「second step」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

The first reactor has the first annular heating oven 24 on the periphery, and the temperature of the first reactor is 200-374°C in the first treatment step and 374-650°C in the second treatment step.例文帳に追加

第１反応器は外周にリング状の１加熱炉２４を備え、第１反応器内温度は処理の第１段階では２００℃以上３７４℃以下であり、第２段階では、３７４℃以上６５０℃以下である。 - 特許庁

If it is decided that the disk is loaded in the first step, when the difference of a rotational speed on the basis of the size of the disk is clear, as a second step, a difference of the size of the disk is discriminated.例文帳に追加

第１段階でディスク装着有りと判断した場合には、ディスクの大きさによる回転速度の差が明らかになった時点で、第２段階として、ディスクの大きさの違いを識別する。 - 特許庁

The power of the CCTrCHs is incremented or decremented by a first step size when DTX is employed, and by a second step size when DTX is not employed.例文帳に追加

ＣＣＴｒＣＨの電力は、ＤＴＸが利用されている場合は、第１のステップサイズだけ増大または減少され、ＤＴＸが利用されていない場合は、第２のステップサイズだけ増大または減少される。 - 特許庁

A method of forming film pattern comprises: a step of forming a first bank layer 35 by locating a first bank forming material on the substrate 18; and a step of forming a second bank layer 36 on the first bank layer 35.例文帳に追加

基板１８上に第１のバンク形成材料を配置して第１バンク層３５を形成する工程と、第１バンク層３５上に第２バンク層３６を形成する工程とを有する。 - 特許庁

The spot of the light formed on a panel is elliptical in the vicinity of the diagonal parts, but its position in the first step is different from that in the second step, so that the spot formed by both the steps looks like a circle when it is viewed as a whole.例文帳に追加

パネルにできる光のスポットは、対角部付近では楕円形であるが、その位置が１回目と２回目とではずれているため、２回分のスポット全体としてみると円形である。 - 特許庁

If the first mark has been determined and the type of the storage medium has been determined, a third identifying step for a type of the storage medium is followed by a step for determining a second mark.例文帳に追加

記憶媒体の種類についての第３の識別段階の後に、第１のマークが決定されており記憶媒体の種類が決定されていれば第２のマークについての決定段階が続く。 - 特許庁

A closed circuit, which is composed of a rectifying power supply 10, a second switching element 42 and an inductor 20 for a chopper and a closed circuit which is composed of a reverse-block diode 30 and a smoothing capacitor 70 constitute a chopper circuit of a step-up and step-down type.例文帳に追加

整流電源１０、第二スイッチング素子４２、チョッパ用インダクタ２０による閉回路と逆阻止用ダイオード３０、平滑用コンデンサ７０による閉回路は、昇降圧型チョッパ回路を形成する。 - 特許庁

In the ferroelectric memory, a mechanism is prepared to continuously and integrally transfer data of a plurality of words, which is read in the first step <11>, using an internal address counter 43 in the second step <12>.例文帳に追加

強誘電体メモリにおいて、第１ステップ＜１１＞で読み出された複数ワードのデータを、第２ステップ＜１２＞において内部のアドレスカウンタ４３を用いて、連続して一括転送する機構が備えられている。 - 特許庁

The boiled adzuki bean 2 obtained in steps A and B is immersed into a first sweet syrup 6 (step C) and further, immersed into a second sweet syrup 7 in a sugar concentration lower than that of the first sweet syrup 6 to sweetly season the adzuki bean (step D).例文帳に追加

次いで、（Ａ）、（Ｂ）の工程で得た煮豆２を第１甘味シロップ６に浸漬し（Ｃ）、更に、第１甘味シロップ６よりも糖度を低くした第２甘味シロップ７に浸漬して甘く味付する（Ｄ）。 - 特許庁

After performing the step of performing the impurity injection (s400), anneal at the maximum anneal temperature of not less than 1000°C during an anneal time of not more then 100 msec is performed as a second anneal step (s700).例文帳に追加

その不純物注入を行う工程（ｓ４００）の後、第二アニール工程として、最高アニール温度が１０００℃以上で、アニール時間が１００ミリ秒以下であるアニールを行う（ｓ７００）。 - 特許庁

The method comprises a third step of arranging adjacently a plurality of core materials composed of metal or precast concrete extending vertically in the bounds of the groove, after the second step.例文帳に追加

前記方法は、前記第２ステップの後、前記範囲における前記溝の中に、それぞれが上下方向に伸び、金属又はプレキャストコンクリートからなる複数の芯材を隣接して配置する第３ステップを含む。 - 特許庁

The method for producing the cloth-like filament cellulose includes: the first step of impregnating a cloth-like filament cellulose in a staple cellulose fibers' dispersion; and the second step of removing the solvent of the dispersion.例文帳に追加

短繊維セルロース分散液に布状長繊維セルロースを含浸させる第１工程と、前記分散液の溶媒を除去する第２工程とにより製造される、布状長繊維セルロースの製造方法。 - 特許庁

A radioactive cesium accumulated high-level waste liquid discharged from the second step is condensed and denitrated to such a state as to be thrown into a glass or the like stable solid manufacturing step, and nitric acid is collected.例文帳に追加

第２工程から排出される放射性セシウム濃集高レベル廃液は、ガラス等安定固化体製造工程に投入できる状態にまで濃縮、脱硝し、硝酸を回収する。 - 特許庁

In a first step S1 and a second step S2, a main agent and a hardening agent of an underwater curable resin are placed in a cylinder and, by driving a piston, are extruded in a columnar shape from a discharge port.例文帳に追加

第１工程Ｓ１及び第２工程Ｓ２においては、水中硬化型樹脂の主剤と硬化剤をシリンダ内に入れ、ピストンを駆動して吐出口から柱状の形状で押し出す。 - 特許庁

Then a construction point is specified (STEP 202), the point is inputted, shutdown areas of water supply such as the first shutdown area of water supply or the second shutdown area of water supply are extracted with referring the attributes added at the boundary nodes (STEP 203).例文帳に追加

次に、工事箇所等を指定し（ステップ２０２）、入力し、境界ノードに付与された属性を参照して１次断水区域、２次断水区域といった断水区域を抽出する（ステップ２０３）。 - 特許庁

The first step is performed by covering a lining concrete surface with an impermeable sheet, and the second step is performed by supplying the water or the vapor to the lining concrete surface.例文帳に追加

前記第１ステップは、前記覆工コンクリートの表面を非透水性シートで覆うことにより行い、前記第２ステップは、前記覆工コンクリートの表面に水または蒸気を供給することにより行う。 - 特許庁

The method of manufacturing the light emitting element includes a step of forming the nano-structure on a surface of the substrate; and a step of forming thereon a first conductive semiconductor layer, active layer, and a second conductive semiconductor layer.例文帳に追加

発光素子の製造方法は、基板表面にナノ構造体を形成し、その上に第１導電性半導体層、活性層、及び第２導電性半導体層を形成する段階を含む。 - 特許庁

As a ceria series slurry in the first step, the diluted ceria series slurry or a silica series slurry is used in the second step, so that variations in wafers are decreased, and a polishing time is reduced.例文帳に追加

第１の工程ではセリア系スラリーを、第２の工程では希釈したセリア系スラリーやシリカ系スラリーを用いることで、ウェハごとのばらつきを低減し、且つ研磨時間の短縮を図ることができる。 - 特許庁

Then, the formed silicon nitride film is removed while the silicon nitride film formed corresponding to the sidewalls of the gate electrode materials is left (a step S6), and the second silicon oxide film is removed (a step S7).例文帳に追加

そして、形成したシリコン窒化膜を、ゲート電極材料の側壁に対応する部分に形成されているシリコン窒化膜を残して除去した後（ステップＳ６）、第２のシリコン酸化膜を除去する（ステップＳ７）。 - 特許庁

The method for impurity introduction comprises: a first step which includes irradiating a surface of a monocrystalline silicon substrate with neon plasma to form an amorphous layer; and a second step which includes introducing an impurity into the amorphous layer.例文帳に追加

不純物導入方法は、シリコン単結晶基板の表面にネオンからなるプラズマを照射してアモルファス層を形成する第１工程と、アモルファス層に不純物を導入する第２工程とを含む。 - 特許庁

This judging method for judging the using possibility of the existing piping is a method for judging the using possibility of the existing piping in an air-conditioner, and is provided with the first step and the second step.例文帳に追加

既設配管の利用可能性の判断方法は、空気調和機の既設配管の利用可能性について判断を行う判断方法であって、第１ステップと、第２ステップとを備えている。 - 特許庁

The method also includes a step of supplying the ink on an area on which the first liquid and the second liquid are supplied to form an intermediate image on the intermediate transfer member, and a step of transferring the intermediate image to a recording medium.例文帳に追加

中間転写体の上で第１の液体および第２の液体が付与された領域にインクを付与して中間画像を形成し、形成された中間画像を記録媒体に転写する。 - 特許庁

A first stopper part 41 is provided on a body side guide rail 13a fixed to a body 11 side, and a second stopper part 42 is provided on a step side guide rail 13b fixed to the step 14 side.例文帳に追加

本体１１側に固着された本体側ガイドレール１３ａには第１ストッパ部４１が設けられ、ステップ１４側に固着されたステップ側ガイドレール１３ｂには第２ストッパ部４２が設けられている。 - 特許庁

In this manufacturing method, the second implement used in one step is detached and then can be used in a preceding step, so that a manufacturing line of high production efficiency can be constituted.例文帳に追加

この製造方法によれば、本工程にて使用した第２の治具を取り出した後に、それを前工程に対しても用いることができ、生産効率の良い製造ラインを構成することができる。 - 特許庁

The process for producing the electrode of an electrochemical capacitor comprises a first step (S11) for forming an undercoat layer on a collector having a roughened surface, and a second step (S13) for forming a polarizable electrode layer on the undercoat layer.例文帳に追加

表面が粗面化された集電体上にアンダーコート層を形成する第１の工程（Ｓ１１）と、アンダーコート層上に分極性電極層を形成する第２の工程（Ｓ１３）とを備える。 - 特許庁

This method comprises a first step of acquiring an image of the semiconductor chip on the film 2 at a relatively low resolution, and a second step of acquiring the image of the semiconductor chip on the film 2 at a relatively high resolution.例文帳に追加

フィルム２上の半導体チップの画像を比較的低解像度で取得する第１の過程と、フィルム２上の半導体チップの画像を比較的高解像度で取得する第２の過程を備える。 - 特許庁

The bottom and top faces of the gas flow passage can be planarized in the second step, since they are bent inside and then pressed to be planarized from within in the third step.例文帳に追加

第二工程でガス流路の底面および頂面を内側に湾曲させた後、第三工程で内側から平坦に押圧変形するので、セパレータのガス流路の底面と頂面とを平坦に成形できる。 - 特許庁

A target energy value per a unit time limit during the second period in the target year is calculated by dividing the target energy value distributed to the second period in the target year with a temporal numerical value during the second period in the reference year in the third step.例文帳に追加

第３ステップでは、対象年の第２期間に配分された目標エネルギー値を基準年の第２期間における時間的数値で割って対象年の第２期間における単位時限当たりの目標エネルギー値を求める。 - 特許庁

In a pile joint step 12, an intermediate joint excavation rod inserted into a second pile is connected to the excavation rod, the second pile is connected to the head of the first pile, and the second pile is lifted from a pile driver to which the intermediate joint excavation rod is attached.例文帳に追加

杭継工程１２で、掘削ロッドに第２の杭へ挿入した中継ぎ掘削ロッドを接続すると共に、第１の杭の頭部に第２の杭を接続し、第２の杭を中継ぎ掘削ロッドが取付けられた杭打ち機に吊り下げる。 - 特許庁

When the upper pressure part 22a of the second push button 22 is pressed downward, the second push button 22 is displaced downward against the biasing force of the second coil spring 24, then, the two-step switch 31 is pressed so as to output a first switch signal.例文帳に追加

第２押しボタン２２の押圧部２２ａ上面が下方へ押圧されることで、第２押しボタン２２は、第２コイルばね２４の付勢力に抗して下方へ変位し、２段式スイッチ３１は押圧され第１スイッチ信号を出力する。 - 特許庁

Then, by using a gas containing halogen, second dry etching is executed for the surface 3a of the wafer 3 while applying second bias power that has a power value smaller than that of the first bias power, to the chuck 24 (second dry etching step S11).例文帳に追加

次に、ハロゲンを含むガスを用いて、チャック２４に第１のバイアス電力よりも電力値が小さい第２のバイアス電力を印加しながら、ウェハ３の表面３ａに第２のドライエッチングを施す（第２のドライエッチング工程Ｓ１１）。 - 特許庁

The method also includes a step of creating a second template using the replicate, in order to form on the second template the predetermined mirrored servo arc orientation and predetermined duty cycle for copying to the second side of the patterned stack.例文帳に追加

方法はさらに、複製物を使用して第二のテンプレートを製造するステップを備え、パターンドスタックの第二面に転写するための所定の鏡写しのサーボアーク配向および所定のデューティサイクルを第二のテンプレートに形成する。 - 特許庁

A second step generates an output image which gives a different visual impression of the object than the first image and the second image, based on difference data of the specular reflection components extracted from the first image and the second image.例文帳に追加

第２ステップでは、第１画像および第２画像から抽出した鏡面反射成分の差分データに基づいて、第１画像および第２画像と比べて被写体の視覚的印象が異なる出力画像を生成する。 - 特許庁

The second recessed part 40 includes a first bottom face 42 and a second bottom face 44 arranged at the position deeper inward of the container from the first bottom face 42, and a step difference is formed by the first bottom face 42 and the second bottom face 44.例文帳に追加

第２凹部４０は、第１底面４２と、第１底面４２よりも容器内側方向に深い位置に配置された第２底面４４とを含み、第１底面４２及び第２底面４４により段差が形成される。 - 特許庁

In the heat pump outdoor unit, an intermediate base includes a second antivibration mount installation face having a second antivibration mount, a first antivibration mount fitting part located in a position higher than that of the second antivibration mount installation face and mounted with a first antivibration mount, and a step.例文帳に追加

そのため、中間ベースを用いない構成と比較すると圧縮機の設置位置が大きく上方に上がり、ヒートポンプ室外機の配管の取り回しや、電子部品の収納スペースが狭くなり小型化が困難であった。 - 特許庁

While the first roller pair 61 holds the vicinity of a second end 81 of the recording paper between and the second roller pair 80 holds the recording paper between, the rotation of the first roller pair 61 and the second roller pair 80 is stopped (step S5).例文帳に追加

第１ローラ対６１が記録用紙の第２端８１付近を挟持し、且つ、第２ローラ対８０が当該記録用紙を挟持した状態で、第１ローラ対６１及び第２ローラ対８０の回転が停止される（ステップＳ５）。 - 特許庁

When the bag is moved to and stopped at a second step, a folding plate 119 of a folding unit 95 rotates in the state of placing the second filling portion thereon and rotates the second filling portion around a sealing part C to superpose it on the first filling portion.例文帳に追加

第２工程へ移動し停止すると、折畳みユニット９５の折畳みプレート１１９がその上に第２充填部を載せた状態で回動し、第２充填部をシール部Ｃを中心にして回動させ第１充填部に重ねる。 - 特許庁

This method comprises a step initializing a device selective signal in a first logic state, a step asserting to the device selective signal in a second logic state and a step returning a device selective signal to the first logic state within a time window controlled by a first user.例文帳に追加

この方法は、デバイス選択信号を第１の論理状態に初期化するステップ、デバイス選択信号第２の論理状態にアサートするステップ、第１のユーザ制御された時間窓内にデバイス選択信号を第１の論理状態に戻すステップを含む。 - 特許庁

After Step S11 optically reads in a first form to capture image, Step S14 prints serial number data on the first form to create a second form, and Step S15 saves first image data and the serial number data on the first read form.例文帳に追加

ステップＳ１１で、第１の帳票を光学的に読取ってイメージ取得した後、ステップＳ１４で、その第１の帳票に通番データを印字して第２の帳票を作成し、ステップＳ１５で、読取った第１の帳票の第１のイメージデータと通番データを保存する。 - 特許庁

The method for treating a soil contaminated by a heavy metal such as selenium, comprises a first step of adding phosphoric acid into a selenium-containing soil, a second step of adding a water-soluble salt of bivalent iron ion, and a third step of adding a moisture absorber containing a calcium oxide, in this order.例文帳に追加

セレンを含む土壌に、リン酸を添加する第１工程、２価の鉄イオンの水溶性塩を添加する第２工程、生石灰を含有する吸湿剤を添加する第３工程をこの順で有するセレン等重金属汚染土壌の処理方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a step of forming a first oxide film 4 on a semiconductor substrate 1 having the trench 10, a step of heat-shrinking the film 4 by thermal treatment, and a step of forming a second oxide film 5 on the first film 4.例文帳に追加

トレンチ１０を有する半導体基板１上に第１酸化膜４を成膜する工程と、熱処理を行うことにより、前記第１酸化膜４を熱収縮する工程と、前記第１酸化膜４上に第２酸化膜５を成膜する工程と、を備える。 - 特許庁

Next, when the calculated second differential value is determined to be a predetermined value or higher (step 110) and the number of times so determined (count value) is a predetermined value or higher (step 116), it is determined that a surge occurs in the centrifugal compressor (step 118).例文帳に追加

次いで、算出された２階微分値が所定値以上であると判定された場合に（ステップ１１０）、そのように判定された回数（カウンタ値）が一定値以上である場合に（ステップ１１６）、遠心式圧縮機にサージが発生したと判定する（ステップ１１８）。 - 特許庁

The manufacturing method of the substrate comprises a step for forming a first insulation layer on the back of the substrate, a step for forming the pattern of the resistance heater on the first insulation layer, and a step for forming a second insulation layer on the pattern of the resistance heater.例文帳に追加

この基板の製造方法は、基板裏面上に第１の絶縁層を形成する工程と、第１の絶縁層上に抵抗発熱体パターンを形成する工程と、抵抗発熱体パターン上に第２の絶縁層を形成する工程とを有する。 - 特許庁

A health condition deciding method is provided with a first step for displaying questions concerning health, a second step for urging the user to input answers to the displayed questions and a third step for deciding the health condition of the user based on the inputted answers.例文帳に追加

健康に関する質問を表示する第１のステップと、ユーザーに対して前記表示された質問に対する回答の入力を促す第２のステップと、前記入力された回答に基づいてユーザーの健康状態を判定する第３のステップと、を備える。 - 特許庁

This manufacturing method includes: a first step of forming a film containing SnO, a second step of forming an insulating film made of oxide or nitride on the film containing SnO, and a third step of heat treating a laminated film including the film containing SnO and the insulating film.例文帳に追加

ＳｎＯを含む膜を形成する第１の工程と、前記ＳｎＯを含む膜の上に酸化物又は窒化物からなる絶縁膜を形成する第２の工程と、前記ＳｎＯを含む膜と前記絶縁膜を含む積層膜を熱処理する第３の工程とを含む。 - 特許庁