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surface formationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4130件
The surface of the foundation layer 2, before forming the magnetic recording layer 3, is exposed in the atmosphere of O_2 or N_2 or the atmosphere of a mixed gas, where O_2 or N_2 is added to a rare gas, and O_2 or N_2 is made to accompany as a nucleus for use in non-magnetic nonmetal formation.例文帳に追加
磁気記録層3の形成前の下地層2の表面を、O_2或いはN_2雰囲気中か、若しくは希ガスにO_2或いはN_2を添加した混合ガス雰囲気中に暴露し、O_2或いはN_2を非磁性非金属形成のための核として付帯させる。 - 特許庁
At an image formation part 3, a communication device T1 is fitted to the top surface of a developing cartridge which can be attached to and detached from a developing device and on the side of a copying machine body, a main-body side communication device T2 is fitted opposite the top of the communication device T1.例文帳に追加
画像形成部3において、現像装置に対して着脱可能な現像カートリッジの上面に通信装置T1を取り付け、複写機本体側には本体側通信装置T2を通信装置T1の上部に対向するように取り付ける。 - 特許庁
Since swirling outer exhaust gas flow 6 isolates outer tubular casings 8, 25 and the inner exhaust gas flow 7, the reactants added to the inner exhaust gas flow 7 touches low temperature outer tubular casing to prevent formation of the by-product on an inner surface of the tubular casing.例文帳に追加
旋回する外部排気ガス流(6)が外側外被管(8、25)と内部排気ガス流(7)とを隔てるため、内部排気ガス流(7)に添加した反応物質が低温の外側外被管に接触し、外被管の内面に副生成物が生ずるのを防止できる。 - 特許庁
Since the stable vapor is emitted from the surface of the sintered body 53b at this time, even in the case grooves or holes of a high aspect ratio are formed on the substrate WA, the metal can easily be buried therein, and the formation of a wiring film is made easy.例文帳に追加
この際、焼結体53bの表面から安定した蒸気が出射するので、基板WA上に高アスペクト比の溝あるいは穴が形成されている場合であっても、これに金属を簡易に埋め込むことができ、かかる配線膜の成膜が容易になる。 - 特許庁
The forming method of a nitride semiconductor has a process for performing selective transverse direction growth for a second GaN layer 5 on an upper surface of a first GaN layer 3, and a process for forming a quantum dot 6 on the second GaN layer 5 which is subjected to selective transverse direction formation.例文帳に追加
この窒化物系半導体の形成方法は、第1GaN層3の上面上に、第2GaN層5を選択横方向成長させる工程と、選択横方向成長された第2GaN層5上に、量子ドット6を形成する工程とを備えている。 - 特許庁
To prevent first copying speed from getting low in the case of realizing the formation of an excellent developed image free from image staining and the staining of the back surface of paper caused by toner soiling on an image carrier by using liquid developer or realizing the improvement of maintainability that paper jamming is not caused.例文帳に追加
液体現像剤を用いて像担持体にトナー汚れを原因とする画像汚れ、用紙の裏面汚れの無い良好な現像画像の形成を図り、あるいは紙詰まりの無いメンテナンス性向上を図る際にファーストコピー速度が低減されるのを防止する。 - 特許庁
To provide an abrasive that is used for super-precision polishing in the planarization process of a substrate surface in manufacturing semiconductor devices and the formation process of especially shallow trench separation, increasing the polishing speed ratio of a silicon oxide film to a silicon nitride film, and having little contamination of alkali metal.例文帳に追加
半導体デバイス製造時の基板表面の平坦化工程、特にシャロートレンチ分離の形成工程の超精密研磨で使用し、酸化珪素膜と窒化珪素膜との研磨速度比を大きくし、アルカリ金属の汚染の少ない研磨剤を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method, as a method of manufacturing a surface acoustic wave device which is mounted by a flip-chip bonding system via a bump, in which an electrode pad is hard to strip from a piezoelectric substrate, in the formation or the like of the bump and in which cracks are not likely to be generated in the piezoelectric substrate.例文帳に追加
バンプを介してフリップチップボンディング方式により実装される弾性表面波装置の製造方法であって、バンプ形成時等における電極パッドの圧電基板からの剥離及び圧電基板のクラックが生じ難い製造方法を提供する。 - 特許庁
After the coating film 12 is applied, dried, and cured, a laminate film 82 is wound while being inserted on the surface of the coating film layer to form a film roll 42 and the film roll 42 is set in the vacuum film-forming apparatus 22, and the laminate film 82 is peeled off before formation of an inorganic film.例文帳に追加
コーティング膜12を塗布・乾燥し硬膜した後に、コーティング膜層表面にラミネートフィルム82を挟みながら巻き取りフィルムロール42とし、このフィルムロール42を真空成膜装置22にセットして、無機膜の製膜前にラミネートフィルム82を剥離する。 - 特許庁
To provide a nickel belt which is arbitrarily changed in the properties and structures of its surface and inside by performing lamination of nickel of different properties without problems even if electroforming is performed with electroforming liquids of different compositions by exchanging the electroforming liquid in of electroforming in formation of the nickel layers by an electroforming process.例文帳に追加
電鋳法によるニッケル層の形成において、電鋳液を途中で交換し、異なる組成の電鋳液で電鋳を行っても、異なる物性のニッケルの積層を問題なく行ない、表面と内部の物性や構造を任意に変えたニッケルベルトを提供する。 - 特許庁
This method includes the formation of the layer of a melting photopolymerization substance on a support, and the adhesion of the particulate substance on the outer surface of the photopolymerization located at a side opposite to the support within 48 hours after forming the layer of the photopolymerization substance.例文帳に追加
この方法は、支持体上に溶融光重合性物質の層を形成すること、および光重合性物質の層を形成してから48時間以内に、支持体とは反対側にある光重合性層の外面に粒子状物質を付着させることを含む。 - 特許庁
Since the laser beam LB is scattered by the irregularities 101 existing on the surface of a work 1 when the reformed layer formation step is run, the laser light beam LB can be condensed sufficiently in a region to be divided.例文帳に追加
これにより、改質層形成工程を実行する際に、ワーク1の表面に存在する凹凸101によってレーザー光線LBが散乱されることにより、分割すべき領域の内部にレーザー光線LBを十分に集光できなくなることを抑制できる。 - 特許庁
The oxidization inhibitor contains at least one chosen from magnesium carbonate, sodium chloride or a mixture of magnesium carbonate and sodium chloride so as to inhibit formation of scales on the surface of the steel material subjected to a heat treatment such as hot forging.例文帳に追加
酸化抑制剤として、炭酸マグネシウム、又は塩化ナトリウム、又は炭酸マグネシウムと塩化ナトリウムとの混合物のうち、何れか一種を含有させたことによって、熱間鍛造などにより加熱処理された鋼材の表面にスケールが生成することを抑制する。 - 特許庁
On an electrode formation surface 40a of a FPC 40, a group of bond electrodes 78 corresponding to pressure chambers and bond electrodes 77 for constant potential signals are formed, and dummy electrodes 88 are formed between the electrodes 77 and 78.例文帳に追加
FPC40の電極形成面40aには、各圧力室に対応する駆動信号用の接合電極78の群と、定電位信号用の接合電極77とが形成されており、さらに両電極77,78の間にダミー電極88が形成されている。 - 特許庁
Such active species are added to an oxygen radical as an element bonding to Si atoms on the semiconductor surface to hinder the formation of double bonds between the Si atoms and oxygen atoms to reform the alteration layer, and the formed reforming layer is removed by wet etching.例文帳に追加
前記変質層を、酸素ラジカルに、前記半導体表面のSi原子に結合してSi原子と酸素原子との間の二重結合の形成を阻害するような元素の活性種を添加して改質し、形成された改質層をウェットエッチングにより除去する。 - 特許庁
It is preferable that, after the formation of a coating layer composed essentially of silicon metal powder or silicone resin on the surface of the substrate, a vapor growth process is applied to the substrate and the coating layer to convert the coating layer into the silicon-metal containing film.例文帳に追加
好ましくは、珪素金属の粉末あるいは珪素樹脂を主成分とするコーティング層を基体の表面に形成した後で、基体およびコーティング層を気相成長プロセスに供することによって、コーティング層を珪素金属含有被膜に変化させる。 - 特許庁
To provide a thin film gas sensor and its manufacturing method capable of reducing variations of resistance values of a SnO_2 sensing film by reducing the roughness height of an underlying surface through the flattening prior to formation of a SnO_2 sensing film and minimizing the coarse portion of columnar crystals.例文帳に追加
SnO_2感知膜成膜前の下地面を平坦化して凹凸部の高低差を減少させ、柱状晶間が粗になる部分を極力少なくしてSnO_2感知膜の抵抗値のバラツキを低減させた薄膜ガスセンサ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus which can enough suppress irregular density in stripes and realize both of improvement in picture quality and a higher speed of image formation even when a surface light emitting laser which increases the number of laser beams is used.例文帳に追加
レーザの本数を数多くできる面発光レーザを用いた場合であっても、筋状の濃度ムラの発生を十分に抑制することができ、画質の向上と画像形成速度の高速化との双方を実現可能な画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
The problem is solved by the operation device having a chassis with a built-in electronics device requiring input/output, a spinner so arranged that a part projects out of the chassis, and a pattern formation layer laid on a curved surface for the whole or the part on the curved plane of the spinner.例文帳に追加
入出力を必要とする電子機器を内蔵した筐体と、その筐体から一部突出するように配置された回転体と、該回転体曲面上の全体又は一部に敷設されたパターン形成層とを有する操作装置により解決された。 - 特許庁
The incident surfaces of transmission type elements which are changed in the incident angles, including image formation lenses for converging the light beams onto the surface to be scanned, are formed as transmission surfaces approximately equal in the transmissivity to the S polarized light and the transmissivity to the P polarized light at the arbitrary incident angle.例文帳に追加
また、光ビームを被走査面上に収束させる結像レンズをはじめ、入射角が変化する透過型素子の入射面を、S偏光に対する透過率とP偏光に対する透過率が任意の入射角において略等しい透過面とする。 - 特許庁
The upper surface of the polycrystalline silicon film 19 is covered with an insulating film 20, and the upper space above the insulating film 20 is filled up with a polycrystalline silicon film 22 for the formation of a storage node contact.例文帳に追加
ここで、多結晶シリコン膜22を形成する際に、多結晶シリコン膜19の上部をレジスト膜21で一旦埋め込み、絶縁膜20の表面高さを所望の位置にするためエッチングした後レジスト膜21を除去し、多結晶シリコン膜22を形成する。 - 特許庁
To suppress cissing in the formation of a photosensitive resin layer by coating while suppressing extrusion and color mixing of inks provided by ink jet by holding the liquid contact angle (e.g., ink repellency) of a surface of the photosensitive resin layer after transfer (e.g., a light shielding film such as a black matrix).例文帳に追加
転写後の感光性樹脂層(例えばブラックマトリクス等の遮光膜)表面の液体接触角(例えば撥インク性)を保持して、インクジェット付与されるインクのはみ出し及び混色を抑えつつ、感光性樹脂層の塗布形成時のハジキを抑制する。 - 特許庁
A p-n joint part between a p-type diffusion layer 2 and an n-type silicon substrate 1 is formed in an element formation area divided by an element isolation area 5 on the surface of a semiconductor substrate 1, and a radiation sensitive area is formed by the p-n joint part.例文帳に追加
半導体基板1の表面の素子分離領域5により区画された素子形成領域に、p型拡散層2とn型シリコン基板1とのpn接合部が形成されており、このpn接合部により放射線有感領域が構成されている。 - 特許庁
The transfer paper P is conveyed in a direction of a conveying direction A before the image is transferred to a surface of the transfer paper P by an image formation part 60 and inclination to the conveying direction is corrected by abutting a side (first side) of a leading end on a register roller 43A.例文帳に追加
画像形成部60によって転写紙Pの表面に画像を転写する前に、転写紙Pを搬送方向Aの方向に搬送し、先端の辺(第1の辺)をレジストローラ43Aに突き当てることで搬送方向に対する傾きを補正する。 - 特許庁
To provide a method for forming a substrate, in which a desired fine uneven structure having a comparatively large area can be formed on a surface of the substrate, by paying attention to mask formation by a nano-inprint process allowing a mask having a comparatively large area to be obtained and chemical etching allowing a large area to be processed.例文帳に追加
比較的大面積化が可能なナノインプリントプロセスによるマスクの形成と、大面積の処理が可能な化学エッチングとに着目することで,基板の表面に比較的大面積の所望の微細凹凸構造を形成可能な方法を提供する。 - 特許庁
Recessed clearance surfaces 4, 4a can be used as a guidepost for forming an adhesive layer to prevent formation of unnecessary adhesive layer, the recessed clearance surface 4 is concealed with the brick tile 11, and the adhesive does not protrude from the brick tile 11 bonded.例文帳に追加
また、逃げ凹面4,4aを接着剤層を形成する目安として利用でき、不必要な箇所に接着剤層を形成することがないとともに、レンガタイル11により逃げ凹面4が隠蔽され、接着したレンガタイル11から接着剤がはみ出たりすることがない。 - 特許庁
To provide a method of producing a core-shell structure type toner in which, when shell forming resin particles are added to a core particle dispersion liquid, the shell forming resin particles deposit uniformly on the core particle surface without causing homo aggregation, so that even shell formation is performed.例文帳に追加
コア粒子分散液中にシェル形成用樹脂粒子を添加したとき、シェル形成用樹脂粒子がホモ凝集を起こさずにコア粒子表面に均一に付着してムラのないシェル形成が行えるコアシェル構造型トナーの製造方法を提供する。 - 特許庁
This fine concave forming method includes forming a concave in a silicon substrate by alternately repeating etching and formation of a side wall protective film, removing the side wall protective film to expose the side wall of the concave, and removing the surface layer of the exposed side wall by etching.例文帳に追加
エッチングと側壁保護膜の形成とを交互に繰り返してケイ素基板に凹部を形成し、前記側壁保護膜を除去して前記凹部の側壁を露出させ、露出した前記側壁の表層をエッチングにより除去する、ことを含む微細凹部形成方法。 - 特許庁
The method for manufacturing the recording medium substrate 10 having the base material 11 and the plating film 12 formed on the base material comprises a plating step for making a plating bath act on a film formation surface 11A of the base material 11.例文帳に追加
本発明の方法は、基材11と当該基材上に形成されためっき膜12とを有する記録媒体基板10を製造するためのものであり、基材11の膜形成対象面11Aにめっき浴を作用させるめっき処理工程を含む。 - 特許庁
To provide a method and apparatus for treating wastewater whereby the quality of membrane-separated sludge is improved; the concentration dependence of filtration pressure in membrane separation is reduced and so is the formation of a cake layer on a membrane surface; and thus, the membrane separation performance can be enhanced.例文帳に追加
膜分離される汚泥の性質を改善し、膜分離の際におけるろ過圧力の濃度依存性の緩和及び膜面におけるケーキ層形成の緩和を図り、もって膜分離性能を向上させることができる汚水の処理方法および装置を提供する。 - 特許庁
Electrostatic latent images are formed on the surface of a photoreceptor 4 and are developed in accordance with a color order of electrostatic latent image formation and development, which is arbitrarily set and is stored in a non-volatile memory, and thus an image of higher image quality is printed.例文帳に追加
任意に設定され、不揮発性メモリに記憶された静電潜像の形成とその現像との色順に従って、感光体4の表面に静電潜像の形成及び静電潜像の現像を行うことにより、より高画質な画像を印刷する。 - 特許庁
The method for manufacturing a substrate includes an element formation step (b) of forming an element on at least one surface of a film containing an aromatic polyether polymer of which a glass transition temperature (Tg) measured by differential scanning calorimetry (DSC, programming rate 20°C/min) is 230 to 350°C.例文帳に追加
(b)示差走査熱量測定(DSC、昇温速度20℃/分)によるガラス転移温度(Tg)が230〜350℃である芳香族ポリエーテル系重合体を含むフィルムの少なくとも一方の面に素子を形成する素子形成工程を含む基板の製造方法。 - 特許庁
A copper tape is formed into a corrugated prescribed cylindrical pipe 4" of elliptical cross section, and then slots 2 are successively provided to the wall surface of the pipe 4" at a prescribed pitch in the length direction by a laser beam machine 17 for the formation of a conductor 1.例文帳に追加
銅テープから凹凸波を有する所定筒型横断面形状の偏平パイプ体4″を形成し、その後、該偏平パイプ体4″の壁面にレーザー加工機17によりスロット2を長手方向所定ピッチで順次形成し導体1を作製するものである。 - 特許庁
In the process for fabricating a solid electrolytic capacitor element comprising a step for forming a masking on a part of a positive electrode substrate having a dielectric film on the surface to section that surface, and forming a solid electrolyte layer in at least a partial region on the surface of the positive electrode substrate sectioned by masking, a step performing formation processing in a region including the fringe of masking after forming the masking is included.例文帳に追加
表面に誘電体皮膜を有する陽極基材の一部にその表面を区画するようにマスキングを形成し、マスキングで区画された陽極基材表面の少なくとも一部の領域に固体電解質層を形成する工程を含む固体電解コンデンサ素子の製造方法において、前記マスキングの形成後にマスキングの縁部を含む領域に化成処理を施す工程を含むことを特徴とする固体電解コンデンサ素子の製造方法。 - 特許庁
A through-hole for the formation of the through electrode is formed by etching from a surface opposite to a cavity, thus suppressing reduction in a junction area by silicon etching of a corner of a junction surface to an upper portion of a cavity sidewall at which resist cannot be formed easily when the through-hole is formed from the side of the cavity, and hence hermetically sealing a stable package.例文帳に追加
前記貫通電極形成のための貫通孔を形成する際に、キャビティーと対向面からエッチングにより形成する事によって、前記キャビティー側から前記貫通孔を形成した際の、レジストが形成しにくいキャビティー側壁上部と接合面の角部のシリコンエッチングによる接合面積の低下を抑制する事ができ、安定なパッケージの気密封止が実現できる。 - 特許庁
There is provided a method of manufacturing a nitride semiconductor laser element comprising: a step of forming a nitride semiconductor layer including a resonator surface at an end portion of a waveguide region; a step of sequentially forming a reflective mirror, a protective film, and a light-absorbing layer on the resonator surface; and an opening formation step of forming an opening corresponding to the waveguide region in the light-absorbing layer.例文帳に追加
導波路領域の端部に共振器面を有する窒化物半導体層を形成する工程と、 前記共振器面上に、反射ミラーと、保護膜と、光吸収層とを順次形成する工程と、 前記光吸収層に前記導波路領域に対応する開口部を形成する開口部形成工程とを具備する窒化物半導体レーザ素子の製造方法。 - 特許庁
The surface processed aluminum nitride powder is obtained by bringing aluminum nitride powder obtained by a reduction nitriding process in which alumina powder is reduced and nitrided in the presence of carbon powder into contact with a surface treatment agent for inorganic oxide coating formation in a state of including carbon remaining after the reaction, and by forming inorganic oxide coating and removing the carbon powder via heat treatment.例文帳に追加
カーボン粉末の存在下にアルミナ粉末の還元窒化を行う還元窒化工程より得られる窒化アルミニウム粉末を、反応後の残存カーボンを含んだ状態で、無機酸化物皮膜形成用の表面処理剤と接触させ、さらに加熱処理して、無機酸化物被膜の形成とカーボン粉末の除去を行うことにより、表面処理された窒化アルミニウム粉末を得る。 - 特許庁
The method of manufacturing the die that has a texture structure for printing on a surface of a die substrate, used for manufacturing the base structure of a transparent insulating substrate with the base structure used for the photoelectric conversion element, includes a step of performing a CVD film formation on an initial texture structure after a step of forming the initial texture structure on the surface of the die substrate.例文帳に追加
光電変換素子に用いる下地構造付透明絶縁基板の下地構造の製造に用いる、金型基板の表面に印刷用テクスチャ構造を有する金型の製造方法であって、前記金型基板の表面に初期テクスチャ構造を形成する工程の後に、初期テクスチャ構造上にCVD製膜を行う工程を含むことを特徴とする金型の製造方法。 - 特許庁
A method of manufacturing the solar cell element 10 has a substrate preparation step for preparing a semiconductor substrate 1 having a p-type semiconductor layer, a surface treatment step for exposing the surface of the p-type semiconductor layer to plasma which is formed by using gas containing nitrogen atoms, and a layer formation step for forming a passivation layer 7 on the p-type semiconductor layer exposed to the plasma.例文帳に追加
また、p型半導体層を有する半導体基体1を準備する基体準備工程と、前記p型半導体層の表面を、窒素原子を含むガスを用いて形成されるプラズマに曝す表面処理工程と、前記プラズマに曝した前記p型半導体層の上にパッシベーション層7を形成する層形成工程とを有する太陽電池素子10の製造方法。 - 特許庁
Moreover, a manufacturing method of an energy transfer device that includes providing preparation of a heat pipe and formation of an interior coating to the interior surface of at least a portion of the heat pipe, the interior coating comprising at least one of the properties selected from chemically inert, liquid phobic, stable at high temperature, of low porosity and of low surface energy.例文帳に追加
また、ヒートパイプの用意およびヒートパイプの少なくとも一部の内面への内面コーティングの形成を含むエネルギ伝達装置の製造方法であって、前記内面コーティングは化学的不活性、疎液性、高温安定性、低空孔度、および低表面エネルギから選択される少なくとも一つの性質を備えているエネルギ伝達装置の製造方法が提供される。 - 特許庁
A manufacturing method of a wiring board formed by laminating at least one conductor layer and one resin insulation layer includes a groove formation process in which a groove is formed on a main surface side of the resin insulation layer and Cu paste supply process in which a Cu paste is supplied on the groove and the main surface of the resin insulation layer and the conductor layer is formed with the Cu paste.例文帳に追加
導体層と樹脂絶縁層とがそれぞれ少なくとも1層積層されてなる配線基板の製造方法であって、前記樹脂絶縁層の主面側に溝部を形成する溝部形成工程と、前記溝部及び前記樹脂絶縁層の主面上にCuペーストを供給し、このCuペーストから前記導体層を形成するCuペースト供給工程と、を備える。 - 特許庁
In a resin sealed semiconductor device of a stacked structure as an MCP, the resin layer of a resin composition including cyclic olefin-based resin (A) having an epoxy group and a photo-oxidation agent (B) provided on the circuit component formation surface of a semiconductor chip, and the rear surface of another semiconductor chip to be laminated on the semiconductor chip is directly contacted with the resin layer.例文帳に追加
エポキシ基を有する環状オレフィン系樹脂(A)と光酸発生剤(B)を含む樹脂組成物の樹脂層を半導体チップの回路素子形成面上に有し、かつ該半導体チップ上に積層する別の半導体チップの裏面が該樹脂層に直接接触していることを特徴とするスタックド構造のMCP(マルチチップパッケージ)の樹脂封止型半導体装置。 - 特許庁
The resistance element is manufactured by forming a resistance-adjusting trench 7 by laser beam application in the resistance body 3 of a resistance element 6 formed on the surface of an insulator substrate 1 constituted mainly of resin, and a laser beam blocking member 4 is arranged on the surface of the insulator substrate 1 at a location planned for the formation of the trench 7.例文帳に追加
本発明の応力センサを構成し得る抵抗素子6の製造法は、樹脂を主成分とする絶縁基板1面上に形成した抵抗素子6の抵抗体3に対し、レーザ照射による溝7形成を施して抵抗値を調整する過程を経る抵抗素子6の製造法において、前記溝7形成部分に対応する絶縁基板1面に、レーザ通過阻害部材4が配される。 - 特許庁
To provide a substrate processing device and a substrate processing method which can suppress formation of a water mark in a surface of a substrate to be processed and corrosion of a copper interconnection exposed in a surface of the substrate to be processed when the substrate to be processed such as a semiconductor wafer is subjected to cleaning treatment by cleaning liquid containing hydrofluoro ether.例文帳に追加
半導体ウエハ等の被処理基板に対してハイドロフルオロエーテルを含む洗浄液により洗浄処理を行う際に、当該被処理基板の表面にウォーターマークが形成されたり、あるいは被処理基板の表面で露出している銅配線が腐蝕してしまったりすることを抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a wall surface structure allowing easy formation of an aid benefiting an old person or a physically handicapped person, and by forming it in a state not protruding from a wall surface, providing superior design, preventing a hazard of carelessly colliding one's body and hurting oneself, and eliminating a concern of narrowing an entrance or blocking an opening and closing operation.例文帳に追加
高齢者や身体障害者にとって有益な手掛りを容易に形成することができると共に、該手掛り部が壁面から突出しない状態で形成することができ、以って、意匠的にも優れ、また、不用意に身体が衝突して怪我をする危険性もなく、さらには、出入り口を狭めたり開閉操作の邪魔となる心配もない壁面構造を提供する。 - 特許庁
A formation method of a silicone oxide film comprises a step of depositing a polysilicon film on a substrate and a step of forming the silicon oxide film on the surface of the polysilicon film by exposing the surface of the polysilicon film to an atomic oxygen O* formed by exciting a plasma with a microwave to a mixed gas composed of a gas including oxygen and an inert gas mainly composed of a Kr gas.例文帳に追加
シリコン酸化膜の形成方法は、基板上にポリシリコン膜を堆積する工程と、 前記ポリシリコン膜の表面を、酸素を含むガスとKrガスを主体とする不活性ガスとよりなる混合ガスにマイクロ波によりプラズマを励起することで形成される原子状酸素O*に曝すことにより、前記ポリシリコン膜の表面にシリコン酸化膜を形成する工程とよりなる。 - 特許庁
The surgical fastener comprises a backspan for regulating the upper surface, the lower surface, and a pair of the side surfaces; a pair of legs dangling from the backspan; and a contact pad on the backspan, wherein at least one of the pair of legs is designed to contact with the contact pad to provide a formation index.例文帳に追加
外科手術用ファスナーであって、 バックスパンであって、上部表面、下部表面、および1対の側部表面を規定する、バックスパン; 該バックスパンからぶら下がる1対のレッグ;ならびに 該バックスパン上の接触パッド、を備え、該1対のレッグのうちの少なくとも一方は、該接触パッドと接触して、成形の指標を提供するように構成されている、外科手術用ファスナー。 - 特許庁
The aqueous solution is contacted with a heat transfer surface in a heat of formation exchanger 1 for producing the hydrate slurry by cooling the aqueous solution and nuclear particles, becoming nucleus, are contacted with the aqueous solution to contact the nuclear particles immediately with the minute part of the aqueous solution under the supercooling condition on the heat transfer surface and eliminate the supercooling thereby producing the hydrate slurry.例文帳に追加
水溶液を冷却して水和物スラリーを生成する生成熱交換器1内で水溶液を伝熱面に接触させて冷却するとともに、この水溶液に核となる核粒子を接触させ、伝熱面で過冷却状態となっている水溶液の微小部分に直ちに核粒子を接触させて過冷却を解消して水和物粒子を生成する。 - 特許庁
The manufacturing method includes a process of etching the first and second surfaces of a semiconductor board oppositely disposed to each other using an acid solution, a process of forming a protective film on the first surface of the semiconductor board after the etching with the acid solution, and a process of etching the second surface of the semiconductor board with an alkaline solution after the formation of the protective film.例文帳に追加
半導体基板の第1の面および第1の面の反対側にある第2の面を酸溶液を用いてエッチングする工程と、酸溶液を用いたエッチング後に半導体基板の第1の面上に保護膜を形成する工程と、保護膜の形成後に半導体基板の第2の面をアルカリ溶液を用いてエッチングする工程とを含む太陽電池の製造方法である。 - 特許庁
To provide a conductive transfer film adapted to transfer a conductive layer to the surface of a substrate of every kind being a receiving material through an adhesive layer, dispensing with pretreatment such as the formation of a release layer, special surface treatment or the like required heretofore with respect to a transfer support being the constituent member of a transfer film and excellent in production cost or mass productivity.例文帳に追加
接着剤層を介して被転写体である各種基体表面に導電層を転写する導電性転写フィルムにおいて、転写フィルムの構成部材である転写用支持体に対して、従来は必要であった、剥離層形成や特殊表面処理などの前処理を必要とせず、生産コストや量産性に優れる、導電性転写フィルムの提供。 - 特許庁
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