「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

At this time point, the left and right patterns present the ready-to-win display pattern with the line up of the same displayed patterns, and further, a character 52 of UFO is displayed on a special pattern display device 4.例文帳に追加

ここで、左図柄と右図柄とが同一の表示図柄で揃ったリーチ表示態様となっており、特別図柄表示装置４上にさらにＵＦＯのキャラクタ５２を表示させる。 - 特許庁

To provide resistive paste for an electrical circuit, capable of keeping the friction resistance of a resistance pattern small ranging from low temperatures to high temperatures, and capable of easily forming the resistance pattern at the same time.例文帳に追加

低温から高温にわたって抵抗パターンの摩擦抵抗を小さく維持でき、同時に抵抗パターンの形成が容易に行える電気回路用抵抗ペーストを提供する。 - 特許庁

Therefore, it is possible to apply limit resolution of a k_1 factor which is the same as that of an L/S pattern, even to a hole array pattern, thus enabling a hole array of high density to be manufactured.例文帳に追加

このため、ホールアレイパターンに対しても、Ｌ／Ｓパターンと同じk_1ファクタの限界解像が適用可能となり、これにより、より密集度の高いホールアレイの作製が可能となる。 - 特許庁

To provide an inspection method for inspecting only a product section regarding a pattern inspection method for detecting defects in a sheet-like printed matter where the same pattern is continuously printed on a continuous sheet.例文帳に追加

連続するシート上に同一の絵柄が連続して印刷されるシート状印刷物の欠陥を検出する絵柄検査方法に関し、製品部分のみを検査する検査方法の提案。 - 特許庁

To provide a film forming composition capable of giving a pattern with an enhanced contrast by the irregularity of a film after development, and to provide a pattern forming method and a three-dimensional mold that use the same.例文帳に追加

現像後の膜の凹凸によるコントラストが増強されたパターンを得ることのできる膜形成組成物、これを用いたパターン形成方法及び三次元モールドを提供する。 - 特許庁

Then with the cell group, where the position of transmission cell 10 is specified as a basic pattern, the same pattern is repeated for a fixed body plane 2, as shown in (D) to be adjoined each other with no gap.例文帳に追加

次に、前記のように伝送セル１０の位置を定めたセル群を基本パターンとし、（Ｄに示すように、固定体平面２に対し、同パターンを繰り返し、隙間無く隣接させる。 - 特許庁

The same blink control pattern data is stored in two or more light emitting units connected in series, and each light emitting unit reads out the blink control pattern data to perform luminous blink operation.例文帳に追加

複数台直列に接続した発光ユニットに同じ点滅制御パターンデータを記憶し、それぞれの発光ユニットで点滅制御パターンデータを読み出して発光点滅動作を実行する。 - 特許庁

There is almost no gap between the finish end of the large droplet gathering pattern POD and the start end of the small droplet gathering pattern PKD when the discharge speeds of the large droplets and the small droplets are substantially the same ((B) in the figure).例文帳に追加

大玉と小玉の吐出速度がほぼ同程度のときは、大玉集合パターンＰＯＤの後端と小玉集合パターンＰＫＤの始端との間に殆ど隙間が無い（図中（Ｂ））。 - 特許庁

The second optical system 40 includes an optical unit 42 to form a cut-off line for the low-beam pattern, and optical units 44, 46, 48 to form a horizontal pattern for the same.例文帳に追加

第２の光学系４０を構成する光学ユニット４２にはすれ違いビームパターンのカットオフラインを形成し、光学ユニット４４，４６，４８はすれ違いビームパターンの水平パターンを形成する。 - 特許庁

In addition, the cover 15 formed to be of almost the same size as the pattern display device 4 and has window holes 17 for exposing the pattern display parts 10 and wrapping parts 18 for concealing the front faces of the passageways 12, formed respectively.例文帳に追加

カバー１５を図柄表示装置４と略同大に形成し、これに図柄表示部１０を露出させる窓孔１７と、通路１２の前面を覆う被覆部１８とを設ける。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING COPPER METAL HAVING BLACKENED SURFACE, METHOD OF MANUFACTURING BASE MATERIAL WITH CONDUCTIVE LAYER PATTERN, BASE MATERIAL WITH CONDUCTIVE LAYER PATTERN AND LIGHT TRANSMISSIVE ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING MEMBER USING THE SAME例文帳に追加

表面が黒化処理された銅金属の製造法、導体層パターン付き基材の製造法、導体層パターン付き基材及びそれを用いた透光性電磁波遮蔽部材 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition capable of striking a balance between excellent pattern configuration and excellent roughness properties; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

優れたパターン形状と優れたラフネス特性とを両立させ得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and system for electron beam lithography, by which a photomask can be fabricated with the same accuracy as that of the conventional methods by preventing an increase the writing time of a pattern with an OPC pattern.例文帳に追加

ＯＰＣ付パタンでの描画時間の増加を防ぎ、従来の方法と同等な精度でフォトマスクを作製可能な電子ビーム描画方法および描画装置を実現する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN-FORMING MATERIAL COMPRISING THE SAME, METHOD OF FORMING PATTERN, ARTICLE USING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND BASE-GENERATING AGENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物からなるパターン形成用材料、パターン形成方法、及び当該感光性樹脂組成物を用いた物品、並びに塩基発生剤 - 特許庁

An exposure pattern 1 consisting of a single set of twin patterns 2L, 2R having the same shape mutually is arranged on an exposure mask at a fixed repeated pitch in the repeating direction into the checkers-pattern form.例文帳に追加

互いに同一形状のツインパターン２Ｌ、２Ｒを１セットとした露光パターン１を、露光マスク上に、繰り返し方向に一定の繰り返しピッチで市松格子状に配置する。 - 特許庁

A case command first expands word, and tries to match it against each pattern in turn, using the same matching rules as for pathname expansion (see Pathname Expansion below). 例文帳に追加

case コマンドは最初に word を展開し、それぞれのpattern に対して順にマッチングを試みます。 マッチングの際にはパス名展開 (後述のパス名展開を参照) と同じ規則が用いられます。 - JM

Terminals 21a, 21b of a signal wiring pattern 12 are provided on the outside of an external periphery 32 of a grounding wiring pattern 13, and the state of the rear surface position of the terminal 21a is made to be the same as that of the terminal 21b.例文帳に追加

信号配線パターン１２の端子部２１ａ、２１ｂを、接地配線パターン１３の外周部３２の外側に置き、端子部２１ａ、２１ｂ裏面位置の状態を同じにする。 - 特許庁

In an information recording and reproducing apparatus 10, the pattern image of information light and a pattern image of reference light are formed by a micro mirror device 27 and information light and reference light having the same axis are generated.例文帳に追加

情報記録再生装置１０は、情報光のパターン像と参照光のパターン像がマイクロミラーデバイス２７により形成され、同軸の情報光と参照光とが生成される。 - 特許庁

The second coil pattern portion 42 is spiral in the same direction as that of the first coil pattern portion 41 between the (2-1)th coil end portion 42A and the (2-2)th coil end portion 42B.例文帳に追加

第２コイルパターン部４２は、第２−１コイル端部４２Ａと第２−２コイル端部４２Ｂとの間で、第１コイルパターン部４１と同方向に巻かれた渦巻状をなしている。 - 特許庁

The rotary shafts 39 and 40 of the shift arms are pivotally mounted in the same axis on the bearing part 70 of the transmission case 12 to constitute a shift operation device that the operation pattern of a shift lever is an I-type pattern.例文帳に追加

シフトアームの回動軸３９，４０は、同一軸心にてミッションケース１２の軸受部７０に枢着され、シフトレバーの操作パターンがＩ形パターンの変速操作装置を構成する。 - 特許庁

The inside memory has a pointer 310 and a pattern table 320, and the same data can be repeatedly used on the basis of the pointer 310 on the overlapping pattern.例文帳に追加

内部メモリとして、ポインタ部３１０とパターンテーブル部３２０を有し、重複するパターンについてはポインタ部３１０の制御に基づいて繰り返し同じデータを用いることができるようにする。 - 特許庁

To provide a phenol novolak resin capable of forming an overcrowded pattern and an isolated pattern both excellently in shapes when a fine resist pattern of ≤0.35 μm is formed, excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property, and having no change in resin composition in each molecular weight region, a method of synthesizing the same and a positive-type photoresist composition using the same.例文帳に追加

０．３５μｍ以下の微細なレジストパターンを形成する場合に、密集パターン、孤立パターン共に形状良く形成でき、感度、解像性、焦点深度幅特性に優れ、各分子量域において樹脂組成の違いのないフェノールノボラック樹脂、その合成方法およびそれを用いたポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Here, the same shape part of the respective guide grooves corresponding to the different shift pattern is set in the main guide groove 24 of the common housing 12, and a part being not the same shape of the respective guide grooves corresponding to the different shift pattern is set in the sub-guide 36 of a different sub-guide, to thereby cope with the different shift pattern.例文帳に追加

ここで、異なるシフトパターンに対応する各ガイド溝の同一形状部分を共通のハウジング１２のメインガイド溝２４に設定して、異なるシフトパターンに対応する各ガイド溝の同一形状でない部分を異なるサブガイドのサブガイド溝３６に設定することで、異なるシフトパターンに対応できる。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition which improves the adhesion of a pattern formed using a colored photosensitive resin composition to a substrate, does not cause peeling of a minute pattern after development and prevents occurrence of a bite shape between a pattern and a substrate and to provide a color filter using the same and a method for producing the same.例文帳に追加

着色感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターンと基板との密着性を改良し、現像後に微小パターンの剥離を起こさず、パターンと基板との間の食い込み形状の発生を防止した着色感光性樹脂組成物並びにこれを用いたカラーフィルター及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a set of socks including a plurality pairs of socks where all the socks in the set have the same color or solid color, or have the same color and the same pattern so as to enable each pair of socks to be sorted out from other pairs of socks.例文帳に追加

セットに含まれる靴下が全て同色かつ無地又は同色かつ同一模様である複数足の靴下から成る靴下セットにおいて、各靴下のペアを他のペアから区別できるようにする。 - 特許庁

In the evaluation pattern 10, as the thicknesses of a first line and a second line are the same and the sizes of blanks between the lines are the same, it appears that two regions with the same densities are juxtaposed.例文帳に追加

評価パターン１０では、第１ラインと第２ラインの太さが同じであり、ラインの間に設けられた空白の大きさも同じであるため、視覚的には同濃度の領域が２つ並んでいるように見える。 - 特許庁

Then, when a variation pattern selected from a different group of variation content is instructed in the same game state after completion of a jackpot game, a pattern variation game having a different content can be executed during the same game state.例文帳に追加

そして、大当り遊技終了後の同一遊技状態において異なる変動内容群から選択された変動パターンが指示された際には、同一の遊技状態中において異なる内容の図柄変動ゲームを実行し得ることになる。 - 特許庁

When the pattern of a photomask 4 is transferred on a semiconductor wafer using a scanner, transfer regions 7A and 7b, provided on different regions on the photomask 4 and constituted of the same pattern, are superposed on the same region on the wafer to contrive to expose the regions 7A and 7B.例文帳に追加

フォトマスク４のパターンをスキャナを用いて半導体ウエハ上に転写する際に、フォトマスク４の異なる領域に設けられた同一のパターン構成の転写領域７Ａ，７Ｂを、半導体ウエハの同一領域に重ねて露光するようにした。 - 特許庁

Also, line impedance with the same pattern width matches by making the tester board substrate 101 a film substrate with the same material and thickness as the film substrate 70 and a phase difference is eliminated by mutually equalizing line lengths of the line pattern on the substrate 70.例文帳に追加

またテスタボード基板１０１をフィルム基板７０と同じ材質で同じ厚みのフィルム基板にすることで、同一のパターン幅で線路のインピーダンスを合わせ、さらにフィルム基板７０上線路パターンの線路長を互いに等しくして位相差を無くす。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of clothes which reads a pattern by using a scanner and makes it as digital data, applies dyeing to a cloth fabric by inputting the data into a digital printing machine, efficiently applies the dyeing of the same pattern and the same color in terms of industry, cuts the cloth fabric, saws it, and forms clothes.例文帳に追加

模様をスキャナーで読み込んでデジタルデータ化し、デジタル捺染機に入力して布生地に染色を施し、同一模様、同一色彩の染色を工業的に効率よく施し、布生地を裁断、縫製して衣服とする製造方法。 - 特許庁

Generation and propagation of the DMA phenomenon is prevented by providing a wall layer W having the same shape as the peripheral shape of a display pattern in a liquid crystal between glass substrates to a display pattern P constituted by a superposed pattern of a segment electrode and a common electrode.例文帳に追加

セグメント電極及びコモン電極の重複パターンにより構成される表示パターンPに対してガラス基板間の液晶中に表示パターンの周囲形状と同一形状の壁層Wを設け、DMA現象の発生及び伝播を阻止する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polymer composition capable of forming a relief pattern excellent in pattern shape by development with an aqueous alkali solution without adding a dissolution inhibitor and to provide a method for producing a relief pattern and electronic parts using the same.例文帳に追加

溶解阻害剤を添加することなく、アルカリ水溶液現像によってパタ−ン形状に優れたレリーフパターンを形成することを可能にする感光性重合体組成物並びにレリーフパターンの製造法及びそれを用いた電子部品。 - 特許庁

The numerous convex lens-like protuberances 18 form an optional continuous pattern and the printing layer 14 has a continuous pattern which is almost the same as the continuous pattern of the convex lens-like protuberances 18 and displaced from the latter.例文帳に追加

凸レンズ状の多数の突起１８は、任意の連続パターンを形成しており、印刷層１４は、この凸レンズ状の突起１８の連続パターンとほぼ同じ連続パターンを有し且つこの凸レンズ状の突起１８の連続パターンに対して変位している。 - 特許庁

To enable identification of to which of a plurality of paper sheets having the same dot pattern paper data are entered in an electronic pen system for digitizing a character or pattern handwritten on a paper sheet by reading a dot pattern printed on the paper with an electronic pen.例文帳に追加

紙上に印刷されたドットパターンを電子ペンで読み取ることによって紙上に手書きした文字や図形をデジタル化する電子ペンシステムにおいて、同一ドットパターンを持つ複数枚の紙のうち、どの紙に対してデータが記入されたか識別する。 - 特許庁

Then, the array substrate is manufactured by performing the patterning of a transparent conductive film 13 having the same pattern as that of the pixel electrode 8 with the resist pattern 13 as a mask, ion-irradiating the transparent conductive film 10 and forming the transparent conductive pattern 13.例文帳に追加

そして、前記レジストパターン１１をマスクとして、前記透明導電膜１０にイオン照射することによりパターニングを行い、前記画素電極８と同じパターンの透明導電パターン１３を形成することによりアレイ基板が製造できる。 - 特許庁

The alignment coordinate is used to perform alignment of a detection image and the design information for correction of a shift amount and comparison is made with the pattern of a coordinate expected to have the same pattern, thereby performing pattern comparison by image detection for one die.例文帳に追加

位置合わせ座標で検出画像と設計情報の位置合わせを行いずれ量を補正し、同一なパターンが期待できる座標のパターンと比較することにより、１ダイのみの画像検出であってもパターン比較を行うことができる。 - 特許庁

This exposure device prints a pattern which is same as a pattern of a photomask or an inverted pattern by irradiating an unexposed photomask member 3 with a beam 10 from a light source 11 for exposure via the photomask 1 and, therein, the light source for exposure is constituted of a flat luminescence device.例文帳に追加

フォトマスク1 を介して未露光フォトマスク部材3 に露光用光源11からの光10を照射してフォトマスクのパターンと同じかまたは反転したパターンを焼付ける露光装置において、露光用光源を平面発光装置で構成した。 - 特許庁

For the specified pattern, the control part 210 performs optimization based on the density of the pattern between the images constituting the pair of images of the same exposure, and performs optimization based on the image state of the pattern between the images with different exposures.例文帳に追加

制御部２１０は、特定されたパターンについて、同一露出の画像ペアを構成する画像間で、パターンの密度に基づく最適化をおこなうとともに、露出の異なる画像間で、パターンの画像状態に基づく最適化をおこなう。 - 特許庁

To provide a reflection type photomask blank by which contrast between a pattern opened part and a pattern non-opened part of a reflection type photomask can be increased, and a pattern can be inspected easily, and to provide the reflection type photomask, and an inspection method and an inspection device of the same.例文帳に追加

反射型フォトマスクのパターン開口部と非開口部とのコントラストを大きく取ることができ、パターンの検査を容易に行うことのできる反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、その検査方法及び検査装置を提供する。 - 特許庁

The matching of the start position/stop position with the start position/stop position of the reference pattern is judged by a comparing/judging part 10, and it is judged that the same pattern as the reference image pattern is present in the two-dimensional image according to the matching rate, and the result is announced.例文帳に追加

このスタート位置・ストップ位置と基準パターンのスタート位置・ストップ位置との一致を比較・判定部１０で判定し、その一致率により二次元画像内に基準画像と同じパターンのものがあることを判定し、その旨を報知する。 - 特許庁

This game machine is provided with a pattern display board 107 which is a display board for which a special variable display part 4 capable of updating and displaying a special pattern, and a normal variable display part 3 capable of updating and displaying a normal pattern are arranged on the same electrical board.例文帳に追加

特別図柄を更新表示可能な特別可変表示部４、および、普通図柄を更新表示可能な普通可変表示部３が同一の電装基板上に配置された表示基板である図柄表示基板１０７を設けた。 - 特許庁

To acquire a stabilized analog output signal by providing a pair of transparent patterns acquired by halving a transparent pattern wherein transparent areas and nontransparent areas continue alternately, on both sides of the same transparent pattern as the original pattern.例文帳に追加

本発明は、透光領域と非透光領域が交互に連続する透光パターンの両側に、この透光パターンを半分とした一対の透光パターンを設けることにより、安定したアナログ出力信号を得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which exhibits good sensitivity, resolution and pattern profile, small line edge roughness and good surface roughness as a composition for pattern formation with an active ray or radiation, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

活性光線又は放射線によるパターン形成用として、感度、解像力、パターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスが小さく、更には、表面ラフネスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solid-state imaging device and solid-state imaging system using the same in which noise correction can be accurately performed, without taking time, on a pattern noise distributed two-dimensionally, while the pattern noise includes a pattern noise that is generated in a light incident state.例文帳に追加

光入射状態で発生するパターンノイズを含めて２次元状に分布するパターンノイズを、時間をかけずに精度良くノイズ補正を行うことができるようにした固体撮像素子及びそれを用いた固体撮像システムを提供する。 - 特許庁

The error pattern storage section 33 discriminates whether or not code data corresponding to the error pattern IPAT include an error on the basis of the error pattern IPAT, and stores the code data to an LIFO memory 34 together with a count CNT1 received at the same time when the code data include an error.例文帳に追加

誤りパターン記憶部３３は、誤りパターンＩＰＡＴに基づき、それに対応する符号データに誤りがあるか否かを判定し、誤りがある場合、同時に入力されたカウンタ値ＣＮＴ１とともにＬＩＦＯメモリ３４に記憶させる。 - 特許庁