「second step」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

This method includes a step of measuring at least first pressure at a first side 17 of a wind turbine nacelle 1, a step of determining a pressure difference between the measured first pressure and second pressure, and a step of rotating the nacelle 1 based on the determined pressure difference.例文帳に追加

風車のナセル１の第１の側１７において少なくとも第１の圧力を測定するステップと、測定された第１の圧力と、第２の圧力との差圧を決定するステップと、決定された差圧に基づいてナセル１を回転させるステップを含む。 - 特許庁

The etching treatment method comprises a first step for detecting the etched depth in a material by a film thickness measurement means and for etching to a first depth, and a second step for performing etching to a specific depth at a smaller treatment speed than that of the first step.例文帳に追加

膜厚測定手段により被エッチング材エッチング深さを検出しつつ、第１の深さまでエッチングする第１のステップと、引き続いて、前記第1ステップの処理速度より小さい処理速度で所定の深さまでエッチングする第２のステップとを有する。 - 特許庁

The rubber composition for tires is obtained by a method for production including: a first base kneading step of kneading a rubber component, hydrous calcium carbonate and a silane coupling agent together; and a second base kneading step of kneading the kneaded product obtained in the first base kneading step with silica.例文帳に追加

ゴム成分と、含水炭酸カルシウムと、シランカップリング剤とを混練する第一ベース練り工程と、前記第一ベース練り工程により得られた混練物と、シリカとを混練する第二ベース練り工程とを含む製造方法により得られるタイヤ用ゴム組成物に関する。 - 特許庁

Thereafter, based on the spectral strength obtained by the first step and the corrected value calculated before starting the second step, an electric current value to obtain a specified light strength is determined, and the light strength at a step S205 is measured by turning the light emitting element on by the electric current value.例文帳に追加

以降、第１のステップで求めた分光強度と第２ステップに入る前に計算した補正値とに基づいて所定の光強度が得られる電流値を定めてその電流値で発光素子を点灯させステップＳ２０５で光強度を測定する。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes a step of forming a first heat treatment protective film (silicon nitride film 6) after the ion implantation for introducing an impurity, a step of forming a second heat treatment protective film (silicon nitride film 7), and a step of conducting heat treatment to form a well in the impurity diffusing region.例文帳に追加

不純物を導入するイオン注入後に第１の熱処理用保護膜（窒化シリコン膜６）を形成し、次に第２の熱処理用保護膜（窒化シリコン膜７）を形成してから、不純物拡散領域であるウェルを形成するための熱処理を行う。 - 特許庁

A retrieval device body 11 determines whether a selection candidate is present in a second layer 31b within an address database 31 or not in step S26, performs alarm display for a moment in step S32 when the determination result is NO, and then performs transfer to a lower layer in step S33.例文帳に追加

検索装置本体１１は、ステップＳ２６で住所データベース３１内の第２階層３１ｂに選択候補があるか否かを判定し、この判定がＮｏの場合、ステップＳ３２で警告表示を一瞬行った後、ステップＳ３３で下位階層に移行する。 - 特許庁

A first step part 8 dropping to the rear from a front surface 1a of an equipment body 1 in the longitudinal direction of the equipment body 1 and a second step part 9 dropping further to the rear from the first step part 8 are formed in stages on both ends in the vertical direction of the equipment body 1.例文帳に追加

器体１の縦方向両端部には器体１の前後方向において器体１の前面１ａから後方へ下がった第１の段部８と、第１の段部８からさらに後方へ下がった第２の段部９とが階段状に形成されている。 - 特許庁

The method for manufacturing a soil-conditioning material comprises a first step for mixing a culture solution containing at least a group of microorganisms with wood chips and cultivating them and a second step for impregnating the cultivated wood chips obtained in the first step with excretions.例文帳に追加

少なくとも微生物群を含有する培養液と、木材チップと、を混合し、培養させる第一の工程と、第一の工程で得られる培養木材チップに、糞尿を染み込ませる第二の工程と、から製造される土壌改良材の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method has: a first step 1 of applying solution heat treatment to an extruded precipitation-hardening-type high-hardness aluminum alloy pipe; a second step 6a of applying spinning to the solution-heat-treated pipe; and a third step 3 of applying artificial aging to the pipe after the spinning.例文帳に追加

押出し成形された析出硬化型の高硬度アルミニウム合金パイプを溶体化する第１の工程１と、該溶体化されたパイプをスピニング加工する第２の工程６ａと、該スピニング加工されたパイプを人工時効する第３の工程３とを有する。 - 特許庁

The pressing method for press fitting a first workpiece W1 into a second workpiece W2 includes a step of detecting the load in the press fitting operation, a step of detecting the inflection point of the load in the press fitting operation, and a step of increasing the pressure from the inflection point to a required set value.例文帳に追加

第１ワークＷ１を第２ワークＷ２に圧入するプレス方法であって、圧入時の荷重を検出する工程と、該圧入時の荷重の変曲点を検出する工程と、該変曲点から所定の設定値まで加圧する工程とを含んでいる。 - 特許庁

The method is to fit a surface to a group of points by using a computer and is provided with a first step of deciding reliability of the group of points and a second step of changing a fitting method of a surface to the group of points based on the decision result of the reliability in the first step.例文帳に追加

コンピュータを用いて点群に面をフィッティングする方法であって、点群の信頼性を判断する第１ステップと、第１ステップでの信頼性の判断結果に基づいて、点群への面のフィッティング方法を変更する第２ステップと、を備えた方法である。 - 特許庁

The method of discriminating dried bonitos includes the step of quantitating concentration of veratrole included in dried bonitos; and the step of discriminating rough dried fish, inoculated with not less than the second mold from among dried bonitos, based on the concentration of veratrole obtained from the step.例文帳に追加

かつお節に含まれるベラトロール濃度を定量するステップと、 前記ステップにより得られたベラトロール濃度に基づき、かつお節の中から荒節に２番かび以上のかび付けをしたものを判別するステップと、 を有することを特徴とする、かつお節の判別方法。 - 特許庁

This constant-current and constant-voltage charger charges a battery with a first the constant current Icc1 (step S2), a second constant current Icc2 (step S4) smaller than the first constant current Icc1, and a constant-voltage charging (step S5) sequentially.例文帳に追加

第１の定電流値ＩＣＣ１による定電流充電（ステップＳ２）と、第１の定電流値ＩＣＣ１よりも小さい第２の定電流値ＩＣＣ２による定電流充電（ステップＳ４）と、定電圧充電（ステップＳ５）とを順次に経て充電池を充電する。 - 特許庁

In the impact pressure relay 1, a first processing step, which monitors pressure change at plural predetermined time intervals, and a second processing step, which monitors pressure change at a time interval shorter than that of the first processing step, are executed.例文帳に追加

衝撃圧力継電器１において、予め設定された複数の時間間隔において圧力変化を監視する第１の処理工程と、第１の処理工程の時間間隔より短い時間間隔で圧力変化を監視する第２の処理工程をとを実行する。 - 特許庁

This coffee extraction method includes a first extractiion step for extracting coffee in hot water of 80°C-100°C, and a second extracting step for extracting in hot water of 50°C-80°C the coffee passing through the first extracting step.例文帳に追加

コーヒーの抽出方法であって、前記コーヒーを、８０℃〜１００℃の温水で抽出する第一抽出工程と、前記第一抽出工程を経たコーヒーを、５０℃〜８０℃の温水で抽出する第二抽出工程と、を有する抽出方法でコーヒーを抽出すること。 - 特許庁

The method includes the step of estimating a position error status and a position solution when the INS (10) is located at a first position, the step of estimating a position error status and a position solution when the INS is located at a second position, and the step of returning the INS to the first position.例文帳に追加

本方法は、ＩＮＳ（１０）が第１の位置なあるときの位置誤差状態及び位置解を推定するステップと、ＩＮＳが第２の位置にあるときの位置誤差状態及び位置解を推定するステップと、ＩＮＳを第１の位置に戻すステップとを含む。 - 特許庁

When a source voltage V falls below a 1st reference voltage V1 (step S302) and is higher than a second reference voltage V2 (step S303), a function limiting process is performed (step S305) and the reception cycles of the different-frequency signal is made (n) time as long as the cycles T.例文帳に追加

電源電圧Ｖが第１の基準電圧Ｖ１より低くなり（ステップＳ３０２）、第２の基準電圧Ｖ２よりも高い（ステップＳ３０３）場合は、機能制限処理を行い（ステップＳ３０５）、他周波信号の受信周期を、周期Ｔのｎ倍にする。 - 特許庁

Otherwise, on the whole winding region of the vertical deflection coil 23, the large portion of the whole winding quantity may be wound as the first step, and the remaining small portion may be wound in piles as the second step on the first step portion where the electric charge is concentrated by a voltage influence of the horizontal deflection coil.例文帳に追加

また、垂直偏向コイルの全巻線領域に、全巻線量の大半を１段目として巻線し、残り少量部分を２段目として、水平偏向コイルの電圧影響で電荷が集中する１段目の部分に重ねて巻線してもよい。 - 特許庁

The crystalline semiconductor film is manufactured by a first step in which a crystalline semiconductor film is formed on and in contact with an insulating film and a second step in which the crystalline semiconductor film is grown in a condition where a generation frequency of nuclei is lower than in the first step.例文帳に追加

絶縁膜上に接して結晶性半導体膜を形成する第１の工程と、前記第１の工程よりも核生成頻度が低い条件により結晶性半導体膜を成長させる第２の工程と、により結晶性半導体膜を作製する。 - 特許庁

This method includes a known shot peening of the surface of the steel with steel particles in a first step, and, subsequently, shot peening with glass particles in a second step, optionally, the surface of the steel being smoothed in a following third step.例文帳に追加

この方法は、第一の段階において、鋼の表面を鋼粒子で既知の方法によりショットピーニングし、次いで第二の段階で、ガラス粒子を用いてショットピーニングし、そして場合によっては続く第三の段階で、鋼の表面を平滑化することを特徴とする。 - 特許庁

The display method comprises a specifying step for specifying a color determined from a chromaticity difference determined from first and second values concerning spectral reflectivity characteristics and a displaying step for displaying the color specified in the specifying step as a graphical object.例文帳に追加

本発明の表示方法は、分光反射率特性に係る第１の値と第２の値から求められる色度差によって定まる色を特定する特定ステップと、特定ステップにおいて特定された色をグラフィカルオブジェクトとして表示させる表示ステップとを含む。 - 特許庁

Secondly, in a second cleaning step, the selection ratio is decreased by increasing a temperature in the treatment chamber to 350°C to remove the quartz powder of the quarts member generated in a first cleaning step and the remaining SiN film which cannot be removed in the first cleaning step.例文帳に追加

つぎに、第２のクリーニング工程で、処理室内の温度を３５０℃に上げることで、上記選択比を下げ、第１のクリーニング工程で発生した石英製部材の石英粉及び第１のクリーニング工程において除去できずに残存したＳｉＮ膜を除去する。 - 特許庁

In the growth method of the nitride semiconductor thin film, TMG or TEG is supplied to a terrace 202 formed in a restricted region 102 by a step-flow growth (a first growth step) of a GaN substrate 101 having a mis-cutting at a second set value T2 which is a substrate temperature lower than that of the first growth step.例文帳に追加

ミスカットを有するGaN基板１０１のステップフロー成長（第１の成長工程）により制限領域１０２内に形成されたテラス２０２に、第１の成長工程よりも低い基板温度である第２の設定値Ｔ２でTMG又はTEGを供給する。 - 特許庁

A cosmetic treatment method includes a first step for removing keratin by applying ultrasonic wave onto skin; a second step for activating the skin by irradiating the skin with a visible beam or infrared light; and a third step for allowing a vitamin C derivative to permeate the depth part of the skin.例文帳に追加

皮膚に超音波を適用して角質の除去を行う第１のステップと、可視光線または赤外線を皮膚に照射することにより皮膚を活性化する第２のステップと、ビタミンＣ誘導体を皮膚の深部へ浸透させる第３のステップと、を有する。 - 特許庁

The method for producing the soluble keratin comprises a first step of bringing the α-keratin into contact with thioglycolic acid and/or a salt thereof in the presence of water, and a second step of adding an oxidizing agent to the treated liquid obtained in the first step.例文帳に追加

α−ケラチンを、水の存在下でチオグリコール酸および／またはその塩と接触させる第１の工程と、前記第１の工程で得られる処理液に酸化剤を添加する第２の工程とを有することを特徴とする可溶性ケラチンの製造方法。 - 特許庁

It is preferable that a step of forming a second layer including the catalyst precursor or a catalyst on the surface of the first layer is put between the step of forming cracks in the first layer and the step of reducing the first layer having the cracks formed therein.例文帳に追加

前記第１の層にクラックを形成する工程と前記クラックが形成された第１の層を還元する工程との間に、前記第１の層の表面に触媒前駆体もしくは触媒からなる第２の層を形成する工程を有することが好ましい。 - 特許庁

The method for producing the zirconium hydroxide is comprised of the first step of hydrolyzing an aqueous solution of soluble zirconium salt to prepare a slurry, the second step of adding a base to the slurry to form hydroxide and the third step of separating and recovering the hydroxide.例文帳に追加

２．可溶性ジルコニウム塩水溶液を加水分解してスラリーを調製する第一工程、上記スラリーに塩基を加えて水酸化物を生成させる第二工程、及び上記水酸化物を分離回収する第三工程を有する水酸化ジルコニウムの製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the laminated structure comprises a step (A) of forming the first insulating film including silicon, a step (A) of laminating the second insulating film on the first insulating film, and a step (B) of irradiating an ultraviolet beam under a nonoxidizing atmosphere.例文帳に追加

ケイ素を含む第１の絶縁膜を形成する工程（Ａ）と、該第１の絶縁膜の上に第２の絶縁膜に積層する工程（Ａ）と、非酸化雰囲気下で紫外線を照射する工程（Ｂ）と、を順次含むことを特徴とする積層構造体の製造方法。 - 特許庁

This asynchronous serial data transmitting means has a step for providing first and second signals having one state at a first interval when transmitting data and a step for changing the state of the relevant second signal while keeping the state of the relevant first signal at a second interval, and transmitting serial data corresponding to the changes in the states of the first and second signals.例文帳に追加

データを送信する時、第１間隔に一つの状態を有する第１信号と第２信号を提供するステップと、第２間隔に当該第１信号の状態を保って当該第２信号の状態を変えて第１信号と第２信号の状態の変化によってシリアルデータを送信するステップを有することを特徴とする、非同期シリアルデータ送信手段。 - 特許庁

The method of manufacturing a structure has a first process step of arranging the second member on the first member and interposing the third member which is a meltable binder between the first member and the second member and a second process step of melting the third member and moving the second member to a desired position or height by the surface tension of the third member.例文帳に追加

本発明の構造体の製造方法によれば、第１の部材上に第２の部材を配置し、第１の部材と第２の部材の間に溶融性の接合剤である第３の部材を介在させる第１の工程と、第３の部材を溶融させて第３の部材の表面張力で第２の部材を所望の位置又は高さに移動させる第２の工程とを有する。 - 特許庁

A transmission rate of response information to a second terminal device 32 which transmits a second event ignited (reacted) by the first filter is increased/decreased based on the correspondence of the second event to the stored priority order, so that the response information is transmitted to the second terminal device 32 (step 108).例文帳に追加

第１のフィルタに発火した第２のイベントの送信を行った第２の端末装置３２への応答情報の送信割合を、第２のイベントと記憶された優先順位との対応に基づいて増減させて、その応答情報を第２の端末装置３２に送信する（ステップ１０８）。 - 特許庁

In addition, the manufacturing method has a step, in which the second nitride semiconductor layer 18 is etched so that the etching is automatically stopped, in a state where the second nitride semiconductor layer 18 remains, by making the second nitride semiconductor layer 18 react with an alkali etchant, while irradiating the second nitride semiconductor layer 18 with a light.例文帳に追加

続いて、第２の窒化物半導体層１８に光を照射しつつアルカリ性のエッチャントと反応させることにより、第２の窒化物半導体層１８が残存した状態で自動的にエッチングが停止するように第２の窒化物半導体層１８をエッチングする。 - 特許庁

On the basis of a test sound signal of a single frequency, levels of a first test sound outputted from a first loudspeaker, a second test sound outputted from a second loudspeaker, and a composite sound of the first and second test sounds simultaneously outputted from the first and second loudspeakers are detected (step S22).例文帳に追加

単一周波数のテスト音声信号に基づいて第１スピーカから出力される第１テスト音声、第２スピーカから出力される第２テスト音声、並びに第１及び第２から同時に出力される第１及び第２テスト音声の合成音声のレベルを検出する（ステップＳ２２）。 - 特許庁

The second part 62 has a second lower surface 62SL directly joined to the first part 61 and extended from the first lower surface 61SL and a second upper surface 62SU parallel to the second lower surface 62SL and connected to the first upper surface 61SU without forming step difference with the first upper surface 61SU.例文帳に追加

第２の部分６２は、第１の部分６１に直接接合され、第１の下面６１ＳＬの延長上にある第２の下面６２ＳＬと、これと平行であり第１の上面６１ＳＵと段差を形成することなく接する第２の上面６２ＳＵとを有する。 - 特許庁

The step of fabricating the layered substructure includes: fabricating a first and a second pre-polishing substructure each having a first surface and a second surface; bonding the pre-polishing substructures to each other such that their respective first surfaces face each other; and forming a first and a second substructure 110 by polishing the second surfaces.例文帳に追加

積層基礎構造物を作製する工程では、それぞれ第１および第２の面を有する第１および第２の研磨前基礎構造物を作製し、これらを、第１の面同士が対向するように張り合わせ、第２の面を研磨して第１および第２の基礎構造物１１０を作製する。 - 特許庁

The method for measuring the particle size of the particle includes the first step of acquiring a specific Raman shift in the particle dispersed in the solid material, the second step of conducting the microscopic Raman spectroscopy for the solid material and performing a binarizing Raman chemical imaging on the basis of a prescribed Raman intensity threshold at the specific Raman shift for the particle, and the third step of calculating the particle size of the particle from a Raman chemical image obtained by the second step.例文帳に追加

固体材料中に分散した粒子に特異的なラマンシフトを得る第１工程と、該固体材料を顕微ラマン分光測定に付し、上記粒子に特異的なラマンシフトでの所定のラマン強度閾値に基づく２値化ラマンケミカルイメージングを行う第２工程と、該第２工程で得られたラマンケミカルイメージから上記粒子の粒径を算出する第３工程により、粒子の粒径を測定する。 - 特許庁

The method of patterning a dielectric film includes a step of forming a first dielectric film on a silicon substrate, a step of forming a second dielectric film on the first dielectric film, a step of partially exposing the first dielectric film by partially etching the second dielectric film with use of an etching paste, and a step of etching the exposed first dielectric film using an etching solution.例文帳に追加

シリコン基板上に、第１の誘電体膜を形成する工程と、該第１の誘電体膜上に、第２の誘電体膜を形成する工程と、エッチングペーストを用いて、第２の誘電体膜を部分的にエッチングすることにより、第１の誘電体膜を部分的に露出させる工程と、露出した第１の誘電体膜を、エッチング液を用いてエッチングする工程とを含む誘電体膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing the polymer gel comprises: a step of preparing a first gel containing a first polymer having a crosslinked network structure and a liquid; a step of freeze-drying and pulverizing the first gel to obtain dry gel fine particles; a step of immersing the dry gel fine particles in a solution containing a second monomer to obtain a precursor liquid; and a step of polymerizing the second monomer in the precursor liquid.例文帳に追加

架橋網目構造を有する第１のポリマーと液体を含む第１のゲルを調製する工程と、該第１のゲルを凍結乾燥した後、粉砕して乾燥ゲル微粒子を得る工程と、第２のモノマーを含有する溶液中に前記乾燥ゲル微粒子を浸漬させて前駆体液を得る工程と、前記前駆体液中の第２のモノマーを重合させる工程を有することを特徴とする高分子ゲルの製造方法。 - 特許庁

When a full/half phase pulse generating circuit 1004, which alternatively generates full-step drive signals for driving the stepping motor 1001 by full step and half-step drive signals for driving it by half step, and the stepping motor 1001 are driven at a second target speed following a first target speed, drive signals based on the second target speed are generated in the full/half phase pulse generating circuit 1004.例文帳に追加

ステッピングモータ１００１をフルステップ駆動するためのフルステップ駆動信号及びハーフステップ駆動するためのハーフステップ駆動信号を選択的に発生するフル／ハーフ相パルス発生回路１００４と、ステッピングモータ１００１が第１目標速度に引き続いて第２目標速度で駆動される場合、第２目標速度に基づいた駆動信号をフル／ハーフ相パルス発生回路１００４に発生させる。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device comprises a first step for packaging semiconductor elements on a first substrate; a second step for inspecting the semiconductor elements packaged on the first substrate; a third step for dicing the first substrate into pieces; and a fourth step for packaging the first substrate diced into pieces while the semiconductor elements are packaged on a second substrate.例文帳に追加

半導体素子を第１の基板に実装する第１の工程と、前記第１の基板に実装された前記半導体素子の検査を行う第２の工程と、前記第１の基板をダイシングにより個片化する第３の工程と、個片化された、前記半導体素子が実装された前記第１の基板を、第２の基板に実装する第４の工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

Furthermore, this method of removing resonance frequency in the system includes a first step for generating the excitation signal to excite the system, a second step for applying the excitation signal generated in the first step to the system, a third step for detecting the resonance frequency from a response signal in the system in accordance with the excitation signal and a fourth step for removing the resonance frequency detected in the third step.例文帳に追加

さらに，システムの共振周波数除去方法は，システムを加振させるための加振信号を生成する第一のステップと，第一のステップにおいて生成された加振信号をシステムに印加する第二のステップと，加振信号に応じてシステムにおいて応答する信号から共振周波数を検出する第三のステップと，第三のステップにおいて検出された共振周波数を除去する第四のステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The speech synthesis method comprises: a step for generating a first synthesized speech data for reading a text in the phrase unit; a step for generating a second synthesized speech data for reading the text in the accent phrase unit; and a step for switching over outputs of the first synthesized speech data and the second synthesized speech data.例文帳に追加

本音声合成方法は、テキストをフレーズ単位で読み上げるための第１の合成音声データを生成するステップと、上記テキストをアクセント句単位で読み上げるための第２の合成音声データを生成するステップと、ユーザからの指示に応じて、第１の合成音声データと第２の音声合成データの出力を切り替えるステップとを含む。 - 特許庁

The photographing apparatus includes: a first focused-position detecting mode in which a focused position is searched by detecting a contrast while a focal point is moved at first step intervals: and a second focused-position detecting mode in which a focused position is searched by detecting a contrast while a focal point is moved at second step intervals wider than the first step intervals.例文帳に追加

ピントを第１のステップ間隔で移動させながらコントラストを検出することにより合焦位置をサーチする第１の合焦位置検出モードと、ピントを第１のステップ間隔よりも広い第２のステップ間隔で移動させながらコントラストを検出することにより合焦位置をサーチする第２の合焦位置検出モードとを有する。 - 特許庁

When removing the coating from the coated magnesium-alloy product, the coated magnesium-alloy product is subjected to a first treatment step S11 of allowing a first alkaline solution to act on the coated magnesium-alloy product and a second treatment step S13 of allowing a second alkaline solution different from the first alkaline solution to act on the magnesium-alloy material which has undergone the first treatment step S11.例文帳に追加

塗装が施されているマグネシウム合金材から塗膜を除去するに際し、被塗装マグネシウム合金材に対して第１アルカリ溶液を作用させる第１処理Ｓ１１と、当該第１処理Ｓ１１を経たマグネシウム合金材に対して、第１アルカリ溶液とは別の第２アルカリ溶液を作用させる第２処理Ｓ１３と、を行う。 - 特許庁

The method of manufacturing a recess gate of a semiconductor device includes a step of forming a first recess 37 by etching a semiconductor substrate 31, a step of forming a second recess 37A by etching the sidewall and bottom of the first recess 37, and a step of forming a gate insulating film and a gate electrode on the semiconductor substrate 31 on which the second recess 37A is formed.例文帳に追加

本発明の半導体素子のリセスゲートの製造方法は、半導体基板３１をエッチングして第１リセス３７を形成するステップと、第１リセス３７の側壁及び底部をエッチングして第２リセス３７Ａを形成するステップと、第２リセス３７Ａが形成された半導体基板３１上にゲート絶縁膜及びゲート電極を形成するステップとを含む。 - 特許庁