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slit processingの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 185



例文

SLIT PROCESSING MECHANISM AND SLIT PROCESSING METHOD例文帳に追加

スリット加工機構およびスリット加工方法 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING DEPRESSED GROOVE WITH SLIT AND PRECUT PROCESSING EQUIPMENT例文帳に追加

スリット付き凹溝加工方法及びプレカット加工設備 - 特許庁

SLIT NOZZLE, SUBSTRATE PROCESSOR AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD例文帳に追加

スリットノズル,基板処理装置,および基板処理方法 - 特許庁

SUBSTRATE-PROCESSING EQUIPMENT AND CLEANING METHOD OF SLIT NOZZLE TIP例文帳に追加

基板処理装置およびスリットノズル先端の清浄化方法 - 特許庁

例文

To provide a crosslinked polyethylene foam for cutting processing easily subjected to slit processing and polishing processing and allowing processing with a high precision.例文帳に追加

スリット加工、研磨加工がし易く、高い精度で加工することができる切削加工用架橋ポリエチレン発泡体を提供する。 - 特許庁


例文

To carry out processing efficiently (joint, connection and slit processing of a wood butt end can be carried out by one processer) in the butt end processing, especially joint, connection and slit processing of wood.例文帳に追加

木材の木口加工、特に継手、仕口およびスリット加工において、その加工をより効率的(一つの加工機で木材の木口の継手・仕口およびスリット加工が可能)に行う。 - 特許庁

Since a slit shape formed by the slit forming step is trapezoidal, even when various curvatures are applied in the bending processing step, the opening of the slit is not closed.例文帳に追加

スリット形成工程により形成されるスリット形状は台形であるので曲げ加工工程で各種の曲率を適用してもスリットの開口部が閉じない。 - 特許庁

The processing is preferably one or more kinds selected from processing by a slit machine, Thomson type punching processing, water jet processing and a laser processing.例文帳に追加

加工方法は、スリット機による加工、トムソン型による打ち抜き加工、ウォータージェット加工、レーザー加工から選ばれる一種類以上であることが好ましい。 - 特許庁

The 1st type tray 21 is inserted to the slit for reflection scanning processing and the 2nd type tray is selectively inserted to the slit for transmission scanning processing.例文帳に追加

第1型トレー21は反射スキャン処理のためにスリットに挿入され、第2型トレーは透過スキャン処理のためにスリットに選択的に挿入される。 - 特許庁

例文

A correction processing section 61 carries out processing of detecting a positional relation between a (k-1)th slit image and a k-th slit image and processing for calculating a contrast correction amount in parallel.例文帳に追加

補正処理部61は、第(k−1)番目のスリット画像と第k番目のスリット画像との位置関係を検出する処理と、明暗の補正量を算出する処理とを並列して行う。 - 特許庁

例文

To properly convey a substrate in a substrate processing apparatus equipped with a slit nozzle.例文帳に追加

スリットノズルを備えた基板処理装置において、適切に基板を搬送する。 - 特許庁

To provide a processing apparatus for accurately forming a label and a slit in a label sheet.例文帳に追加

ラベル用シートに精度良くラベルとスリットとを形成する加工装置を提供する。 - 特許庁

This wet processing apparatus 20 includes a nozzle 22 having a slit-like discharge port 38.例文帳に追加

ウェット処理装置20は、スリット状の吐出口38を有するノズル22を含む。 - 特許庁

A decision is then made whether it is the last slit frame (step S111) and processing from step S108 is repeated until the last slit frame.例文帳に追加

最後のスリット枠であるか否かを判断し(ステップS111)、最後のスリット枠となるまで、ステップS108からの処理を繰り返す。 - 特許庁

To provide technology for applying processing liquid from a slit nozzle by stable application width.例文帳に追加

スリットノズルから安定した塗布幅で処理液を塗布することができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a processing apparatus and processing method for a photosensitive material which prevent the crystallization of a processing solution by sticking of the solution to the slit tip of a slot die.例文帳に追加

スロットダイのスリット先端部の処理液の固着結晶化を防止した感光材料の処理装置及び処理方法を提供する。 - 特許庁

The slit and the lip surfaces are processed with wrapping processing with diamond paste after the processing, and the surface roughness is finally set to 0.1 S.例文帳に追加

スリット及びリップ表面は処理後ダイヤモンドペーストによるラッピング処理を行い最終的に表面粗度を0.1Sとした。 - 特許庁

The upper slit nozzle 11 and the lower slit nozzle 12 have respective slit portions formed to point in a direction perpendicular to the direction in which the substrates S are conveyed by the conveying rollers 4, the nozzles 11, 12 supplying a processing solution in the form of bands from the slit portions to the substrates S.例文帳に追加

上部スリットノズル11および下部スリットノズル12は、搬送ローラ4による基板Sの搬送方向と直交する方向に向けて形成されたスリット部を有し、このスリット部から基板Sのに向けて処理液を帯状に供給する。 - 特許庁

An image-processing device 14 performs the image processing of the image signal of the coil for generating slit light images, and deletes slit light image with an area of a given value or larger out of the slit light images since it contains noise, and outputs the others.例文帳に追加

画像処理装置14は、コイルの画像信号を画像処理してスリット光画像を生成し、そのスリット光画像の内、所定値以上の面積を持つスリット光画像をノイズが含まれているものとして削除し、それ以外のものは出力する。 - 特許庁

A shape operation means 16 finds the three-dimensional shape data of the slit light application part, based on the slit light image signal from the image-processing device 14.例文帳に追加

形状演算手段16は画像処理装置14からのスリット光画像号に基づいてそのスリット光照射部の3次元形状データを求める。 - 特許庁

A plurality of slit grooves 2 arranged in parallel in the same direction, are processed at a processing interval of at least two pitches or more from the adjacent slit grooves 2.例文帳に追加

同一方向に沿って平行に設ける複数のスリット溝2は,隣り合うスリット溝と少なくとも2ピッチ以上の加工間隔をあけて加工する。 - 特許庁

The accuracy of the application processing is improved by the small-sized slit nozzle with excellent working accuracy.例文帳に追加

小型で加工精度のよいスリットノズルによって塗布処理の精度を向上させることができる。 - 特許庁

The ion implantation apparatus is provided with an infrared camera 36 for measuring a temperature distribution of a region including a slit 26 of an analytic slit plate 24 to output temperature data D representing the temperature distribution and a data processing unit 38 for processing the temperature data D from the infrared camera 36 to measure the size of the slit 26 of the analytic slit plate 24.例文帳に追加

分析スリット板24のスリット26を含む領域の温度分布を測定して当該温度分布を表す温度データDを出力する赤外線カメラ36と、この赤外線カメラ36からの温度データDを処理して、分析スリット板24のスリット26の寸法を測定するデータ処理装置38とを設けた。 - 特許庁

Each small region of a liquid crystal slit layer 300 is provided under the light emitting layer 200, has two states; a light shield state and a transparent state, and a slit processing control section 122 controls formation of a slit 310.例文帳に追加

液晶スリット層300は発光層200の下に設けられ各小領域が遮光状態と透明状態の2状態を備え、スリット処理制御部122の制御によりスリット310を形成する。 - 特許庁

The photosensitive material processing method for applying the processing liquid through a slit to the photosensitive material by supplying the processing liquid to the slot die consisting of at least the slip and manifold consists in returning at least a portion of the processing liquid in the slit to the supply side of the processing liquid after the end of the coating application.例文帳に追加

少なくともスリットとマニホールドからなるスロットダイに処理液を供給して、前記スリットを介して感光材料に処理液を塗布する感光材料処理方法であって、塗布終了後前記スリット内部の処理液の少なくとも一部を前記処理液の供給側へ戻すことを特徴とする。 - 特許庁

In the case of performing secondary slit processing, the bar code is read out (S113) and a label based on the bar code is newly prepared and attached to the secondary slit-processed product (S119).例文帳に追加

二次スリットを行なう場合には、当該バーコードの読取が行なわれ(S113)、それに基づいたラベルが新たに作製され二次スリット後の製品に添付される(S119)。 - 特許庁

Carrying rollers 38 for horizontally carrying a paper P in processing liquid are installed in tanks, and a slit 106 is formed in a partition wall 104 between the tanks so that the paper P may pass through the slit 106.例文帳に追加

槽内にペーパーPを処理液内で水平に搬送する搬送ローラ38を設け、槽間の隔壁104にはペーパーPを通過させるスリット106を設ける。 - 特許庁

When slit processing is performed, the collected thickness and defect data are allocated to slit-processed product in accordance with the positions of the slits to decide quality (S107).例文帳に追加

スリット加工が行なわれると、そのスリットの部位に応じて収集された厚みおよび欠点データがスリット後の製品に割付けられ、品質の判定が行なわれる(S107)。 - 特許庁

Preliminary application processing is performed by applying resist liquid to a roller 71 of a spare applying member while making the slit nozzle 41 scan in the direction ((-X) direction) opposite to the scanning direction ((+X) direction) of the slit nozzle 41 in this application processing.例文帳に追加

本塗布処理におけるスリットノズル41の走査方向((+X)方向)とは逆方向((−X)方向)にスリットノズル41を走査させつつ、予備塗布部材であるローラ71にレジスト液を塗布して予備塗布処理を行う。 - 特許庁

The photosensitive material processing apparatus is a processing apparatus which applies a processing liquid dropping from a slit on the photosensitive material by using a slot die comprising at least the slit and a manifold and has a movable plane member capable of slanting to the upstream or downstream side in a processing direction at a position which is separate opposite the tip part of the slit.例文帳に追加

少なくともスリットとマニホールドからなるスロットダイを用いて、前記スリットより落下する処理液を感光材料に塗布する処理装置であって、前記スリットの先端部と対向し離間する位置に、処理方向に対して上流側もしくは下流側に傾斜することができる可動な平面部材を有することを特徴とする感光材料処理装置。 - 特許庁

The application processing is performed by applying the resist liquid to a substrate 90 while making the slit nozzle 41 scan in the direction (+X) which is normalized by the preliminary application processing.例文帳に追加

予備塗布処理により正常化されたスリットノズル41を(+X)方向に走査しつつ、基板90にレジスト液を塗布して本塗布処理を行う。 - 特許庁

The separation processing is applied to a signal outputted from a position sensitive detector (PSD) sensor, including the specified length (slit length) of a slit and the light receiving region length of the PSD sensor.例文帳に追加

PSDセンサの受光領域長だけでなく、スリットの所定の長さ(スリット長)をも含めて、前記PSDセンサから出力される信号の「分離処理」が行われるようにする。 - 特許庁

In a coating processing, the slit nozzle 42 which has been moved to a coating position is so pressed by fastening pads proceeding from the vibration suppressing units 46 as to fasten the slit nozzle 42 to the coupling brackets 45.例文帳に追加

塗布処理において、塗布位置に移動したスリットノズル42を振動抑制ユニット46から進出した固定パッドにより押圧して、スリットノズル42と連結ブラケット45とを固定する。 - 特許庁

To provide a sheet processing mechanism capable of improving operation efficiency so that a slit is put on a sheet in a product manufacturing line by changing setting values of slit conditions (length, position, and numbers).例文帳に追加

スリットの条件(長さ、位置、数)の設定値を変更して製品製造ライン内でスリットを入れることにより、作業効率を向上させることができるシート加工機構を提供する。 - 特許庁

The apparatus for processing which applies the processing solution falling from a slit to the photosensitive material by using the slot die consisting of at least the slit and a manifold has a plane member which can be driven in a horizontal direction in a position opposing to and parting from the front end of the slit.例文帳に追加

少なくともスリットとマニホールドからなるスロットダイを用いて、前記スリットより落下する処理液を感光材料に塗布する処理装置であって、前記スリットの先端部と対向し離間する位置に、水平方向に駆動可能な平面部材を有することを特徴とする感光材料処理装置。 - 特許庁

In this case, the jetting hole 13 can be constituted of a slit hole oriented in the width direction of the processing space 3.例文帳に追加

この場合、前記吹出し孔13を、処理空間3の幅方向に配向するスリット孔により構成してもよい。 - 特許庁

Only one piece of a circular saw 640 of 4 mm blade width is installed to a main axis head 610 of a slit processing machine 600.例文帳に追加

スリット加工機600の主軸ヘッド610には刃幅4mmの丸鋸640を1枚だけ装着しておく。 - 特許庁

The processing for the substrate is performed only when it is judged that the slit nozzle 41 is normal.例文帳に追加

基板処理装置では、スリットノズル41が正常であると判定された場合にのみ、基板に対する処理が行われる。 - 特許庁

A blade 160 made of an elastic body such as rubber, is attached to a slit formed in a partition wall between processing tanks.例文帳に追加

処理槽間の隔壁に形成されたスリットに、ゴム等の弾性体から形成されるブレード160を取り付ける。 - 特許庁

This blade 160 formed of an elastic body such as rubber is attached to a slit formed on a partition between processing tanks.例文帳に追加

処理槽間の隔壁に形成されたスリットに、ゴム等の弾性体から形成されるブレード160を取り付ける。 - 特許庁

To provide a yarn thread processing unit capable of easily conducting cleaning operation of a slit nozzle-type oil agent supply device, and capable of keeping performance essential to the slit nozzle-type oil agent supply device, by simple operation, and to provide a method for cleaning the yarn thread processing unit.例文帳に追加

スリットノズル型油剤供給装置の清掃作業が容易であり、簡易な作業で確実にスリットノズル型油剤供給装置本来の性能を維持することができる糸条処理装置及び糸条処理装置の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

Then, a comb-teeth electric discharge processing is carried out at locations including the groove 3 for a processing liquid by means of comb-like electrode 21 provided with two or more plate shaped protrusion electrodes 23 corresponding to the groove width of the slit 5 so as to form the slit 5 communicating with the introduction holes 4.例文帳に追加

そして、加工液用液溝3を含む位置に、スリット5の溝幅に対応する複数の板状の突起電極23が配設された櫛歯電極21により櫛歯放電加工を行い、導入孔4に連通させたスリット5を形成する。 - 特許庁

A circular arc-shaped and slit-like processing liquid discharge port 12 is formed on an under surface of this processing liquid supply nozzle 8, and the processing liquid 13 is supplied vertically downward in both end parts of the processing liquid discharge port 12 when discharging the processing liquid 13.例文帳に追加

この加工液供給ノズル8の下面には円弧形状でスリット状の加工液吐出口12が形成されており、加工液13を吐出した際に加工液吐出口12の両端部分で加工液13が鉛直下方に向けて供給される。 - 特許庁

In the guide slit formation processing, the O-ring 3 wound around the outside of an inner guide face 29 in an initial state is stored in a guide slit 36 between the outer guide face 25 and the inner guide face 29.例文帳に追加

ガイドスリット形成処理では、初期状態で内側ガイド面29の外側に巻回されたOリング3が、外側ガイド面25と内側ガイド面29との間のガイドスリット36内に収容される。 - 特許庁

Then, a wood W is sent to the slit processing machine 600, a main axis head 610 is raised and lowered while it is driven, and a slit S1 of a prescribed depth d2 is formed at one side corner of the depressed groove W1.例文帳に追加

次に、スリット加工機600へと木材Wを送り込み、そして、主軸ヘッド610を駆動しつつ昇降させ、凹溝W1の一方の隅に所定深さd2のスリットS1を形成する。 - 特許庁

On the same concentric circle, a bridge part 6 is disposed between opposite ends of the arc-shaped slit 5 as a non-slit part to easily integrally manufacture the stress relaxation plate 4 with press processing.例文帳に追加

そして同一円上において、弧状スリット5の両端間に非スリット部として橋部6を配置し、それによって応力緩和プレート4をプレス加工で容易に一体的に製作することができる。 - 特許庁

In addition, as the intersection point of the moist-heat adhesive fibers is strong, processing such as slit processing, which makes effective use of wet area per humidification element volume, can be easily performed.例文帳に追加

また、湿熱接着性繊維同士の交点が強固であるため、加湿エレメント体積当りの湿潤面積を有効利用するスリット加工などの加工が容易である。 - 特許庁

To provide a substrate developing apparatus having a slit nozzle which enables to shorten the processing time.例文帳に追加

スリットノズルを備えた基板現像装置であって、現像処理時間を短縮できるようにした基板現像装置を提供する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus includes mainly a stage 3, a lift pin LP, a bridge structure 4, a slit nozzle 41, and a nozzle lifting mechanism.例文帳に追加

基板処理装置は、主としてステージ3と、リフトピンLPと、架橋構造4と、スリットノズル41と、ノズル昇降機構とを備える。 - 特許庁

例文

EQUIPMENT FOR MANUFACTURING PROCESSING TUBE INCLUDING SLIT-TYPE PROCESS GAS INLET AND WASTE GAS EXHAUST OF POROUS STRUCTURE, AND EQUIPMENT FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

スリット型工程ガス引込み部と多孔構造の廃ガス排出部とを含む工程チューブ及び半導体素子の製造装置 - 特許庁




  
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