及びラフネス特性に優れた半導体用レジスト組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
METAL INK COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING METAL WIRING USING THE SAME AND ELECTROCONDUCTIVE PATTERN FORMED BY THE METAL INK COMPOSITION例文帳に追加
金属インキ組成物及びこれを用いる金属配線形成方法並びに該金属インキ組成物で形成される導電性パターン - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT BOARD FOR SEMICONDUCTOR PACKAGE例文帳に追加
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び半導体パッケージ用回路基板の製造方法 - 特許庁
To reduce the load of processing of a main control substrate and at the same time to enhance the degree of freedom of processing of a pattern control substrate.例文帳に追加
主制御基板の処理の負担を軽減化すると共に、図柄制御基板の処理の自由度を高めることを目的とする。 - 特許庁
Further, a line estimate value to be multiplied with an error is averaged by each frequency direction spread factor and interleaved by the same pattern as the data.例文帳に追加
また、誤差と乗算するための回線推定値は、周波数方向拡散率毎に平均化し、データと同じパターンでインタリーブを行う。 - 特許庁
The light distribution pattern to the same degree as a conventional headlight for low beam is accomplished by controlling the irradiation range of the first headlight.例文帳に追加
第一のヘッドライトの照射範囲を制御することによって、従来のロービーム用ヘッドライトと同等の配光パターンを実現する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, RELIEF PATTERN USING THE SAME, METHOD FOR MANUFACTURING HEAT-RESISTANT COATING FILM, AND ELECTRONIC PARTS HAVING THESE COMPONENTS例文帳に追加
感光性樹脂組成物並びにそれを用いたレリーフパターンおよび耐熱性塗膜の製造方法およびそれらを有する電子部品 - 特許庁
DISPLAY METHOD FOR GENERATION FREQUENCY DISTRIBUTION TABLE OF EVENT LOG, DISCRIMINATING METHOD FOR GENERATED PATTERN AND RECORDING MEDIUM ON WHICH THE SAME PROGRAMS ARE RECORDED例文帳に追加
イベントログの発生頻度分布表の表示方法および発生パターンの識別方法、ならびにそれらのプログラムを記録した記録媒体 - 特許庁
As a result, the optional shaped same pattern 4 excellent in wear resistance is formed on the inside surface and/or the outside surface of the pan 6.例文帳に追加
これにより、鍋６の内面及び又は外面に、耐摩耗性のある任意の形状の同一模様４を形成することができる。 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR EXPOSING CIRCUIT PATTERN, PHOTOMASK USED THEREIN, DESIGN METHOD OF THE SAME, ILLUMINATION SYSTEM AND ITS EMBODIMENT METHOD例文帳に追加
回路パターンの露光のための装置及び方法、使用されるフォトマスク及びその設計方法、そして照明系及びその具現方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE METAL NANOPARTICLE, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
感光性金属ナノ粒子およびこれを含む感光性組成物、ならびにその感光性組成物を用いた導電性パターン形成方法 - 特許庁
When a reception level is low or when the prescribed start pattern can not be detected, the same or other channel is designated again.例文帳に追加
受信レベルが低いとき、又は、所定スタートパターンを検出することができない場合には、更に同一又は他のチャンネルを指定する。 - 特許庁
METHOD FOR COMPENSATING VARIATION OF PATTERN SIZE CAUSED BY REDISPERSED ELECTRON BEAM ON PERFORMING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY AND RECORDING MEDIUM RECORDING THE SAME例文帳に追加
電子ビームリソグラフィ時に再散乱した電子ビームによるパターンサイズの変化を補償する方法およびその方法を記録した記録媒体 - 特許庁
An inkjet ink containing the same and a transparent conductive film having a conductive metal pattern formed by using the ink are also provided.例文帳に追加
それを含有するインクジェットインク、及びそのインクを用いて形成された導電性金属パターンを有する透明導電性フィルム。 - 特許庁
In this case, the pattern etching of the same conductor layer 22 is effected for the dam layer 22A whereby the dam 21 is formed simultaneously with the electrode pad 4.例文帳に追加
このとき、同じ導体層２２をダム層２２Ａ用にパターンエッチングすることで、電極パッド４と同時にダム２１が形成される。 - 特許庁
DANDY ROLL FOR WATERMARKING AND ITS FORMING, PAPER HAVING WATERMARK PATTERN FORMED BY USING THE SAME DANDY ROLL AND FORMATION OF SHEET OF PAPER例文帳に追加
透かし用ダンディロール及びその成形方法並びに前記ダンディロールを用いて透かし模様を形成した用紙及びその抄造方法 - 特許庁
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