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substrate layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 39497件
A silicon layer 22(22s and 22d) wherein a single crystal silicon is crystal-grown by touching a silicon-contained metal molten liquid is provided on a p-well region 13 where one component (source region, drain region of silicon of a semiconductor element (MOS transistor 1) formed on a silicon substrate 11 is formed, with a source region 17 and a drain region 18 formed thick.例文帳に追加
シリコン基板11に形成した半導体素子(MOSトランジスタ1)のシリコンからなる一構成部品(ソース領域、ドレイン領域)が形成されるpウエル領域13上に、シリコン含有金属溶融液を接触させることで単結晶シリコンを結晶成長させたシリコン層22(22s、22d)を設け、ソース領域17、ドレイン領域18を厚く形成したものである。 - 特許庁
In an electrolytic cell for producing metallic foil in which an electrode obtained by providing the surface of an electrically conductive substrate with a coating layer containing iridium oxide is used as an anode, and objective metal is precipitated over the surface of a cathode face, strontium carbonate is added to an electrolytic solution to be fed, and formed precipitation is removed away to reduce the concentration of lead ions in the electrolytic solution to ≤10 ppm.例文帳に追加
導電性基体上に酸化イリジウムを含む被覆層が設けられた電極を陽極として使用し、陰極面上に目的とする金属を析出させる金属箔製造用の電解槽において、供給する電解液に炭酸ストロンチウムを添加し、生成する沈殿を除去することにより電解液中の鉛イオン濃度を10ppm以下に低減する。 - 特許庁
A mat substrate 2, a heated thermoplastic resin sheet member 3 as a middle layer, and a sheet shape foam body 4 are supplied in between an embossing roll with a number of recess parts for forming projections 7 and a receiver roll so that the foam body 4 is in contact with the embossing roll and pressed and adhered to form a number of projections 1 projected into the foam body 4.例文帳に追加
マット基材2と加熱された熱可塑性樹脂のシート部材3とシート状の発泡体4とを、突起7を形成するための多数の凹部を設けたエンボスロールと受け用ロールとの間に、シート部材3を中間層とし、発泡体4がエンボスロールに接するように供給して加圧接合し、シート部材3に、発泡体4内に突出する多数の突起7を形成したのである。 - 特許庁
The organic EL display includes a filter part that includes a transparent support substrate and at least one kind of color conversion membrane which absorbs the light of a certain wavelength and outputs a fluorescence or phosphorescence of wavelengths including ones different from absorbed wavelength, and the organic EL element including a positive electrode, the organic EL layer, and a negative electrode in which membrane thickness d_ccm of the color conversion membrane is defined by the following formula.例文帳に追加
透明な支持基板と、ある波長の光を吸収し、吸収波長と異なる波長を含む蛍光または燐光を出力する、少なくとも1種の色変換膜とを含むフィルター部と、陽極、有機EL層、および陰極を含む有機EL素子とを具え、上記色変換膜の膜厚d_ccmが、下記式で定義される、有機ELディスプレイ。 - 特許庁
A temperature sensor 103 of which the electric characteristics change according to temperature changes due to the absorption of infrared rays; a heat insulating support leg 102 for thermally insulating and supporting the temperature sensor 103 to be a wire for reading an electric signal from the temperature sensor 103; and an infrared absorbing layer 101 formed in such a way as to be thermally in contact with the temperature sensor 103 are provided over a substrate 105.例文帳に追加
基板105上に、赤外線吸収による温度変化に応じて電気特性が変化する温度センサ103と、温度センサ103を断熱的に支持すると共に温度センサ103から電気信号を読み出す配線となる断熱支持脚102と、温度センサ103に熱的に接触して形成された赤外線吸収層101を備える。 - 特許庁
To provide an underlayer film forming material, the film functions as an underlayer film for a silicon-containing two-layer resist process or as a superior antireflection film, is adaptable to all wavelengths of 248 nm, 193 nm and 157 nm, has optimum n value and k value as compared with polyhydroxystyrene, cresol novolac, naphthol novolac, etc., and is excellent in etching resistance during substrate working, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加
珪素含有2層レジストプロセス用下層膜として、優れた反射防止膜として機能し、248nm、193nm、157nmの全ての波長に対応し、ポリヒドロキシスチレン、クレゾールノボラック、ナフトールノボラックなどよりも最適なn値、k値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性が優れた下層膜形成材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
A method of manufacturing a semiconductor device includes: a step for forming a high-k gate insulating film 30 on a silicon substrate 200; a step for nitrogenizing the high-k gate insulating film 30 using gas comprising nitrogen gas and rare gas; a step for forming an electrode 32 on the high-k gate insulating film 30; and a process for forming an insulating layer 34 while surrounding the electrode 32.例文帳に追加
シリコン基板200上にHigh-kゲート絶縁膜30を形成する工程と、前記ゲート絶縁膜30を窒素及び希ガス含有ガスでHigh-kゲート絶縁膜30を窒化する工程と、前記High-kゲート絶縁膜30上に電極32を形成する工程と、前記電極32を囲むように絶縁層34を形成する工程とを有する半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
In a heat-sensitive paper in which a belt-like thread element 2A is linearly embedded in parallel with one side of a paper base in the paper base and either side of the base paper is coated with a heat-sensitive colorant layer 3, this counterfeit-proof heat-sensitive paper IA is characterized in that the thread element comprises a plastic resin substrate face coated with the magnetic film.例文帳に追加
本発明の偽造防止感熱紙1Aは、紙基材中に、帯状のスレッド素子2Aが紙基材の一辺に平行して直線状に埋設されてなり、当該紙基材のいずれかの面には感熱発色剤層3が塗工されている感熱紙において、当該スレッド素子はプラスチック樹脂基材面に磁性膜が塗工されていることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation, which avoids the occurrence of residues and scumming in development even in a high colorant concentration, excels in adhesion to a substrate even under low exposure energy, can form pixels and a black matrix having a high-definition excellent pattern profile, and so excels in latitude in developing time, etc., as to obtain a desirable pattern line width.例文帳に追加
高着色剤濃度であっても現像時に残渣や地汚れを生じることなく、かつ低露光量でも基板との密着性に優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素およびブラックマトリックスを形成でき、さらに所望のパターン線幅を得ることができる現像時間等の余裕度に優れた着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
A polymer layer is formed on a substrate using a polymer represented by the general formula (I) (wherein R^1 is a substituted or non-substituted naphthyl group and R^2 is a substituted or non-substituted alkyl group, a substituted or non-substituted aryl group or a substituted or non-substituted heteroaryl group) and is irradiated with light in a desired region to develop an amino group.例文帳に追加
一般式(I):(式中、R^1は置換または非置換のナフチル基を表し、R^2は置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のヘテロアリール基を表す。)で表される基を有する重合体を用いて、基板上に重合体層を形成し、所望の領域に光照射することによって、アミノ基を発現する。 - 特許庁
Two metallic layers 2 for reducing electrode resistance are selectively provided corresponding with the source electrode 11 and the drain electrode 12, on a glass substrate 1, and a part of a source area 5 and a drain area 6 is respectively provided on the metallic layer 2, and at least a part of a contact hole 10 is located respectively on the source area 5 and drain area 6 on the metallic layers 2.例文帳に追加
ガラス基板1上に、ソース電極11およびドレイン電極12に対応して2個の電極抵抗低減用の金属層2が選択的に設けられ、ソース領域5およびドレイン領域6の一部が金属層2上にそれぞれ設けられ、各金属層2上のソース領域5およびドレイン領域6上に、それぞれコンタクトホール10の少なくとも一部が位置する構造。 - 特許庁
Polymer-based primer is added to paper made of nonwoven fabric or woven fibers made of heat-resistant synthetic fiber, a middle layer is provided, a base that is formed by impregnating the paper with resin is subjected to thermally mold with copper foil, and the copper foil is subjected to pattern etching, thus obtaining a circuit formation substrate that has excellent copper foil coherency and base interlayer peeling strength.例文帳に追加
耐熱性合成繊維からなる不織布あるいは織布繊維からなるペーパーにポリマー系プライマーを付与し、中間層を設けた後、ペーパーに樹脂を含浸させて形成した基材を銅箔とともに圧熱成型して銅箔基材を形成した後、前記銅箔にパターンエッチングを施すことにより銅箔密着性、基材層間剥離強度に優れた回路形成基板を得る。 - 特許庁
The conductive plastic laminate is produced by forming a transparent conductive layer on a transparent plastic substrate which is characterized in that a glass transition temperature is 260°C or higher, a light transmittance at an optical wavelength of 400 nm is 60% or more, a light transmittance is 80% or more at all optical wavelengths ranging from 450 nm to 700 nm, and a pencil hardness is H or higher.例文帳に追加
ガラス転移温度が260℃以上であり、かつ、光波長400nmにおける光線透過率が60%以上であり、かつ、450nm〜700nmにおける全ての光波長の光線透過率が80%以上であり、かつ、鉛筆硬度がH以上である透明プラスチック基板の上に透明導電層を形成し導電性プラスチック積層体とする。 - 特許庁
The antireflection film 100 comprises a hard coat layer2, two or more primer layers 3, 4, and an antireflection layer 5 sequentially laminated on a transparent substrate film 1 and is such that the two or more primer layers 3, 4 are comprises a metal, a metal compound single body, or a mixture thereof, and the two or more primer layers 3, 4 have compositions different from one another.例文帳に追加
透明基材フィルム1上に、ハードコート層2、2層以上のプライマー層3,4、反射防止層5を順次積層した反射防止フィルム100であって、該2層以上のプライマー層3,4が、金属あるいは金属化合物単体もしくは混合物よりなり、かつ、該2層以上のプライマー層3,4が、異なる組成であることを特徴とする反射防止フィルム100。 - 特許庁
A heat-sensitive recording material is provided with a heat- sensitive coloring layer containing usually a colorless or a light-color coloring compound and a developing compound capable of making the coloring compound develop color at the time of being heated and formed on a substrate, and a 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone or a 2,4'-dihydroxyphenyl sulfone and an N-(4- methylphenyl)acetoamide are contained therein.例文帳に追加
支持体上に通常無色ないし淡色の発色性化合物、該発色性化合物を熱時発色させうる顕色性化合物を含有する感熱発色層を設けた感熱記録材料において、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン又は2,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン及びN−(4−メチルフェニル)アセトアミドを含有することを特徴とする感熱記録材料。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a color filter which causes a transparent conductive film neither to be peeled off even when applying grinding as flattening processing nor to be cracked by distortion due to thermal stress and solvent of an alignment layer in the manufacture of the color filter successively forming at least a black matrix, a coloring pixel and the transparent conductive film on a glass substrate.例文帳に追加
ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス、着色画素、及び透明導電膜が順次に形成されたカラーフィルタの製造にて、平坦化処理として研磨を施しても、透明導電膜に剥がれが発生しない、また、熱応力による歪みや、配向膜の溶剤により透明導電膜にクラックが発生しないカラーフィルタを製造方法を提供する。 - 特許庁
This manufacturing method of the wiring board includes a process for forming a plurality of patterned wiring on a substrate, a process for depositing the insulating film on the wiring, a process for arranging the wiring in environment for allowing the wiring to be subjected to etching treatment, and a process for forming a conductive layer for electrically connecting the wiring to a contact hole provided in the insulating film.例文帳に追加
基板上に、パターニングされた複数の配線を形成する工程と、前記配線上に絶縁膜を成膜する工程と、前記基板を、前記配線をエッチング処理する環境に配置する工程と、前記配線と、前記絶縁膜に設けたコンタクトホールを介して電気的に接続する導電層を形成する工程と、を備えた配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The array substrate 100 comprises an organic EL element 40 that is constructed of a first electrode 60 that is arranged in matrix-form and formed in a separated island shape for each picture element, a second electrode 66 that is arranged opposed to the first electrode 60 and formed in common for all picture elements, and a luminous layer 64 that is held between the first electrode 60 and the second electrode 66.例文帳に追加
アレイ基板100は、マトリクス状に配置された画素毎に独立島状に形成された第1電極60と、第1電極60に対向して配置され全画素に共通に形成された第2電極66と、第1電極60と第2電極66との間に保持された発光層64と、によって構成された有機EL素子40を備えている。 - 特許庁
The optical modulator has an optical waveguide 2 extending along a certain surface, a first optical guide part (the array of pits 9) regulating propagation of an optical wave in a direction parallel to the surface and a second optical guide part (a part other than a high refractive index layer 11 in a substrate 1) regulating the propagation of the optical wave in a direction vertical to the surface.例文帳に追加
本発明の光変調素子は、ある面に沿って延びる光導波路2と、光波の伝搬を前記面に平行な方向において規制する第1光ガイド部(ピット9のアレイ)と、光波の伝搬を前記面に垂直な方向において規制する第2光ガイド部(基板1における高屈折率層11以外の部分)とを有する光変調素子である。 - 特許庁
This polyolefin-based agricultural film comprises a multi-layered or mono-layered substrate film, has an average transmittance of ≤10% for UV rays in a wavelength region of 320 to 350 nm, an average transmittance of ≥50% for light in a wavelength region of 380 to 400 nm, and has at least one layer comprising a polyolefin-based resin and at least one of triaryltriazine type UV ray absorbents.例文帳に追加
320〜350nmの波長域の紫外線の平均透過率が10%以下であり、380〜400nmの波長域の光の平均透過率が50%以上であり、且つ、ポリオレフィン系樹脂とトリアリールトリアジン型紫外線吸収剤の少なくとも一種を含有してなる層を少なくとも一層有する、多層又は単層の基体フィルムからなるポリオレフィン系農業用フィルム。 - 特許庁
In the method for fabricating a semiconductor device where silicon insulation films having a different thickness are formed, respectively, in a specified region and other specified region on a substrate, HMDS coating and heating are performed prior to coating of a photoresist layer when photolithographic etching, i.e., boring of an opening 28W, is performed in the process for removing the specified region of a first silicon insulation film 28.例文帳に追加
基板上の特定領域と、他の所定領域において、相互に厚さを異にするシリコン絶縁膜が形成されて成る半導体装置の製造方法であって、第1のシリコン絶縁膜28の特定領域の除去工程におけるフォトリソグラフィによるエッチング、即ち開口28Wの穿設において、フォトレジスト層の塗布に先立って、HMDS被着と加熱を行うものである。 - 特許庁
The pigment-dispersed resist for color filter contains a pigment (A) containing a specific halogenated phthalocyanine (a) as essential components, a polymer (B) having 2-oxo-1,3-dioxolane-4-yl groups and acidic groups, and a compound having at least two ethylene unsaturated double bonds in the molecule, and the color filter has the hardened applied film layer of the pigment dispersion resist on a substrate.例文帳に追加
特定のハロゲン化フタロシアニン(a)を必須成分として含有する顔料(A)、2−オキソ−1,3−ジオキソラン−4−イル基および酸性基を有する重合体(B)、および、分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物(C)を含有するカラーフィルター用顔料分散レジスト、および、この顔料分散レジストの硬化塗膜層を基板上に有するカラーフィルター。 - 特許庁
This Raman scattering measuring sensor concerned in the present invention is provided with particle layers arrayed periodically with a plurality of particles having the same shape and the same size coated with metal on each surface thereof, to have a clearance into which a substance to measure Raman scattering is able to enter at least among the respective particles and to form periodical uneven parts on a surface of the particle layer, on a substrate.例文帳に追加
本発明に係るラマン散乱測定センサは、基板上に、表面に金属をコーティングした複数の同形同寸の粒子を少なくとも各粒子間にラマン散乱を測定すべき物質が入り得る隙間を有し、かつ、粒子層の表面に周期的な凹凸を形成できるように周期的に配列した粒子層を備えていることを特徴とする。 - 特許庁
In preparation in which a planographic printing plate having physical developing nuclei between an anodically oxidized aluminum substrate and a silver halide emulsion layer and utilizing a silver complex salt diffusion transfer process is subjected to at least development after exposure, the amount of anodically oxidized aluminum in the planographic printing plate is ≤4 g/m2 and polyacrylic acid is contained in a developer used.例文帳に追加
陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版を露光後少なくとも現像処理する製版方法において、該平版印刷版の陽極酸化アルミニウム量が4g/m^2以下であり、該現像液中にポリアクリル酸を含有する事を特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁
The distributed constant circuit by a conductor layer 3 is formed on the dielectric board 1 formed of a dielectric material having the permittivity which can be arbitrarily changed in a two-dimensional manner, a physical change is externally given to the substrate 1, based on signals from voltage control mechanisms 8 and 9, and the permittivity of a desired area of the board 1 is locally changed to a desired value.例文帳に追加
誘電率を2次元的に任意に変化できる誘電体材料で形成された誘電体基板1上に導体層3による分布定数回路を形成し、電圧制御機構8、9からの信号に基づいて誘電体基板1に外部から物理的な変化を与え、誘電体基板1の所望の領域の誘電率を局所的に所望の値に変化させる。 - 特許庁
In the apparatus, a power imparting electrode 306 of two-layer structure is arranged parallel to and opposite to a band like substrate 301 and above a discharge chamber 305 disposed in a vacuum container 302, the electrode 306 has a non-divided electrode 102 formed of a flat plate and six divided electrodes 101 arranged in row on the electrode 102 so as to be electrically in contact therewith.例文帳に追加
真空容器302内に設けられた放電室305の上方に、1枚の平板からなる非分割電極102と、この非分割電極102上に電気的に接触するように並べて配置された6枚の分割電極101とを有する、2層構造の電力印加電極306が帯状基板301と平行に対向して配置されている。 - 特許庁
The electrooptical element wherein an electrooptical material is interposed between a pair of substrates disposed opposite to each other is provided with a gate line formed on one substrate, a plurality of auxiliary capacitance lines formed in the same layer as the gate line, separated from each other and formed by using a first metal thin film and collectively drawing lines separated from the plurality of auxiliary capacitance lines.例文帳に追加
電気光学素子では、対向配置された一対の基板間に電気光学材料が挟持されており、一方の基板上に形成されたゲート配線と、ゲート配線と同一層で形成され、互いに分離された第1の金属薄膜で形成された複数の補助容量配線と、複数の補助容量配線と互いに分離されている集合引出し配線とを備える。 - 特許庁
A mark for controlling a manufacturing process is given to a region to which laser beams are not irradiated, the laser beams being for laser scribing for each layer of a peripheral region of a face opposite to a face where a light transmission substrate is deposited, or a side surface; and in the subsequent each manufacturing process, the mark is read and each manufacturing process is controlled by using the read mark.例文帳に追加
透光性基板の成膜される面とは反対側の面の周縁領域または側面の、各層に対するレーザースクライブのためのレーザー光が照射されない領域に、製造工程の管理のためのマークを付し、以後の各製造工程において、前記マークを読取り、読取られたマークを利用して各製造工程の管理を行うことを特徴とする。 - 特許庁
The electrooptical device wherein an electrooptical substance 31 is disposed between a pair of substrates 10 and 20 has the color filter layer 23 disposed on the one substrate 10, formed by exposing and developing a photosensitive coloring agent having photosensitive coloring functions of a plurality of colors according to exposure wavelength distribution and including regions 23A, 23B, 23C and 23D of the plurality of colors.例文帳に追加
本発明の電気光学装置は、一対の基板10、20間に電気光学物質31を配置してなる電気光学装置において、一方の前記基板10上に配置され、露光波長分布に応じた複数色の感光発色機能を有する感光性発色剤を露光し現像してなる、複数色の領域23A,23B,23C,23Dを含むカラーフィルタ層23を有することを特徴とする。 - 特許庁
A semiconductor memory device includes: bit lines BL and /BL provided in a layer of the same level above a semiconductor substrate 30; a first variable-resistance element 10 and a first MOSFET 20 which are provided below the bit line BL and are connected in series; and a second variable-resistance element 10 and a second MOSFET 20 which are provided below the bit line /BL and are connected in series.例文帳に追加
半導体記憶装置は、半導体基板30の上方の同一レベル層に設けられたビット線BL,/BLと、ビット線BLの下方に設けられかつ直列に接続された第1の抵抗変化素子10及び第1のMOSFET20と、ビット線/BLの下方に設けられかつ直列に接続された第2の抵抗変化素子10及び第2のMOSFET20とを含む。 - 特許庁
The oxidizing process electrochemically oxidizes the porous polycrystalline silicon layer 4 by making a constant current to flow with a platinum electrode (unillustated) as a negative electrode and a lower electrode composed of the n type silicon substrate 1 and an ohmic electrode 2 as a positive electrode by using an oxidation treatment tank for containing the electrolyte of dissolving a solute composed of potassium nitrate of 0.04 M in an organic solvent composed of, for example, ethylene glycol.例文帳に追加
酸化工程では、例えばエチレングリコールからなる有機溶媒中に0.04Mの硝酸カリウムからなる溶質を溶かした電解液の入った酸化処理槽を利用し、白金電極(図示せず)を負極、n形シリコン基板1とオーミック電極2とからなる下部電極を正極として、定電流を流し多孔質多結晶シリコン層4を電気化学的に酸化する。 - 特許庁
An insulating substrate 1 is formed with a through-hole 2, and a plurality of types of different conductive materials 3 and 4 are packed in the through-hole 2; and the conductive materials 3 and 4 are formed like a layer in the through-hole 2, and electrically connected to a wiring pattern constituted of electroless plating copper 8 and electroplating copper 10, so that a wiring board can be configured.例文帳に追加
絶縁性基板1に貫通孔2を設け、この貫通孔2内に異なる複数の種類の導電性材料3,4を充填し、前記導電性材料3,4は、前記貫通孔2内に層状に形成され、無電解めっき銅8および電気めっき銅10による配線パターンと電気的に接続していることを特徴とする配線基板である。 - 特許庁
To effectively utilize all components of PVC wall paper and reuse as a wooden composite material having many applications, solving the problem that a conventional PVC wall paper is composed of the substrate paper layer firmly impregnated and coated with a PVC resin, and hence it is difficult to completely separate the components from each other to effectively utilize them, and thus almost all of PVC wall paper are disposed of.例文帳に追加
塩化ビニル壁紙は基材の紙層に塩化ビニル層の塩化ビニル成分が強固に含浸、被覆されており、紙成分と塩化ビニル成分を完全に分離してそれぞれを有効利用することは困難で、従来は殆ど廃棄処分されていたが、塩化ビニル壁紙の全ての成分を有効活用し、多くの用途が期待される木質複合材料として再利用可能とする。 - 特許庁
Upon exposure, the upper face of a mask substrate of the photomask 1 is irradiated with i-line (365 nm wavelength) from a light source 20 such as a high-pressure mercury lamp via an illumination optical system 30; and near-field light permeates near an opening of the light shielding film 2 formed in the photomask 1 to expose a resist layer 11 on the surface of the object placed directly under the opening.例文帳に追加
露光に際して、フォトマスク1のマスク基板の上面から、例えば高圧水銀ランプ等の光源20からi線(波長365nm)が照明光学系30を介して照射され、フォトマスク1に形成された遮光膜2の開口の近傍に近接場光がしみだし、開口の直下に位置する被処理体表面のレジスト層11が露光される。 - 特許庁
In the film substrate 1 for the liquid crystal display element, having the transparent conductive film 5 formed on one surface of a film base 2 consisting of a transparent polymer material, a reinforcing layer 6 consisting of a material having heat elongation and contracting characteristics nearly same as the transparent conductive film 5 is formed on the surface opposite to the one surface on which the transparent conductive film 5 of the film base 2 is formed.例文帳に追加
透明な高分子材料からなるフィルムベース2の一方の面に透明導電膜5を形成してなる液晶表示素子用フィルム基板1において、前記フィルムベース2の前記透明導電膜5が形成された一方の面の反対側の面に、その透明導電膜と5ほぼ同じ熱伸縮特性をもつ材料からなる補強層6を形成する。 - 特許庁
The electro-optical device has data lines, scanning lines, pixel-switching thin film transistors disposed below the data lines and storage capacitors each having fixed potential side electrode, a dielectric layer, and pixel-potential side electrode that are disposed in an area including a region opposed to a channel region of the pixel-switching thin film transistor when two-dimensionally viewed on a substrate and disposed above the data lines.例文帳に追加
電気光学装置は、データ線及び走査線と、データ線より下層側に配置された画素スイッチング用TFTと、基板上で平面的に見て画素スイッチング用TFTのチャネル領域に対向する領域を含む領域に配置され且つデータ線より上層側に配置されており、固定電位側電極、誘電体膜及び画素電位側電極からなる蓄積容量とを備える。 - 特許庁
The sapphire single crystal substrate 1 includes approximately parallel and linear steps 2a each having the height of one molecular layer on a main surface, wherein the degree of the slope from a specific crystalline surface of the sapphire of the main surface or the width of a specific terrace 3a formed between the steps 2a takes a value in a specific range and each terrace described in the above has about the same width.例文帳に追加
主面に1分子層の高さを有する略平行な略直線状のステップ2aを有し、前記主面のサファイヤの特定結晶面からの傾斜の大きさ、又は前記ステップ2aの相互間に形成された特定のテラス3aの幅が、所定の範囲内のいずれかの値であり、かつ前記テラスの幅が各々略等しいサファイヤ単結晶基板1。 - 特許庁
This method for forming the silicon carbide film 13 includes: a step for forming a mask 15a at a position covering a part of a silicon film 14 on a substrate 11 having the silicon film 14 on a surface layer, and a step for applying carbonizing treatment to the silicon film 14 of a region where the mask 15a is not formed to form the silicon carbide film 13 containing the carbonized film.例文帳に追加
本発明の炭化シリコン膜13の製造方法は、表層にシリコン膜14を有する基板11上のシリコン膜14を一部覆う位置にマスク15aを形成する工程と、マスク15aが形成されていない領域のシリコン膜14を炭化処理し、炭化された膜を含んだ炭化シリコン膜13を形成する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁
After implanting an oxygen ion 11 into a silicon wafer 12 where first a polysilicon film 17 is formed on the backside, the wafer 12 is heat-treated to form an embedded oxide film 13 inside the wafer 12, thus manufacturing a SIMOX substrate 16 by forming an SOI layer 14 on the surface of the wafer 12 on the embedded oxide film 13 and further forming an oxide film 18 on the whole surface.例文帳に追加
先ず裏面にポリシリコン膜17を形成したシリコンウェーハ12の内部に酸素イオン11を注入した後に、このウェーハ12に熱処理を施してウェーハ12内部に埋込み酸化膜13を形成することにより埋込み酸化膜13上のウェーハ12表面にSOI層14を形成してSIMOX基板16を作製し更に全面に酸化膜18を形成する。 - 特許庁
Also, in the circuit substrate for printed wiring boards that has a conductor circuit on one surface of the insulation base of the copper foil, while a via hole is formed for a through-hole which reaches the conductor circuit from the other surface of the insulation base, a low-melting point metal layer with a melting point lower than zinc is formed between one surface of the insulation base and the conductor circuit.例文帳に追加
また、銅箔の絶縁性基材の一方の面に導体回路を有し、この絶縁性基材の他方の面から導体回路に達する貫通穴に対してビアホールが形成されたプリント配線板用回路基板において、亜鉛よりも低い融点を有する低融点金属層が、絶縁性基材の一方の面と導体回路との間に形成されている。 - 特許庁
In the thin film capacitor element 10, since the substrate 1 has a plain surface almost perpendicular to the side end face 6a of the laminate 6 due to anisotropic etching during manufacturing, the insulating resin layer 5 covering a poorly covered part does not lie between the lower electrode 2 and the upper electrode film 41, but lies between the upper extraction electrode 40 and the upper electrode film 41 which are at the same potential.例文帳に追加
この薄膜キャパシタ素子10は、製造時に異方性エッチングにより積層体6の側端面6aを基板1と略直交する平坦面となしているので、カバレッジ不良部分を覆う絶縁樹脂層5が、下部電極2と上部電極膜41との間に介在せず、同電位な上部引出し電極40と上部電極膜41との間に介在している。 - 特許庁
The film member of the display part is used as a movable film member 101 or fixed film member of the movable film type display device, and has a display part 2 composed of a colored film 9 provided with a colored layer which contains a binding material having a softening temperature or glass transition temperature of 100 degrees C or more as an essential ingredient at least at one side of a substrate film.例文帳に追加
本発明に係る表示部フィルム部材は、可動フィルム型表示装置の可動フィルム部材101又は固定フィルム部材として用いられるものであって、基材フィルムの少なくとも片面に軟化温度又はガラス転移点が100℃以上の結着材を必須成分とする着色層を設けた着色フィルム9からなる表示部2を備えている。 - 特許庁
The semiconductor device includes an interlayer insulation film 36 formed above a semiconductor substrate 10, the conductor 50 containing Cu formed in the interlayer insulation film 36, and a barrier metal film 46 formed between the interlayer insulation film 36 and the conductor 50 and formed of a multilayer film of a Ti film 42 and a Ta film 44, and an interface layer 54 containing Ti and Si is formed on the surface of the conductor 50.例文帳に追加
半導体基板10の上方に形成された層間絶縁膜36と、層間絶縁膜36内に形成されたCuより成る配線50と、層間絶縁膜36と配線50の間に形成され、Ti膜42とTa膜44との積層膜より成るバリアメタル膜46とを有し、配線50表面に、TiとSiとを含む界面層54が形成されている。 - 特許庁
In the electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer on a conductive substrate, a vinyl halide-based resin is used which is obtained by subjecting a vinyl chloride-based polymer having hydroxyl groups, epoxy groups and sulfur-containing strong acid radicals as substituents to modification with a fluorine compound, and converts a part of the vinyl chloride structure to a vinyl fluoride-based structure and has a structure formed by fluorinating the epoxy groups.例文帳に追加
導電性基体上に感光層を備えた電子写真感光体において、水酸基、エポキシ基、および硫黄を含む強酸根を置換基としてもつ塩化ビニル系重合体にフッ素化合物による変性処理を施し、塩化ビニル構造の一部をフッ化ビニル系構造とし、更に前記エポキシ基をフッ素化した構造を合わせ持つハロゲン化ビニル系樹脂を用いた。 - 特許庁
This method of manufacturing the developing roller includes: a process of preparing a coating liquid containing resin and solid particles at least; a process of filtering the coating liquid by the filter while irradiating ultrasonic waves or after performing ultrasonic irradiation; and a process of applying the filtrated coating liquid to the outer periphery of the substrate, and drying the same to form a coating layer, wherein a developing roller is made through these processes.例文帳に追加
少なくとも樹脂と固体粒子を含有する塗布液を調製する工程、超音波を照射しながら或いは超音照射を行った後に塗布液をフィルターで濾過する工程、濾過した塗布液を基体の外周に塗布、乾燥して被覆層を形成する工程を経て現像現像ローラを作製することを特徴とする現像ローラの製造方法。 - 特許庁
To provide an adhesive composition excellent in bonding property between a transparent electroconductive film and a glass plate, etc., even under high temperature and high humidity conditions, without forming bubbles or peeling between the adhesive layer and a glass substrate plate, also capable of inhibiting the corrosion of the transparent electroconductive film and excellent in durability, transparency and bonding reliability, and an adhesive sheet and an optical member by using the same.例文帳に追加
高温、高湿の条件下においても透明導電膜とガラス板等との接着性に優れ、粘着剤層とガラス基板等との間に発泡や剥離を生じないうえに、透明導電膜の腐食を抑制することができ、耐久性、透明性および接着信頼性に優れた粘着剤組成物とこれを用いた粘着シート並びに光学部材を提供する。 - 特許庁
In this electro-optical device, a scanning line driving circuit 400 and a data line driving circuit 200 which make a TFT (thin film transistor) having a channel region consisting of a single crystal silicon layer one of structural elements are formed on an active matrix substrate and N-channel TFTs which form source-tie structure are used in the scanning line driving circuit 400 and the data line driving circuit 200.例文帳に追加
本発明の電気光学装置は、アクティブマトリクス基板上に、単結晶シリコン層からなるチャネル領域を有するTFTを構成要素の一つとする走査線駆動回路400およびデータ線駆動回路200が形成され、走査線駆動回路400およびデータ線駆動回路200にソースタイ構造をなすNチャネルTFTが用いられている。 - 特許庁
In a gap between a transparent anode 11a formed on a glass substrate 10 and a reflection cathode 11e formed against it in the organic photodiode 1, a plurality of photodetections 11c of a layer of composites for optical absorption, and a barrier 11d for insulating the transparent anode 11a and the reflection cathode 11e and insulating the photodetections 11c adjacent to each other from each other, are formed.例文帳に追加
有機フォトダイオード1では、ガラス基板10上に形成された透明陽極11aと、それに対向して形成された反射陰極11eとの間隙に、光吸収用組成物の層である複数の受光部11cと、透明陽極11a及び反射陰極11eを絶縁するとともに、隣り合う受光部11c間を絶縁する隔壁11dが形成されている。 - 特許庁
The light diffusible polycarbonate resin board is formed by co-extruding a surface layer comprising a polycarbonate resin composition containing a specified UV-ray absorber as the essential ingredient on at least one surface of a substrate material comprising a polycarbonate resin composition containing a light diffusing agent consisting of specified silicone rubber particles as the essential ingredient and optionally polycaprolactone.例文帳に追加
特定のシリコンゴム粒子から成る光拡散剤を必須成分として、さらに所望によってはポリカプロラクトンを含有するポリカーボネート樹脂組成物からなる基材の少なくとも片面に、特定の紫外線吸収剤を必須成分として含有するポリカーボネート樹脂組成物からなる表層を共押出成形してなる光拡散性ポリカーボネート樹脂板を提供するものである。 - 特許庁
The invention also provides a device for measuring deformation, which device comprises the first alumina coating 30 obtained by atmospheric thermal spraying onto the silicon carbide layer covering the substrate of the part after it has been treated by superposing laser impacts, a free filament strain gauge 40 placed on the coating 30, and an additional alumina coating obtained by atmospheric thermal spraying onto the strain gauge.例文帳に追加
本発明はまた、変形を測定する装置を提供し、装置は、レーザー衝突を重ねることによって処理された後、部品の基材を被覆する炭化ケイ素層上の、常圧溶射によって得られた第1のアルミナコーティング(30)と、コーティング(30)上に置かれたフリーフィラメントひずみゲージ(40)と、ひずみゲージ上への常圧溶射によって得られたさらなるアルミナコーティングと、を含む。 - 特許庁
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