「step process」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing process of a semiconductor package comprises a step of punching out a part of the lead side region 13c of a molding 13 and a dam bar 20c using a receiving table 30 and a punch 31.例文帳に追加

半導体パッケージの製造方法は、モールドによって形成された封止体１３のリード側方領域１３ｃの一部とダムバー２０ｃとを、受け台３０とパンチ３１とを用いて打ち抜く工程を有している。 - 特許庁

When the copying of a copy-frequency limited file is detected (S331) by performing a process according to a flow shown in (B), 'download related data' are referred to and when the copying is not disabled (step S332), the file is copied.例文帳に追加

（Ｂ）に示すフローに従って処理を行い、コピー回数制限付ファイルのコピーの実行を検出すると（ステップＳ３３１）、「ダウンロード関連データ」を参照して、コピー不可能でない場合には（ステップＳ３３２）、コピーを実行する。 - 特許庁

A calcium concentration is adjusted by adding sodium carbonate or sodium hydrogen carbonate to white water circulated at a short term from a papermaking step to precipitate and remove calcium ion in the process water as calcium carbonate.例文帳に追加

製紙工程から短期循環される白水(white water)に炭酸ナトリウム或いは炭酸水素ナトリウムを加えて、工程水内のカルシウムイオンを炭酸カルシウムに沈澱させて除去することによりカルシウム濃度を調節する。 - 特許庁

Inside of a chamber is cleaned with the processing using plasma containing hydrogen (step S1) and processes such as formation of trench and via-hole are conducted by etching to a wafer using the chamber having completed the cleaning process (steps S2, S3).例文帳に追加

チャンバ内を水素を含むプラズマを用いて処理することによってクリーニングし（ステップＳ１）、クリーニングされたチャンバを用い、ウェーハにエッチングによりトレンチやビアホールを形成する等の加工を行う（ステップＳ２，Ｓ３）。 - 特許庁

This is attained by performing defatting and sintering processes of the binder in a vacuum sintering furnace as a single process (One-Step), and a device for forming a complicated shape by an insert (a placed core) and removing it by solvent.例文帳に追加

これらは、バインダーと真空焼結炉内でのプロセスである脱脂、焼結を一つの工程内（Ｏｎｅ−Ｓｔｅｐ）で行う事と、複雑な形状はインサート（置き中子）し、それを溶媒で除去する装置。 - 特許庁

A deposited metallic seed layer which is substantially free of discontinuity is obtained on a substrate by a process step including bringing of the metallic seed layer deposited on the substrate into contact with an alkaline copper electroplating bath containing copper pyrophosphate.例文帳に追加

基体上に堆積された金属シード層をピロリン酸銅を含むアルカリ性銅電気めっき浴と接触させることを含む工程により、基体上に実質的に不連続のない堆積された金属シード層を得る。 - 特許庁

The buffer membrane formed by using a polymer composition having the above composition has an ashing property to reduce the step for forming a pattern of a semiconductor element and a capacitor and maximize the process efficiency.例文帳に追加

このような組成を有する高分子組成物で形成されたバッファ膜は半導体素子のパターン及びキャパシタを形成する工程の縮小及び工程効率を極大化させることができるアッシング特性を有する。 - 特許庁

Even if the substrate W is broken during a processing step, it has only to transfer the tray and the broken substrate W thereon in or out of the processing apparatuses 30-34 without interrupting the process.例文帳に追加

仮に処理工程の途中で基板Ｗが破損したような場合であっても，割れた基板Ｗをトレー１，２ごと各処理装置３０〜３４に対して搬入，搬出すれば良く，工程を途中で中断しなくてすむ。 - 特許庁

The blending process management method even further includes a distinction step of distinguishing the blending material image associated with the read material information based on the association information when the material information is read by the reading part.例文帳に追加

また、読み取り部により材料情報が読み取られた場合に、読み取られた材料情報に関連付けられている調合材料画像を関連情報に基づいて判別する判別ステップを含んでいる。 - 特許庁

Then, in the backgrinding process of the step s6, the back on the opposite side of the surface where a semiconductor element 4 is formed in the silicon substrate 1 is ground, and grinding is stopped when a change in a grinding speed is detected.例文帳に追加

そして、ステップｓ６の裏面研削工程では、シリコン基板１における半導体素子４が形成される面とは反対側の裏面を研削し、研削速度の変化が検出された時点で研削加工を停止する。 - 特許庁

To provide a phosphorescent material having transparency and a film-like phosphorescent member having the transparency in an ordinary tacky adhesive working process step and to provide the phosphorescent member which may be made to emit light with a desired color.例文帳に追加

透明性を有する蓄光物及び通常の粘着加工の工程で透明性を有するフィルム状の蓄光部材を提供でき、且つ、所望の色で発光させることができる蓄光部材を提供する。 - 特許庁

To provide a composition suitable for producing an antireflection film which is developed simultaneously with a photoresist film in a developing step after exposure in a photolithography process and to provide a method for forming patterns in a semiconductor device using the same.例文帳に追加

フォトリソグラフィー工程時、露光後に現像工程でフォトレジスト膜と同時に現像される反射防止膜の製造に適した組成物及びこれを利用した半導体素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a W/O/W type pickering emulsion capable of preparing only by one step of emulsification process without using a surfactant and having high yield and simultaneously having an excellent long term stability.例文帳に追加

界面活性剤を使用するまでもなく、１段階の乳化工程のみでも調製することができ、しかも生成率が高く、同時に長期間の安定性にも優れたＷ／Ｏ／Ｗ型ピッケリングエマルションを提供する。 - 特許庁

To provide an image carrier which eliminates the step of charging at which ozone, NOx, etc., are generated, and which performs formation of an electrostatic latent image having high potential contrast, and to provide an image forming apparatus, a process cartridge and an image forming method.例文帳に追加

オゾン、窒素酸化物などの発生を引き起こす帯電行程をなくし、電位コントラストが大きい静電潜像形成を行なう像担持体、画像形成装置、プロセスカートリッジ及び画像形成方法を提供すること。 - 特許庁

Meanwhile, after the quartz plate 2 is transferred to a cleaning unit by the transfer mechanism and then cleaned (step S5: cleaning process), the quarts plate 2 is returned to a plate member cassette and then stored therein until the plate is re-used.例文帳に追加

一方、石英板２については、搬送機構によって洗浄ユニットに搬送されて洗浄された（ステップＳ５：洗浄処理）後、板状部材用カセットに戻され、次に再利用されるまで該カセット内で待機される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an aluminum alloy substrate for magnetic disks which does not degrade the yield of the substrate even if the sheet-metal board thickness of a coil after rolling increases in manufacturing of the aluminum alloy substrate and can reduce the cost of manufacturing the substrate by eliminating a process step for sorting the sheet-metal board thickness.例文帳に追加

アルミニウム合金基板の製造において、圧延後のコイルの板厚が厚くなっても、基板の歩留りを低下させない磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal panel including a correction step that attains an efficient process, without increasing takt time, even when a method excellent in correction operation is employed.例文帳に追加

修正操作性に優れた方法を採用した場合においても、タクトタイムを増大させることなく、効率的な処理を実現することが可能な修正工程を備えた液晶パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

The process for forming a color filter array layer on a transparent surface comprises the step of applying a water-borne solid-particle dispersion of randomly disposed colored beads of a water-immiscible synthetic polymer to the surface.例文帳に追加

水不混和性合成ポリマーのランダム配置された着色粒子の水性固体粒子分散物を、透明表面に適用する工程を含んでなる、透明表面上にカラーフィルターアレイ層を形成する方法。 - 特許庁

Following the step (b), an electrode pad disposed on the semiconductor chip 6 is connected to the upper surface of the thin wall 19 of each first lead 4a via a metal thin wire 9, thus executing the wire bonding process.例文帳に追加

工程（ｂ）の後、半導体チップ６に備えられた電極パッドと各第１のリード４ａとを金属細線９を介して、薄肉部１９の上面上でそれぞれ接続することで、ワイヤボンディング工程を行う。 - 特許庁

To provide a new process for large-scale production of monodisperse nanoparticles of metals, metal alloys, metal oxides and multi-metallic oxides from inexpensive nonpoisonous metal salts without any step of size selection.例文帳に追加

サイズの選択の工程なしに安価かつ無毒の金属塩から金属、金属合金、金属酸化物および複合金属酸化物の単分散ナノ粒子を大量に製造するための新しい方法の提供 - 特許庁

As enhancing governance is a long, enduring process, we believe it is essential to keep moving forward one step at a time, and never allows a reversal. We will keep a close eye on those steps patiently. 例文帳に追加

ガバナンスの向上への取り組みは大変時間がかかるものであり、我が国は、こういった努力を後戻りせず地道に一歩一歩づつ重ねていくことが重要であり、これを注意深く見守っていきたいと考えます。 - 財務省

To provide a lithography system, installed in an area smaller than that in the conventional case in a semiconductor manufacturing step and suitably and easily used, when a new process is introduced.例文帳に追加

従来の装置より比較的小さい面積に設置することができ、新規工程の導入時にも容易に適用させることができる新しい形態の半導体製造のためのフォトリソグラフィ装置を提供するものである。 - 特許庁

Firstly, in a first cleaning step, a SiN film/quartz etching-rate-selection ratio is increased by setting a temperature in the treatment chamber to 300°C to mainly remove the SiN film attached to the quartz memeber in the film forming process.例文帳に追加

まず、第１のクリーニング工程で、処理室内の温度を３００℃とすることで、ＳｉＮ膜／石英エッチングレート選択比を上げ、成膜工程において石英製部材に付着したＳｉＮ膜を主に除去する。 - 特許庁

When it is determined in a step S5 that the number n1 of sets of distance data exceeds the number Nr of sets of all distance data, it is determined that processing for object information detection is completed, and a process for replica signal creation is started.例文帳に追加

ステップＳ５で距離データの組数ｎ１が全距離データの組数Ｎｒを超えたと判定されると、対象物情報検出の処理が終了したと判定してレプリカ信号作成の処理に進む。 - 特許庁

The method for an organic thin film comprises a process step of giving energy to a reactive monomer to give a reaction solution containing a polymer of the reactive monomer and then forming a film using the reaction solution.例文帳に追加

反応性モノマーにエネルギー付与して、該反応性モノマーの重合体を含有する反応溶液を調製し、該反応溶液を用いて成膜する工程を有することを特徴とする有機薄膜の製造方法。 - 特許庁

To provide an efficient method and apparatus for ashing through a convenient arrangement wherein a stabilized discharge state can be realized under conditions of atmospheric pressure in the ashing step of a semiconductor production process.例文帳に追加

半導体製造工程におけるアッシング工程において、大気圧条件下で安定した放電状態を実現させることができ、簡便な装置でアッシングをすることができる効率的な方法及び装置の提供。 - 特許庁

In a biaxial orientation process, rolls 2 are arranged before longitudinal orientation of the first step, and the material of the sheet is improved by rolling so that the smoothness of the film is improved to improve the orientation properties of the sheet.例文帳に追加

２軸延伸工程において、第１段目の縦延伸工程の前に圧延ロール２を配置し、その圧延加工によりシートの材質を改良し、フィルムの平滑性がよくなり、後続の延伸性も向上する。 - 特許庁

If the ink droplets are not being discharged normally, the recording paper 3 is conveyed in reverse direction and print data for the defective printing mark is printed on the recording paper 3 as part of the interrupt process (step ST8, ST9).例文帳に追加

インク滴が正常に吐出されていない場合には、割り込み処理として、記録紙３を逆方向Ｂに搬送し、この記録紙３に印刷無効表示用印刷データの印刷を行う（ステップＳＴ８、ＳＴ９）。 - 特許庁

During the deposition step of the glass fine particles, the kind of the seal gas is switched to realize shortened manufacturing process, stable quality and reduced manufacturing cost of the porous glass preform.例文帳に追加

このとき、ガラス微粒子の堆積を行う工程中に、シールガスの種類を切り替えることにより、多孔質ガラス母材の作製工程の時間短縮と、品質の安定化、及び製造コストの削減を実現する。 - 特許庁

If it is determined to be before the guide point, the process controlling part carries out route cost computing for computing route costs necessary for reaching a destination via respective routes branched in the guide point (step S14).例文帳に追加

案内点の手前であると判別した場合、処理制御部は、案内点にて分岐する各経路を通り、目的地まで進行する場合における経路コストを算出する経路コスト算出処理を実行する（ステップＳ１４）。 - 特許庁

A basic information storing unit 40 stores a class of each basic information which is used for calculating required time period for manufacturing process sequentially in a hierarchy according to a progress step at the time point of calculating its required time period.例文帳に追加

基礎情報保持部４０は、製作工程の所要期間の計算に用いられる各基礎情報の種別を、所要期間の計算時における工程の進捗段階に応じた順序で階層化して保持する。 - 特許庁

The exterior repair method for a building comprises the step of forming the color matching coating 4 and the hard coating 5 in a single process on the whole surface of the exterior 2 after mixing the coating for executing the color matching coating 4 and the coating agent.例文帳に追加

色あわせの塗装４を行なう塗料と、コーティング剤とを混合して外装２表面全体に１工程で色あわせの塗装４と硬化皮膜５の形成とを行なう建物の外装補修方法。 - 特許庁

In the washing process, washing (steps S4, S7) of the inside of the heat exchanger by water discharge from the water discharge part is carried out at the timing different from that of the water supply into the water tank or the supply (step S5) of the agent for washing.例文帳に追加

洗い行程時に、水槽内への給水及び洗濯用剤の供給（ステップＳ５）とは異なるタイミングで、放水部からの放水による熱交換器内の洗浄（ステップＳ４，Ｓ７）を実行する。 - 特許庁

To provide a waste liquid treating method which is capable of easily and efficiency taking out a component 1, such as sodium sulfate and a component 2, such as sodium formate, from the waste liquid generated in a manufacturing process step for printed circuit boards, etc.例文帳に追加

プリント配線板等の製造工程などで発生した廃液より硫酸ソーダなどの成分１と、ギ酸ソーダなどの成分２を、容易かつ効率よく取り出すことができる廃液処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a glass cutter capable of suppressing the degradation in the yield in a glass cutting process step by preventing the rotation defect of wheel cutters in cutting glass substrates by using the wheel cutters, and a glass cutting method.例文帳に追加

ホイールカッターを用いてガラス基板を切断する際に、ホイールカッターの回転不良を防止し、ガラスの切断工程における歩留まり低下を抑制するガラス切断装置、及びガラス切断方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a silicon wafer comprises a step S5 for heat-treating a silicon wafer in atmospheric gas to form new holes internally wherein the surface roughness Ra of the silicon wafer is set at 0.1 μm or above prior to the heat treatment process.例文帳に追加

雰囲気ガス中でシリコンウェーハを熱処理して内部に新たに空孔を形成する熱処理工程Ｓ５を有し、該熱処理工程前に前記シリコンウェーハの表面粗さＲａを０．１μｍ以上にしておく。 - 特許庁

The process for forming a trench isolation region comprises a step for performing annealing in NO atmosphere at 850°C for about 30 min after a rounding oxide film is formed, wherein the interface level of the rounding oxide film is reduced through doping of N.例文帳に追加

この界面準位は、その後に形成するトランジスタのＰＮ接合と接するため、界面準位を介した逆バイアス時の接合リークを発生させ、電荷保持特性などの特性劣化の原因となっていた。 - 特許庁

Then, an enemy character to fight with, an item to be generated and the branching of a game scenario are controlled according to the value of the radio wave reception intensities stored in the storage area in the advancing process of the game (step S205 to S213).例文帳に追加

そして、ゲームの進行過程において、記憶領域に格納した電波受信強度の値に応じて対戦する敵キャラクタや発生させるアイテム、ゲームシナリオの分岐を制御する（ステップＳ２０５〜Ｓ２１３）。 - 特許庁

To provide gondolas for viewing in which a moving process is rich in changes and provides no wearisomeness to the last and occupants are able to view an exeedingly wide range and step down from the gondola even from a part of the way of moving.例文帳に追加

移動の行程が変化に富んで最後まで飽きることがなく、格段に広い範囲の景観を展望することができ、移動の途中でも搭乗者がゴンドラから降りることができる観覧車を提供する。 - 特許庁

To provide a method for stably producing a pigment dispersion with the pigment being in the form of microparticles even if the amount of a dispersant to be used is decreased in the synthetic step in a reprecipitation process, and to provide the pigment dispersion obtained by the method.例文帳に追加

再沈法における合成段階での分散剤の使用量を低下させても顔料微粒子分散体を安定に製造する方法、およびその製造方法により得られた顔料分散体を提供する。 - 特許庁

When output voltage Vo reaches optional threshold voltage in a step-up process of output voltage Vo, a control logic part 30 turns off all transistors 38 to 41 and makes output to be high impedance.例文帳に追加

そして、出力電圧Ｖｏの上昇過程において、出力電圧Ｖｏが任意のしきい値電圧まで到達したら、制御ロジック部３０は、トランジスタ３８〜４１をすべてＯＦＦして出力をハイインピーダンスにする。 - 特許庁

A reducing solution containing sulfite ions is applied to the surface of the layer 14 in a silver mirror post treating process step, by which hydroxy groups having an extremely high polarity are imparted to the surface of the layer 14.例文帳に追加

銀鏡後処理工程において、銀めっき層１４の表面に亜硫酸イオンを含む還元性溶液を塗布することで、同銀めっき層１４の表面に極めて極性の高いヒドロキシル基が付与される。 - 特許庁

The timing verification device reads a technology file 31 and extracts a dispersion coefficient for each cell on the basis of the condition of the manufacturing process of a semiconductor integrated circuit in dispersion coefficient extraction processing (step 21).例文帳に追加

タイミング検証装置は、ばらつき係数抽出処理（ステップ２１）において、テクノロジファイル３１を読み込み、半導体集積回路の製造プロセスの条件に基づき、セル毎のばらつき係数を抽出する。 - 特許庁

The mask patterns of the photomask used in patterning wiring patterns by the photolithography process step are subjected to correction of the mask patterns by dividing the photomask to ≥2 regions and determining correction parameters by each of the respective regions.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程により配線パターンをパターニングする際に使用するフォトマスクのマスクパターンについては、フォトマスクを２以上の領域に分割し、各領域毎に補正パラメータを求めてマスクパターンの補正を行う。 - 特許庁

To provide a method for efficiently manufacturing a porous film by a simple and safe process without including reaction steps such as a polymerization step and without using a large amount of organic solvents.例文帳に追加

重合反応などの反応工程を含まず、大量の有機溶剤を用いることなく、安全性が高く、簡易な工程により、効率よく多孔質フィルムを製造し得る多孔質フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁