「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

The same big hit determining module and the same ready-for-winning module are used in both cases where the prize is won in starting, and where the pattern change is started in the variable display device.例文帳に追加

そして、始動入賞が生じたときと可変表示装置において図柄の変動を開始できるときとで、同一の大当り判定モジュールやリーチ判定モジュールを使用する。 - 特許庁

The protective film pattern 3 is disposed on the same layer as the transparent electrode film 1 and is preferably formed of the same material as the transparent electrode film 1 upon the formation of the transparent electrode film 1.例文帳に追加

保護膜パターン３は、透明電極膜１と同層上に設けられ、透明電極膜１の形成時に透明電極膜１と同じ材料で形成することが好ましい。 - 特許庁

A reflecting pixel electrode 11 (third metal film) and a second transparent conductive film 12 as a layer above it are patterned with the same mask pattern and subjected to a batch wet etching process using the same etchant.例文帳に追加

反射画素電極１１（第３の金属膜）とその上層の第２の透明導電性膜１２を同じマスクパターンでパターニングし、同じエッチング液を用いて一括ウェットエッチング処理した。 - 特許庁

To provide a film with hologram pattern and a vessel with hologram pattern capable of visualizing a hologram pattern without selecting states and conditions of keeping, transportation and displaying of an object with a convenient constitution, at the same time, setting parts to be desirably left and parts to be desirably erased in the hologram pattern with arbitrary shapes and patterns and forming a higher decorative hologram pattern.例文帳に追加

簡便な構成により、対象物の保管、運送、及び陳列の状態及び条件を選ばずに、ホログラムパターンを視認することのできるともに、ホログラムパターンを残したい部分と消したい部分とを、任意の形状、パターンで設定することができ、より装飾性の高いホログラムパターンを形成することができるホログラムパターン付きフィルム及びホログラムパターン付き容器を提供する。 - 特許庁

The semiconductor element consists of a semiconductor substrate 60 including a conductive region and insulating region, a conductive pattern formed on the conductive region of the semiconductor substrate 60, an auxiliary pattern composed of a conductive layer positioned adjacent to the conductive pattern, and an inter-layer dielectric film 66 which is formed on the semiconductor substrate 60 and has a contact hole 68 exposing the conductive pattern and auxiliary pattern at the same time.例文帳に追加

導電領域と絶縁領域とを含む半導体基板６０と、半導体基板６０の導電領域に形成される導電パターンと、導電パターンと隣接して配置される導電層よりなる補助パターンと、半導体基板６０上に形成され、前記導電パターンと補助パターンとを同時に露出させるコンタクトホール６８を有する層間絶縁膜６６とを含む。 - 特許庁

The photomask 1 for transferring a mask pattern on a substrate, by having a mask pattern forming region 4 irradiated with ultraviolet rays 10, is provided with an evaluation pattern 12 having recesses 15-17 forming the same kind of growth substance as the contamination growing by the ultraviolet rays in the mask pattern formation region 4, on at least any one face from among a mask pattern formation surface 8 and its backside 9.例文帳に追加

マスクパターン形成領域４に紫外線１０を照射して、当該マスクパターンを基板に転写するフォトマスク１において、マスクパターン形成面８及びその裏面９のうち、少なくともいずれか１つの面に、マスクパターン形成領域４で紫外線により成長する異物と同種の成長性物質が形成された窪み１５〜１７を有する評価パターン１２を設ける。 - 特許庁

An output control circuit 21 converts a matching error data pattern to the corresponding normal data pattern by comparing sent-out data inputted to a buffer 18 with error pattern data in the pattern memory 17 by a pattern check circuit 19 and sends them from a data output signal line 25, and also sends a control signal indicating that from a control signal line 26 at the same time.例文帳に追加

出力制御回路２１は、パターンチェック回路１９によるバッファ１８に入力された送出データとパターンメモリ１７内のエラーデータパターンとの比較により、一致したエラーデータパターンを、対応した正常データパターンに変換してデータ出力信号線２５から送出すると共にその旨を表す制御信号も同時に制御信号線２６から送出する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes steps of forming a photoresist pattern from a resist film with exposure and development, swelling a resist insoluble layer formed on the front surface of the photoresist pattern with the vapor of resist solvent sprayed from a nozzle 12 within the thermal flow apparatus 10, and shrinking the photoresist pattern attained by swelling the resist insoluble layer by heating the same pattern with a hot plate 11 for thermal flow.例文帳に追加

レジストパターン形成方法は、露光及び現像により、レジスト膜からフォトレジストパターンを形成する工程と、サーマルフロー装置１０内で、フォトレジストパターンの表面に形成されたレジスト難溶化層を、ノズル１２から噴霧するレジスト溶剤の蒸気で膨潤させる工程と、レジスト難溶化層を膨潤させたフォトレジストパターンを、ホットプレート１１で加熱し、サーマルフローさせてシュリンクする工程とを有する。 - 特許庁

A mask pattern 1 including a measurement pattern 2 having the same line width in regions a, b, c which are interposed by peripheral patterns 3, 5, 7 having different aperture ratios of 0%, 50% and 100%, respectively, is formed on a mask.例文帳に追加

マスクに、測定パターン２の同一線幅の領域ａ，ｂ，ｃがそれぞれ、異なる開口率０％，５０％，１００％の周辺パターン３，５，７に挟まれたマスクパターン１を形成する。 - 特許庁

To provide a radiation-curing composition giving a cured object excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film and a method for forming a pattern.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A through hole is formed on the laminated ceramic green sheet, a conductor is filled, and at the same time, the conductor pattern is formed on the surface of the laminated ceramic green sheet, thus composing the conductor pattern being connected between layers.例文帳に追加

積層したセラミックグリーンシートにスルーホールを形成し、導体を充填するとともに、積層したセラミックグリーンシートの表面に導体パターンを形成して、層間で接続された導体パターンを構成する。 - 特許庁

The arrangement pattern designed under the same or similar design conditions is confirmed to requested design conditions by indicating the selected reference arrangement pattern to a person in charge of the design.例文帳に追加

選出した基準配置パターンを設計担当者に示すことで、要求される設計条件に対して同じまたは類似の設計条件で設計された配置パターンを確認させることができる。 - 特許庁

To provide a TAB tape and a method of manufacturing the same which improve a degree of freedom in designing a conductor pattern and solder resist pattern, shorten manufacturing processes, and reduce manufacturing cost.例文帳に追加

導体パターンやソルダレジストパターンの設計上の自由度の向上、製造工程の短縮化、ならびに製造コストの低廉化を実現可能としたＴＡＢテープおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

At the same time, the server reads a mask pattern out of the mask data, calculates the inner product of the mask pattern and the data including the embedded additional information and sends this inner product to the anti-tamper device.例文帳に追加

この時、サーバは、マスクデータからマスクパターンを読み込み、このマスクパターンと付加情報の埋め込まれたデータとの内積を計算し、該内積の計算結果を耐タンパ性デバイスへ送信するようにする。 - 特許庁

When winning the replacement lottery, this machine reads the graphic data corresponding to another variable pattern having an execution time same to that of the variable pattern determined by the variable lottery and a mode different therefrom.例文帳に追加

また、差し替え抽選に当選した場合には、変動抽選で決定された変動パターンと実行時間が同一で態様の異なる他方の変動パターンに対応するグラフィックデータが読み出される。 - 特許庁

In the step 3, in case that the hot water supply switch 42 is pressed in condition that the pattern No.n is set to 1, this changes the pattern No.n to 6 (S6), and returns to the step 2, and afterward this repeats the same.例文帳に追加

ステップ３において、パターン番号ｎが１に設定されている状態で給湯スイッチ４２が押される場合には、パターン番号ｎを６に変えて（Ｓ６）、ステップ２に戻り、以降同様に繰り返す。 - 特許庁

Then, a light scattering pattern is not provided at a place in the neighborhood of the light source 2 in this surface 12, but a light scattering pattern 18b is provided at a place separated from the light source of the same surface 12.例文帳に追加

そして、この下側面１２のうち光源２の近傍となる箇所には光散乱パターンを設けず、同じ下側面１２の光源から離れた箇所には光散乱パターン１８ｂを設けている。 - 特許庁

To provide a semiconductor light emitting device that has small variance in a light distribution pattern, and to provide a method of manufacturing the same by which the variance in the light distribution pattern is reduced, and cost reduction and shortening of a manufacturing time are achieved.例文帳に追加

配光パターンのばらつきが少ない半導体発光装置及び配光パターンのばらつき低減、コスト低減及び製造時間の短縮を図ることができる製造方法を提供すること。 - 特許庁

The first stop pattern determining means determines the stop state of the first pattern same each other, when the first special prize state is determined and when the second special prize state is determined.例文帳に追加

そして、第１停止図柄決定手段は、第１特賞状態が決定された場合と第２特賞状態が決定された場合とで、互いに同一の第１図柄の停止態様を決定する。 - 特許庁

The erasure process is selected from a recovery impossible pattern that completely erases the restricting information for disclosure and a recovery possible pattern that erases the restricting information for disclosure after evading the same to an evaded information storing part.例文帳に追加

消去処理は、開示制限情報を完全に消去する復元不可パターンと、開示制限情報を退避情報記憶部に退避後に消去する復元可能パターンとの選択が可能とする。 - 特許庁

On a mask M, an identification code 13 is formed which includes a 1st unique code 15 corresponding to a pattern 11 and a 2nd code 16 for discriminating a plurality of masks M where the same pattern 11 is formed is formed.例文帳に追加

マスクＭ上に、パターン１１に対応した固有の第１コード１５と、同一のパターン１１が形成された複数のマスクＭを識別するための第２コード１６とを含む識別コード１３を形成する。 - 特許庁

The figure variation pattern performance enables the players to pay their attentions to find out the result of the special pattern lottery and also can make them exactly recognize the result of the dropping lottery in the same flow of the game.例文帳に追加

遊技者は、図柄変動パターン演出によって特別図柄抽選の結果を知るために注目しているため、その流れで転落抽選の結果も確実に認識することができる。 - 特許庁

When HDLC pattern data are detected twice by a specified pattern comparing part 26 at the same time interval as the transmission cycle of frames, the bit of the next bit clock timing is decided as being the frame bit of each frame.例文帳に追加

特定パターン比較部２６にて、ＨＤＬＣパターンデータを、フレームの送信周期と同じ時間間隔で２回検出されると、次のビットクロックタイミングのビットを、各フレームのフレームビットと判断する。 - 特許庁

The insulation film 1 is etched with the pattern 3a as a mask, a trench 1a for embedding wiring is formed at the surface side of the insulating film 1, and at the same time the pattern 3a is eliminated from the area on the insulating film 1.例文帳に追加

パターン３ａをマスクにして絶縁膜１をエッチングし、絶縁膜１の表面側に埋め込み配線用のトレンチ１ａを形成すると共に、絶縁膜１上からパターン３ａを除去する。 - 特許庁

A projected light pattern generating circuit 2 generates a projected light pattern, in which the size of dot, length and thickness of line, position and density are irregular, by using a uniform random number or a regular random number and supplies the same to a projector 3.例文帳に追加

投光パターン生成回路２は、一様乱数や正規乱数を用い、ドットのサイズ、線の長さや太さ、位置、濃度等が不規則な投光パターンを生成して投光器３に供給する。 - 特許庁

To provide a transfer sheet and a pattern forming method using the same, which enable a lacquering-tinged pattern, where a metallic foil powder such as a gold foil powder or a silver foil powder is arranged, to be formed on a base material by transfer.例文帳に追加

金箔粉または銀箔粉などの金属箔粉を配置した蒔絵調の模様を転写によって基材上に形成することができる転写シート及びそれを用いた模様形成方法を得る。 - 特許庁

In (c) showing a pattern for measuring an amount of displacement, the sub-scanning length of a reference color pattern is extended and, therefore, an output from a detection sensor is the same as that in the case where sub-scanning displacement does not occur.例文帳に追加

本発明の位置ずれ量測定パターンである（ｃ）では、基準色パターンの副走査長さを延長したため、検出センサからの出力は、副走査位置ずれがない場合と同様となる。 - 特許庁

To provide a method and device for forming an interference fringe pattern where a fine interference fringe pattern almost the same as the wavelength can be easily formed on a large area at high precision.例文帳に追加

大きな面積に波長と同程度の微細な干渉縞パターンを精度良く容易に形成することが可能な干渉縞パターン形成方法、及び干渉縞パターン形成装置を提供する。 - 特許庁

The one parameter file 31 stored in the same holder as the folder of the pattern files 30 is applied to the plural pattern files 30 stored in the folder, by which the optical proximity effect correction is executed.例文帳に追加

このフォルダに格納された複数のパターンファイル３０に対して、このパターンファイル３０と同じフォルダに格納された１つのパラメータファイル３１を適用することにより、光近接効果補正を行う。 - 特許庁

To provide a paste composition by which a fine wiring pattern can be formed without occurrence of bleeding on a pattern formed by a screen print making even when repetitious print using a same screen printing plate is carried out.例文帳に追加

同じスクリーン製版で繰り返し印刷しても、スクリーン印刷された印刷パターンに滲みが発生せず、精細な配線パターンを形成することが可能なペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

An irradiation positions of the plurality of primary electron beams on the sample are set in accordance with a repetition pattern interval of the sample for the inspection, and repetition pattern images of the comparison object are obtained at the same time.例文帳に追加

前記複数一次電子ビームの試料上の照射位置を前記被検査試料の繰り返しパターン間隔に合わせて設定して、比較対象の繰り返しパターン画像を同時に取得する。 - 特許庁

When an insolubilization treatment (S31) is carried out, a re-exposure treatment is carried out by irradiating a resist pattern with light having the same wavelength with exposure light used for an exposure treatment in a resist pattern forming process (S11).例文帳に追加

不溶化処理（Ｓ３１）の実施においては、レジストパターン形成工程（Ｓ１１）での露光処理において照射した露光光と同じ波長の光を、レジストパターンに照射する再露光処理を実施する。 - 特許庁

By supplying first pattern data to an image forming means, a first pattern is formed on a recording medium by using dark color material and light color material having the same hue, and its density is detected.例文帳に追加

第１パターンデータを像形成手段に供給することにより、同一色相の濃の色材と淡の色材とを使用して記録媒体上に第１パターンを形成し、そのパターンの濃度を検出する。 - 特許庁

As for a plurality of gradation levels in the density area where it is difficult to measure the density of the patch pattern by the sensor, the patch pattern is formed by mixing two kinds of toners having the same color but different in density.例文帳に追加

ここで、パッチパターンの濃度のセンサによる測定が困難な濃度域における複数の階調レベルについては、同一色で濃度の異なる２種類のトナーを混色してパッチパターンを生成する。 - 特許庁

To enhance the color change function of the decorating pattern 13 caused by the direct light D1 from the lighting apparatus 12, the decorating pattern 13 is arranged at the height level substantially the same as that of the lighting apparatus 12.例文帳に追加

また、照明器具１２からの直接光Ｄ１によって生じる装飾模様１３の変色機能を増大させるために、装飾模様１３を照明器具１２とほぼ同じ高さレベルに設ける。 - 特許庁

Patterns of respective test patterns and a pad part are disposed, so that a same probe card is used for measuring the N-channel TFT test pattern 130 and the P-channel TFT test pattern 140.例文帳に追加

ＮチャネルＴＦＴテストパターン１３０とＰチャネルＴＦＴテストパターン１４０の測定には同一のプローブカードが用いられるように、それぞれのテストパターンのパターン及びパッド部が配置されている。 - 特許庁

To provide a new pattern forming method, by which a three-dimensional pattern with an arbitrary size can be formed on a recording material having a recording layer including a diazonium salt compound, and a recording material employing the same.例文帳に追加

ジアゾニウム塩化合物を含有する記録層を有する記録材料に、三次元のパターンを任意の大きさで形成しうる新規なパターン形成方法、及びそれに用いる記録材料を提供する。 - 特許庁

The speed pattern forms a triangular waveform speed pattern (b) having the same inclination as that during acceleration and deceleration of the trapezoidal waveform speed curve (a) in a case of a movement distance at which a speed does not attain a steady speed V0.例文帳に追加

この速度パターンは、定常速度Ｖ_0 に達しない移動距離Ｓの場合は、前記台形波形の速度曲線ａの加減速時の傾きと同じ傾きの三角波形の速度パターンｂとする。 - 特許庁

The pattern 1 is made of a foamable polystyrene and formed as the same outer shape as a product, and in the inner part of the pattern 1, gas venting holes 12 penetrated in the hollow part 10 are arranged at the upper and the lower part.例文帳に追加

模型１は、材質が発泡ポリスチレンで、製品と同一形状の外形に形成してあり、模型１の内部には、中空部１０に貫通する通気孔１２が上下に設けられている。 - 特許庁

The set of socks is produced by applying the same identification pattern to right and left socks in a pair of socks falling in the set of socks, and making the identification pattern different from that for other pairs of socks.例文帳に追加

靴下セットに含まれる一足の靴下における右足用と左足用のペアには同一の識別模様を施すとともに、その識別模様を他のペアのものとは互いに異ならせる。 - 特許庁

The flexible connector 7 includes a metallic pattern 33 formed on one surface 41 of an insulating film 21 in opposition to the second terminal part 31 and having the same thickness as that of a first metallic wiring pattern 23.例文帳に追加

フレキシブルコネクタ７は、絶縁性フィルム２１の一方の面４１に第２の端子部３１と対向して形成され、第１の金属配線パターン２３と厚みが同じである金属パターン３３を含む。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern groove, the method facilitating groove formation even for a narrow pattern groove having a groove width of ≤80 μm, and also to provide a method for manufacturing a glass waveguide type optical circuit using the same.例文帳に追加

溝幅が80μｍ以下の狭いパターン溝であっても容易に溝形成が可能なパターン溝の形成方法及びそれを用いたガラス導波路型光回路の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To conquer the limit of time shortening in servo pattern recording by a head recording system and to conquer the limit of recording density in servo pattern recording by transfer recording technology or pre-embossed technology at the same time.例文帳に追加

ヘッド記録方式によるサーボパターン記録での時間短縮の限界を克服すると同時に、転写記録技術やプリエンボスト技術によるサーボパターン記録での記録密度の限界を克服する。 - 特許庁

The Shaping air discharge ports 1 and the pattern controlled air discharge ports 3 incline around the rotational axis line L, and consequently shaping air 5 and pattern controlled air 6 become spiral air flows of the same spiral direction.例文帳に追加

シェーピングエア吐出口1及びパターン制御エア吐出口3は回転軸線L回りに傾斜しており、これによりシェーピングエア5及びパターン制御エア6は、同じ旋回方向の螺旋状気流となる。 - 特許庁

Record permitting pixels of a mask pattern C1 for the first nozzle group and a mask pattern M1 for the second nozzle group which are used for the same scan (e.g. a first scan) among a plurality of times of scanning are differently arranged.例文帳に追加

複数回の走査のうちの同じ走査（例えば、第１走査）で使用される、第１ノズル群用のマスクパターンＣ１と第２ノズル群用のマスクパターンＭ１との記録許容画素の配置を異ならせる。 - 特許庁