「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(779ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a water-dispersed pressure-sensitive adhesive composition having high adhesion to a glass substrate, and also having high thermal resistance and moisture resistance, a pressure-sensitive adhesive optical film provided with a pressure-sensitive adhesive layer comprising the water-dispersed pressure-sensitive adhesive composition, and a liquid crystal display to which the pressure-sensitive adhesive optical film is pasted.例文帳に追加

ガラス基板に対する高い接着性を有するとともに、高い耐熱性や耐湿性をも有する、水分散型粘着剤組成物、および、その水分散型粘着剤組成物からなる粘着剤層を備える粘着型光学フィルム、ならびに、その粘着型光学フィルムが貼着された液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

In a semiconductor device, a first wiring layer 20 disposed at a position closest to a semiconductor substrate 10 includes first source wiring 21 electrically connected to a source region 15 of a semiconductor element, first drain wiring 22 electrically connected to a drain region 12 of the semiconductor element, and a relay portion 23 electrically connected to a gate electrode 17.例文帳に追加

もっとも半導体基板１０側に位置する第１配線層２０は、半導体素子のソース領域１５に電気的に接続された第１ソース配線２１と、半導体素子のドレイン領域１２に電気的に接続された第１ドレイン配線２２と、ゲート電極１７に電気的に接続された中継部２３とを備えている。 - 特許庁

In the perpendicular magnetic recording medium including at least the underlayer and the magnetic recording layer sequentially laminated on a nonmagnetic substrate, the underlayer is composed of crystal grains and an amorphous grain boundary and the crystal grain has a shape holding a relation (an area of a bottom region at an initial stage of growth)>(an area of a top region).例文帳に追加

非磁性基体上に少なくとも下地層および磁気記録層が順次積層されてなる垂直磁気記録媒体であって、前記下地層は結晶粒子と非晶質結晶粒界とからなり、該結晶粒子が、（成長初期の底面積）＞（上部の面積）である形状を有することを特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 特許庁

This packing material is characterized in that a substrate ink layer formed with ink containing titanium oxide pigment of 15 to 50 wt.%, resin binder of 5 to 50 wt.% and a solvent as a residual to whole 100 wt.% on an at least a part of the plastic film, and after that, a water-color ink receptor of hydrofilic polymer is provided on the surface.例文帳に追加

プラスチックフィルムの少なくとも一部に、酸化チタン顔料１５〜５０重量％、樹脂バインダー５〜５０重量％及び全体で１００重量％になる量の溶剤からなるインキにより下地インキ層を形成し、その表面に親水性ポリマーからなる水性インキ受容層を設けたことを特徴とするプラスチック包装材料。 - 特許庁

An input strip line 1 and an output strip line 2 are formed on a first conductor layer of a multilayer substrate, and an input open stab 9 and an output open stab 10 are formed which are disposed proximately while confronting their side surfaces and connected to another end of the input strip line 1 or the output strip line 2 each of which one end corresponds to each other.例文帳に追加

多層基板の第１導体層に入力ストリップライン１及び出力ストリップライン２を形成すると共に側面を対向させて近接配置され各々の一端が対応する入力ストリップライン１又は出力ストリップライン２の他端に接続された入力オープンスタブ９及び出力オープンスタブ１０を形成した。 - 特許庁

In a manufacturing method for the SOI high-voltage transistor 200, a control channel region 208 and an auxiliary channel region 210 adjacent to the control channel region 208 are formed in an Si upper layer 206 of an SOI substrate 201, and a control gate 220 is formed on the control channel region 208 and an auxiliary gate 222 on the auxiliary channel region 210.例文帳に追加

本発明に係るＳＯＩ高電圧トランジスタ２００の製造方法においては、ＳＯＩ基板２０１のＳｉ上部層２０６に、制御チャネル領域２０８及びこれに近接する補助チャネル領域２１０を形成し、制御チャネル領域２０８上に制御ゲート２２０と、補助チャネル領域２１０上に補助ゲート２２２とを形成する。 - 特許庁

The substrate 11 also comprises: on the other surface, a second electrode 15a as well as a second terminal 15d; second wiring 15b and 15c connecting the second electrode 15a and the second terminal 15d; a second insulation protection membrane 16 covering the second electrode 15a; and a second corrosion layer 17 arranged on the second insulation protection membrane 16.例文帳に追加

また、基板１１の他方の面上には、第２の電極１５ａ及び第２の端子１５ｄと、第２の電極１５ａと第２の端子１５ｄとの間を接続する第２の配線１５ｂ，１５ｃと、第２の電極１５ａを覆う第２の絶縁保護膜１６と、第２の絶縁保護膜１６上に配置された第２の腐食層１７とを有する。 - 特許庁

The thin film inductor 100 is formed by individualizing a plurality of unit structures on a wafer by dicing, and includes a coil 22 formed to be embedded in an insulation layer 20 and wound around the protrusion 11 on an annular groove 12 of a magnetic substrate W having the protrusion 11 projected on an in-plane center part.例文帳に追加

薄膜インダクタ１００は、ウェハ上に複数形成された単位構造がダイシングによって個片化されたものであり、面内中央部に突起部１１が突設された磁性基板Ｗの環状の溝部１２上に、絶縁層２０内に埋め込まれるように、かつ、突起部１１の周囲を巻回するように設けられたコイル２２が形成されたものである。 - 特許庁

The resistive memory device includes a first conductive line 11 on a substrate, the vertical selection diode 12 comprising a nanowire or a nanotube and being arranged over the first conductive line 11, a resistive element 13 including a resistive layer 13B arranged over the vertical selection diode 12; and a second conductive line 14 arranged over the resistive element 13.例文帳に追加

本発明の抵抗性メモリ素子は、基板上の第１導電配線１１と、該第１導電配線１１上に位置し、ナノワイヤまたはナノチューブからなる垂直選択ダイオード１２と、該垂直選択ダイオード１２上に位置し、抵抗層１３Ｂを備える抵抗要素１３と、該抵抗要素１３上の第２導電配線１４とを備える。 - 特許庁

In the inkjet recording medium provided with at least two coating layers prepared by coating at least one face of a substrate with a coating liquid comprising a pigment and a binder, the coating liquid for the undermost coating layer contains at least a cold water-soluble starch and a synthetic resin binder at a mass ratio of 1/5-3/1.例文帳に追加

支持体の少なくとも片面に、顔料と結着剤とを含有する塗工液を塗工してなる塗工層を少なくとも２層以上設けたインクジェット記録媒体であって、最下層の塗工層用の塗工液は結着剤として少なくとも冷水可溶デンプンと合成樹脂バインダーとを１／５〜３／１の質量割合で含有する。 - 特許庁

This anisotropic conductive adhesive film is an adhesive film in which the conductive particles are spread, fixed and concentrated with a flow of air on the surface layer of an insulating adhesive agent formed on the exfoliative film substrate, uniformly arranged within 8 μm from the surface of the insulating adhesive agent, and embedded with the insulating adhesive agent.例文帳に追加

剥離性フィルム基材上に形成した絶縁性接着剤の表面層に、導電性粒子をエアの流れと共に散布し固定して集中させ、前記導電性粒子は絶縁性接着剤の表面から８μｍ以内に均一配置して存在し、前記導電性粒子は絶縁性接着剤により埋め込まれてなる異方導電性接着フィルム。 - 特許庁

The powder or fine particles of the polyolefin resin comprising a nitrogen-containing foaming agent and a foaming auxiliary directly or a low foamed thin sheet subjected to heat molding beforehand is laminated on a metallic substrate like a steel plate heated at a high temperature and further, a polyolefin resin powder or a previously heat-molded thin sheet is laminated on the polyolefin layer comprising the foaming agent.例文帳に追加

窒素系発泡剤および発泡助剤を配合したポリオレフィン樹脂の粉末または細粒を直接あるいは予め加熱成型した低発泡薄板を、高温に加熱した鉄板等の金属基材に積層し、さらに発泡剤を配合したポリオレフィン層の上にポリオレフィン樹脂の粉末または予め加熱成型した薄板を積層する。 - 特許庁

With the samples A, B placed inside the medium layer 130, the traveling-wave electrodes 160 are addressed via such means as buses 140 or vias 170, to apply at least one kind of appropriate electrical signal to the traveling-wave electrodes 160 so as to allow the samples A, B to move freely from a certain position on the substrate 110 to another position.例文帳に追加

媒体層１３０内に標本Ａ，Ｂが入っている状態で、バス１４０やビア１７０等の手段を介し進行波電極１６０にアドレスして少なくとも一種類の適切な電気信号を進行波電極１６０に印加すると、基板１１０上のある位置から別の位置へとその標本Ａ，Ｂが随意に移動する。 - 特許庁

The production method of a silicon wafer comprises at least growing a silicon single crystal bar by Chokralski method, slicing the silicon single crystal bar to silicon single crystal substrates, and thereafter, implanting an element on the whole surface of the silicon single crystal substrate opposite to the surface thereof on which devices are formed, to form the strain layer.例文帳に追加

シリコンウェーハの製造方法であって、少なくとも、チョクラルスキー法によってシリコン単結晶棒を育成し、該シリコン単結晶棒をスライスしてシリコン単結晶基板に加工した後、該シリコン単結晶基板の素子が形成される面とは反対の面の全面に元素の注入を行って歪み層を形成することを特徴とするシリコンウェーハの製造方法。 - 特許庁

When the heat developable photosensitive material with a photosensitive layer containing a non-photosensitive organic silver salt, photosensitive silver halide grains and a reducing agent on the substrate is produced, photosensitive silver halide grains spectrally sensitized with an infrared spectral sensitizing dye are mixed in the formation of the non-photosensitive organic silver salt.例文帳に追加

支持体上に非感光性有機銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子および還元剤を含有する感光層を有する熱現像感光材料の製造方法において、赤外分光増感色素により分光増感した感光性ハロゲン化銀粒子を非感光性有機銀塩形成中に混合することを特徴とする熱現像感光材料の製造方法。 - 特許庁

A metal thin film 110 is formed on the back face 1b with the irregularity formed thereon, and thereafter a drain electrode 11 including a silicide layer 111 is formed by irradiating the back face 1b side of the n^+ type substrate 1 with laser light in a condition where the product of photon energy and laser output is set to 1,000-8,000 eV mJ/cm^2.例文帳に追加

そして、凹凸が形成された裏面１ｂ上に金属薄膜１１０を形成した後、ｎ^+型基板１の裏面１ｂ側に光子エネルギーとレーザ出力の積が１０００ｅＶ・ｍＪ／ｃｍ^2以上かつ８０００ｅＶ・ｍＪ／ｃｍ^2以下となるような条件でレーザ光を照射することでシリサイド層１１１を含むドレイン電極１１を形成する。 - 特許庁

A method of manufacturing a wafer processing apparatus comprises: a step of depositing a film electrode onto the surface of a base substrate; and a step of overcoating the structure with a protective coating film layer comprising at least one of a nitride, a carbide, a carbonitride, and an oxynitride of elements selected from a group consisting of B, Al, Si, Ga, refractory hard metals, transition metals, and combinations thereof.例文帳に追加

ウェーハ加工装置の製造に当たり、ベース基板の表面上にフィルム電極を堆積し、この構造を次にＢ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇａ、高融点硬金属、遷移金属及びこれらの組合せからなる群から選択される元素の窒化物、炭化物、炭窒化物及び酸窒化物の少なくとも１種を含んでなる保護コーティングフィルム層で被覆する。 - 特許庁

A plurality of layers of SiC films 12a-12e for protecting the surface of the jig for heat treatment are formed by a method wherein the plurality of layers of SiC films 12a-12e are formed on the substrate 11 of the jig for heat treatment through CVD (chemical vapor deposition) method employing a CVD furnace different for each one layer.例文帳に追加

熱処理用治具の表面に、該表面を保護するための複数層のＳｉＣ膜１２ａ〜１２ｅを形成する方法であって、ＣＶＤ法により熱処理用治具の基材１１上に複数層のＳｉＣ膜１２ａ〜１２ｅを形成し、該複数層のＳｉＣ膜１２ａ〜１２ｅを、１層毎に異なるＣＶＤ炉を用いて形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer ceramic substrate adapted to continue to use a pedestal sheet as it is, which has been used to fix a ceramic green sheet of a lowest layer to a pedestal in a stacking step, until a cutting step finishes, while ensuring a stacking stability of the ceramic green sheet in the stacking step and a cutting stability of a stack in the cutting step.例文帳に追加

多層セラミック基板の製造方法において、積層工程におけるセラミックグリーンシートの積層安定性及び切断工程における積層体の切断安定性を確保しつつ、積層工程で最下層のセラミックグリーンシートを台座に固定するために用いた台座シートを切断工程が完了するまでそのまま用い続けるようにする。 - 特許庁

First, a substrate 13 is covered with a protecting film 14 formed of alkali earth metal oxide, alkali earth metal composite oxide, rare earth metal oxide or composite oxide composed of alkali earth metal and rare earth metal, followed by surface treatment with a gaseous fruorinating agent, thereby forming a fluoride layer 15 on the protecting film 14.例文帳に追加

先ず基板１３の表面にアルカリ土類金属酸化物，アルカリ土類金属複合酸化物，希土類金属酸化物，又はアルカリ土類金属及び希土類金属の複合酸化物からなる保護膜１４を形成し、この保護膜１４をガス状フッ素化剤にて表面処理することにより保護膜１４の表面にフッ化物層１５を形成する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which has high radiation sensitivity and sufficiently high resolution, excels in adhesion to a substrate, a base or an upper layer, suppresses generation of a sublimate during baking in a film forming process, ensures a large development margin, and can be suitably used for forming an interlayer insulation film or microlenses.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、解像度が十分に高く、基板もしくは下地または上層との密着性に優れ、膜形成工程の焼成時における昇華物の発生が抑制され、且つ現像マージンが大きく、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適に使用できる感放射線樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The semiconductor laser element manufacturing method has a first step in which a striped ridge structure 8, 9 is formed to the upper part of a laminated structure, including an active layer 5 formed on a substrate 1, and a second step for forming a Schottky barrier SB on the upper face of the laminated structure, other than the ridge structure 8, 9 by utilizing ion bombardment.例文帳に追加

本発明に係る半導体レーザ素子の製造方法は、基板１上に形成された活性層５を含む積層構造の上部に、ストライプ状のリッジ構造８、９を形成する第１工程と、イオン衝撃を利用してリッジ構造８、９以外の積層構造の上面にショットキーバリアＳＢを形成する第２工程とを有する。 - 特許庁

On the first active region 10a of a semiconductor substrate 10, a first transistor of the first conductive type is formed including: a first gate insulation film 13a containing a high-dielectric material and a first metal; and a first gate electrode 30a having a lower layer conductive film 15a, a first conductive film 18a and a first silicone film 19a.例文帳に追加

半導体基板１０の第１の活性領域１０ａ上には、高誘電体材料と第１の金属とを含有する第１のゲート絶縁膜１３ａと、下層導電膜１５ａと第１の導電膜１８ａと第１のシリコン膜１９ａとを有する第１のゲート電極３０ａとを備えた第１導電型の第１のトランジスタが形成されている。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet taking a plastic or paper as a substrate, easily peeling off from bonded materials at directly after the pasting with the various bonded materials but showing a strong bonding property after passing a suitable time through, and an emulsion type adhesive used preferably for forming the adhesive layer of such the adhesive sheet.例文帳に追加

本発明は、プラスチックや紙などを基材とする粘着シートにおいて、各種被着体に貼り合わせ直後においては被着体から容易に剥離でき、適度な時間経過後においては強力な接着性を示す粘着シートおよび該粘着シートの粘着剤層の形成に好ましく用いられ得るエマルジョン型粘着剤を提供することを目的とする。 - 特許庁

The semiconductor chip with the coating film obtained by applying the sealing resin composition on the surface provided with the solder bump of a semiconductor wafer provided with the solder bump by a spin coating method to make a B-stage, and cutting the semiconductor wafer into individual pieces, is flip chip-mounted on the substrate through the solder bump, thereby the sealing resin layer is formed by the applied film.例文帳に追加

当該封止樹脂層は、半田バンプを備えた半導体ウェハーの該半田バンプを備えた表面上にスピンコート法により塗布しＢ−ステージ化し、当該半導体ウェハーを個片化することにより得られる塗布膜付き半導体チップを、半田バンプを介して基板にフリップチップ実装することにより該塗布膜から形成される。 - 特許庁

The liquid crystal display is equipped with: a liquid crystal panel produced by laminating first and second substrates each having a display region and a non-display area, with a liquid crystal interposed therebetween; and a thermally conductive layer (163) formed on one substrate (242) of the first and second substrates so as to prevent the liquid crystal from being cooled.例文帳に追加

本発明の液晶表示装置は表示領域と非表示領域を有する第１及び第２基板が液晶を間に置いて合着された液晶パネルと、第１及び第２基板の中のいずれか一つの基板（２４２）の上に形成されて前記液晶の冷却を防ぐための熱伝導層（１６３）を具備することを特徴とする。 - 特許庁

Between layers of the second TFT90 and the transparent substrate 2, a dielectric multilayer film 30 for constituting a light resonance device 3 is formed, and between the layers of dielectric multilayer film 30 and the pixel electrode 4, the interlayer-insulating film 5 at an area flatly superposed on the light emitting layer 65, a gate-insulating film 92, and the insulation-protecting film 20 are removed.例文帳に追加

第２のＴＦＴ９０と透明基板２との層間に、光共振器３を構成する誘電体多層膜３０が形成され、誘電体多層膜３０と画素電極４との層間では、発光層６５と平面的に重なる領域の層間絶縁膜５、ゲート絶縁膜９２および絶縁保護膜２０が除去されている。 - 特許庁

To provide a photosensitive image forming material which is used for a method for forming an image by eliminating an unexposed part on a printing machine, after a photosensitive layer formed on a substrate is exposed to light in an imaging manner, which is excellent in printing resistance, and which is excellent in image reproducibility by virtue of the absence of a stain on a non-image part.例文帳に追加

支持体上に形成された感光層を画像様に露光した後、印刷機上にて未露光部を除去することによって画像形成する方法に用いられる感光性画像形成材料であって、耐刷力に優れ、しかも非画像部の汚れがなく画像再現性に優れた感光性画像形成材料を提供する。 - 特許庁

The semiconductor substrate which has the initial thickness (first thickness) has only the element formation portion made thin to a second thickness and after a metal layer is formed on its backside, the initial peripheral part which still has the initial thickness (first thickness) of the semiconductor device is ground from the backside to a third thickness to form a peripheral portion which has a small step with the element formation portion.例文帳に追加

初期の厚み（第１の厚み）を有する半導体基板の、素子形成部のみを第２の厚みまで薄化し、その裏面に金属層を形成した後、初期の半導体基板の厚み（第１の厚み）を残した初期周辺部を裏面側から第３の厚みになるまで研削し、素子形成部との段差が少ない周辺部を形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for elaborately shaping a resist pattern after developed, removing a residue of the resist, forming a permanent pattern such as a wiring pattern with high definition and high efficiency, and achieving high resolution and high adhesiveness between a substrate and a photosensitive layer without causing chipping, peeling or swelling in a crosslinked portion (cured film) of the resist.例文帳に追加

現像後のレジストパターンの整形を精巧に行って、かつレジストの残渣を除去し、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能とし、しかも、レジストの架橋部（硬化膜）に欠けや剥離、膨潤などを生じることなく、高い解像度と基体と感光層との密着性とを高度に両立したパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming interlayer connection structure by which a metallic layer having a uniform thickness and an interlayer connection material having a uniform height can be formed easily and inexpensively on a core substrate, double-sided wiring board for lamination, etc., with high connection reliability, and to provide an interlayer connection structure and a multilayered wiring board formed by the method.例文帳に追加

コア基板や積層用両面配線基板などに対し、簡易かつ低コストに、厚みが均一な金属層と高さの均一な層間接続体とを形成することができ、しかも接続の信頼性が高い層間接続構造の形成方法、及び当該方法で形成された層間接続構造及び多層配線基板を提供する。 - 特許庁

A III-nitride semiconductor light emitting device includes: a plurality of III-nitride semiconductor layers including an active layer 40 for generating light by recombination of electrons and holes; and a substrate 10 used to grow the plurality of III-nitride semiconductor layers and including a protrusion 90 with two opposite sides 91 rounded.例文帳に追加

電子と正孔の再結合により光を生成する活性層４０を備える複数個のIII族窒化物半導体層と、複数個のIII族窒化物半導体層の成長に利用される基板１０として、対向する２つの辺９１が丸められている突起９０を有する基板１０とを備えるIII族窒化物半導体発光素子を提供する。 - 特許庁

The low-resistance corona-prevention tape 18 is integrally formed of a substrate 23 and of a composite body layer 25 which comprises an organic inorganic hybrid material 21 obtained by subjecting a metal alkoxide to hydrolysis and carrying out dehydration using the metal alkoxide as a starting material and conductive particles 22 such as carbon black or the like combined therewith.例文帳に追加

本発明の低抵抗コロナ防止テープ１８は、金属アルコキシドを出発原料としてこれを加水分解及び脱水反応させることにより得られた有機無機ハイブリッド材料２１とカーボンブラックなどの導電性粒子２２とを複合して構成された複合体層２５が、基材２３と一体化されて形成されている。 - 特許庁

In the semiconductor device comprising a semiconductor element, wiring for inputting/outputting signals, and a heat dissipating plate, the heat dissipating plate is made of a composite material of Cu and at least one kind of particles of Cu2O, Al2O3 and SiO2 and a metal layer bonded to an insulating substrate or the semiconductor element is bonded directly to the heat dissipating plate.例文帳に追加

半導体素子と、信号を入出力する配線と、放熱板とを有する半導体装置において、前記放熱板はＣｕとＣｕ_2Ｏ，Ａｌ_2Ｏ_3及びＳｉＯ_2の少なくとも１種の粒子との複合材であり、絶縁基板に接合されている金属層、あるいは半導体素子に接合されている金属層は放熱板と直接接合されている。 - 特許庁

An Ellipsometer is arranged in the orienter chamber 55 and by measuring the thickness of ion implemented region (amorphous layer) in a substrate or the thickness of the formed film without exposing a wafer to the atmosphere outside a manufacturing device until a series of processes such as film forming, annealing, and etching is completed, the management of the condition setting of the next process etc. is made possible.例文帳に追加

オリエンターチャンバ５５にエリプソメータが配設され、成膜，アニール，エッチング等の一連のプロセスが終了するまでウエハを製造装置外の大気にさらすことなく、基板内のイオン注入領域（アモルファス層）の厚みや、成膜した膜の厚みなどをエリプソメータにより測定することで、次の処理の条件設定などの管理が可能となる。 - 特許庁

The record eraser 14 comprises a heater 32 disposed at position Xo for discoloring the reversible thermal recording layer 3, and a heater substrate 33 disposed on the upstream side in the carrying direction of the heater 32 with respect to the carrying direction of the recording medium 1 and preheating the recording medium 1 using the heater 32 as a heat source.例文帳に追加

そして、前記記録消去装置１４を、可逆性感熱記録層３を消色する記録消去位置Ｘｏに設けられた加熱ヒータ３２と、記録媒体１の搬送方向に対し加熱ヒータ３２の搬送方向上流側に配設されると共に、この加熱ヒータ３２を熱源として記録媒体１に予備加熱を行なうヒータ基板３３とを設ける。 - 特許庁

Also, a high frequency circuit element 2 is mounted on one grounding conductor on the outermost side of a multilayer substrate 1, a power source/control circuit element 3 is mounted on a position facing the high frequency circuit element on the other grounding conductor, and the power source/control circuits are intensively arranged inside the layer of the dielectric at a part held between the two elements.例文帳に追加

また、多層基板１の最も外側にある一方の接地導体上に高周波回路素子２を実装し、他方の接地導体上には高周波回路素子と対向した位置に電源・制御回路素子３を実装し、これら２つの素子に挟まれた部位の誘電体の層内に、電源・制御回路を集中して配置する。 - 特許庁

The flame-retardant adhesive tape is obtained by providing at least one side of a substrate with an adhesive layer composed of a flame-retardant adhesive composition prepared by adding 20-300 parts by mass of a phosphoric acid ester-based flame retardant and a nitrogen-containing phosphate compound-based flame retardant to 100 parts by mass of an adhesive base polymer without intentionally adding a halogen compound and an antimony compound.例文帳に追加

基材の少なくとも片面に、粘着剤ベースポリマー１００質量部に対して、ハロゲン化合物及びアンチモン化合物いずれをも意図的に添加せず、リン酸エステル系難燃剤と窒素含有リン酸塩化合物系難燃剤２０〜３００質量部を添加した難燃性粘着剤組成物からなる粘着剤層を設けてなる難燃性粘着テープ。 - 特許庁

In a counter substrate 20 of the transflective liquid crystal device 100, a color filter 241 for transmissive display which is thin and has a wide chromaticity region is formed on a transmissive display region 100c of the lower layer side of a counter electrode 21, and a color filter 242 for reflective display which is thick and has a narrow chromaticity region is formed on a reflective display region 100b.例文帳に追加

半透過反射型液晶装置１００の対向基板１０では、対向電極２１の下層側のうち、透過表示領域１００ｃには薄くて色度域の広い透過表示用カラーフィルタ２４１を形成し、反射表示領域１００ｂには厚くて色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ２４２を形成する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a glazed substrate in which a glazed layer 2 is formed on a ceramic base 1 and in addition, a resist film 3 with a specified pattern is formed thereon and after an etching treatment, the resist film 3 is removed, by spraying sodium bicarbonate particles with a particle diameter of at most 250 μm with at least a pressurized liquid from a nozzle 5.例文帳に追加

セラミック基板１上にグレーズ層２を形成し、さらにその上に所定パターンのレジスト膜３を形成して、エッチング処理後にレジスト膜３を除去するグレーズ基板の製造方法において、ノズル５から粒子径が２５０μｍ以下の炭酸水素ナトリウム粒子を少なくとも加圧液体と共に吹付けてレジスト膜３を除去する。 - 特許庁

The adhesive tape for protecting an electrode plate, which includes an adhesive layer at least one side of a substrate, has a piercing resistance of 300 gf mm or more and a heat shrinkage ratio of 1.0% or less in both of TD (width) direction and MD (length) direction when heat is applied at 260 °C for 1 hour.例文帳に追加

本発明の極板保護用粘着テープは、基材の少なくとも一方の面に粘着剤層を有する極板保護用粘着テープであって、突き刺し耐性が３００ｇｆ・ｍｍ以上であり、且つ、２６０℃、１時間加熱した際の収縮率が、ＴＤ（巾）方向収縮率、ＭＤ（長さ）方向収縮率共に、１．０％以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To obtain a curable composition excellent in coating properties and capable of forming on the surface of various substrates a coating film having a high hardness and a high refractive index and excellent in scratch resistance as well as in adhesion to a substrate and a low-refractive-index layer, a cured product thereof and a laminate having a low reflectance and excellent in chemical resistance.例文帳に追加

優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、高硬度及び高屈折率を有するとともに耐擦傷性並びに基材及び低屈折率層との密着性に優れた塗膜（被膜）を形成し得る硬化性組成物、その硬化物、並びに低反射率を有するとともに耐薬品性に優れた積層体を提供する。 - 特許庁

The high dielectric constant gate insulating film 3 has a first region 3a sectioned from the source layer 6 side end to the upper part of the channel region 2 while spaced apart from the semiconductor substrate 1, and a second region 3b other than the first region 3a wherein the atomic density of metal element in the first region 3a is higher than that in the second region 3b.例文帳に追加

この高誘電率ゲート絶縁膜３は、半導体基板１から離隔しつつソース層６側の端からチャネル領域２上方まで区画された第１領域３ａとこの第１領域３ａ以外の第２領域３ｂとを有し、第１領域３ａ内の金属元素の原子濃度が、第２領域３ｂ内の金属元素の原子濃度よりも高い。 - 特許庁

A stripe width which is at least in a ridge shape is provided directly below and in parallel with a stripe 201, at least in a ridge shape of the reverse side of a nitride semiconductor substrate 5 at the side opposite to a side with element structure, and a light absorbable film 202 for absorbing light with a laser oscillation wavelength which leaked out from a laser waveguide including an active layer is formed.例文帳に追加

素子構造を有する側とは反対の窒化物半導体基板５裏面の少なくともリッジ形状のストライプ２０１の真下であって且つ平行に、少なくともリッジ形状のストライプ幅を有し、活性層を含むレーザ導波路から漏れ出したレーザ発振波長の光を吸収できる光吸収膜２０２が形成されてなる。 - 特許庁

The thickness of a film material for use in a recording layer oriented to BCA data or close to the inner periphery of the storage medium in the vicinity thereof is formed in uniform thickness by using a substrate of the storage medium formed by being sucked by means of sucking mechanisms 71 and 72 formed in an arc shape so as to integrate two of the sucking mechanisms adjacent to each other.例文帳に追加

この発明は、ＢＣＡデータ向けあるいはその近傍の記憶媒体の内周寄りの記録層に用いられる膜材料の厚みが、互いに隣接する２つを一体化するように、円弧状とした吸着機構７１，７２により吸引されて形成された記憶媒体の基材を用いることにより均一な厚みに形成される。 - 特許庁