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surface setの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7567件
When the laser beam is irradiated along the part 51b on the recessed region surface (r2), the condensing point is set at the outside of the machining object.例文帳に追加
凹領域面r2上の部分51bに沿ってレーザ光を照射する際には、加工対象物の外部に集光点を合わせる。 - 特許庁
The total opening area of the pores 7 is set to 1 to 5% of the surface area of the back flow L2 of the pipe 6.例文帳に追加
小孔7の総開口面積を前記アウトレットパイプ6の逆流部L2の表面積の1%以上かつ5%以下にする。 - 特許庁
The rear of the power chip lead frame 2a is set closer to the outer surface of a molding resin than that of the integrated circuit chip lead frame 2c.例文帳に追加
パワーチップ用リードフレーム2aの裏面が、集積回路チップ用リードフレーム2cの裏面よりもモールド樹脂の外面に接近している。 - 特許庁
Moreover, an annular body is disposed on the surface of the substrate, so that the light emitting chip set, the gold wires and the metallic circuit are enclosed therein.例文帳に追加
さらに、発光チップセット、金線および金属回路がその中に封入されるように、環状体がサブストレートの表面に配置される。 - 特許庁
An outside diameter Dy_4 of the alloy 3B is set to be smaller than the outside diameter of the convex lens manufactured by convex surface polishing of the lens base material 1.例文帳に追加
アロイ3Bの外径Dy_4 は、レンズ基材1の凹面研磨によって製作されるプラスレンズの外径より小さく設定されている。 - 特許庁
To provide an elastomer composition having excellent moldability, surface properties of a molding product, mechanical strength and oil resistance, and small compression set.例文帳に追加
成形性、成形品の表面性、機械的強度、耐油性に優れ、かつ圧縮永久歪みが小さいエラストマー組成物の提供。 - 特許庁
At least one area 12 in which an opening 4 should be formed in a semiconductor substrate 1 is set on the surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板1中に開口部4を形成すべき少なくとも1つの領域12を、半導体基板表面上に設定する。 - 特許庁
Further, a portion combined with the encoder 4 is set to have a rough surface with approximately 1.0 to 1.5 Ra so as to secure combination strength.例文帳に追加
これに対して、上記エンコーダ4を結合する部分を1.0〜1.5Ra程度の粗面として、上記結合強度を確保する。 - 特許庁
The number of nickel grains on the surface of a nickel plating layer 9 applied to a wiring conductor 2 is set to be not smaller than 10 per 100 μm^2.例文帳に追加
配線導体2に被着させたニッケルめっき層9表面のニッケル結晶粒の粒子数を100μm^2あたり10個以上とした。 - 特許庁
At this time, a supply amount of the chloride silane gas 18 is set to 200 μmol/min or more per 1 cm^2 of the surface of the substrate 6.例文帳に追加
このときの塩化シランガス18の供給量を、基板6の表面1cm^2当たり200μmol/分以上とする。 - 特許庁
And also the painting work for forming the hard-coat film 29 can be done at the exterior surface of the lens when the lens is set to the painting tool.例文帳に追加
また、塗装用治具にレンズがセットされた時にレンズの外側にハードコート膜29を形成するための塗装を実施可能とする。 - 特許庁
High frequency power for use in surface wave excitation plasma treatment is set low by performing radical film formation using argon gas.例文帳に追加
また、アルゴンガスを用いたラジカル成膜を行うことで、表面波励起プラズマ処理に使用する高周波電力を低電力とする。 - 特許庁
At the electrolyte/electrode assembly 26, a surface area of the cathode electrode 22 is set to be smaller than that of the anode electrode 24.例文帳に追加
電解質・電極接合体26では、カソード電極22の表面積がアノード電極24の表面積よりも小さく設定される。 - 特許庁
Absolute calibration data for the sphericity of the surface 13a is obtained from the third set of measured interference data and the first and second sets of absolute calibration data (process 3).例文帳に追加
これと第1、第2の絶対校正データとから被検面13aの真球度の絶対校正データを得る(第3の手順)。 - 特許庁
The set of interpolation points includes at least one interpolation point (872) on a boundary surface (1020) determined by a coloring agent boundary.例文帳に追加
前記補間点のセットは、着色剤境界によって画定される境界面(1020)における少なくとも1つの境界点(872)を含む。 - 特許庁
The depth of the frost 19 formed by applying a frost treatment to a surface of a bulb 12 made of quartz glass is set to around 4 μm or over.例文帳に追加
石英ガラス製のバルブ12の表面にフロスト加工を施して形成されたフロスト19の深さを4μm超程度とする。 - 特許庁
The exposure part of the paper is restricted into a small portion for measuring the surface roughness of the paper using a support table of the paper and a window set sheet.例文帳に追加
紙の表面粗さを測定するために、紙の支持テーブルと窓付きセットシートを用いて、紙の露出部を小さく制限する。 - 特許庁
A maximum height Rz of surface roughness of an outer package can 2 at a joining part with an outer package cover 7, is set to be 0.2 μm or more.例文帳に追加
外装カバー7との接合箇所における外装缶2の表面粗さの最大高さRzを、0.2μm以上に設定する。 - 特許庁
A measuring window 24 is opened on the center of the sample stand 23, and the sample 22 is set on the sample stand 23 so that the emission surface faces downward.例文帳に追加
試料台23中央には測定窓24が開口され、試料22は試料台23上に発光面を下に向けてセットされる。 - 特許庁
The clearance δ2 is set smaller than clearance δ1 between the outer peripheral surface of the rotor shaft 1 and an inner race 6a of the protective bearing 6.例文帳に追加
隙間δ_2は、ロータシャフト1の外周面と保護ベアリング6の内輪6aとの隙間δ_1よりも小さく設定されている。 - 特許庁
To provide a surface inspection method and a device enabling even an unskilled person to set the optimum inspection condition simply and easily.例文帳に追加
熟練者でなくても、簡単かつ容易に最適の検査条件を設定できる表面検査方法および装置を提供する。 - 特許庁
The length of an arc of the circular-arc surface part 15 in the semi-circular cylinder is set suitably shorter than the thickness of the floor tile 2a.例文帳に追加
また半円柱における円弧面部分15の弧長が当該置敷タイル2aの厚みより適宜短い寸法に設定する。 - 特許庁
To provide a reversible floor surface structure and a set for execution of a floor plate which can prevent the float and sink variation of each reversible flooring.例文帳に追加
各リバーシブル床材の浮き沈みを防止することのできるリバーシブル床面構造および床板施工用セットを提供すること。 - 特許庁
On the surface where the chassis 21's liquid crystal display screen 22 is laid, a menu key 25a or 25b is set as an operation button for mail receiving.例文帳に追加
また、筐体21の液晶表示画面22が設置される面に、メール受信用の操作ボタンとしてメニューキー25aまたは25bを設置する。 - 特許庁
A movement target position 54 is set to the position being point symmetrical to the left leg with regard to the projected position of the virtual center of gravity to the ground surface.例文帳に追加
仮想重心の接地面への投影位置に関して左足と点対称の位置に移動目標位置54を設定する。 - 特許庁
The chip rear is set as an upper surface and exposed, and application to a BGA(ball grid array) type chip, which is mounted on a circuit board, is suitably enabled.例文帳に追加
さらに、チップ裏面を上面にして露出させ、回路基板に搭載されるBGA(Ball Grid Array) タイプのチップなどに用いて最適である。 - 特許庁
The set base 50 for the wheel is turnably supported in a horizontal surface by fitting a cylinder part 52 onto the strut 51 from outside.例文帳に追加
ホイール用セット台50は支柱51に筒部52が外側から嵌合することで水平面内で回動可能に支持されている。 - 特許庁
A plurality of groove forming parts 13f, which are divided in a first direction, are set on the main surface of a groove forming member 11 of a nozzle element 3.例文帳に追加
ノズル装置3の溝形成部材11の主面に複数の溝形成部13fを第1方向に分割して設定する。 - 特許庁
To provide a footplate so improved that an operator can safely get on and off, which footplate is set at a lower position than the floor surface of an operating part.例文帳に追加
コンバインの操縦部の床面よりも低い位置に設ける乗降用ステップを、オペレータが安全に乗降できるように改良する。 - 特許庁
The hair washing tub 21 can be set slidably by an installing means (a guide part) 17 of the hair washing tub arranged on the upper edge surface of the bathtub 10.例文帳に追加
洗髪槽21は浴槽10の上縁面に配設される洗髪槽の取付手段(ガイド部)17により摺動して設置される。 - 特許庁
The thickness of the coating layer is almost equal to the average particle size of the pigment and set to a degree slightly projecting the pigment from the surface of the coating layer.例文帳に追加
塗布層の厚さはこの顔料の平均粒径とほぼ等しく、顔料が層表面から若干突出する程度である。 - 特許庁
Thus, the keyboard surface of the portable telephone set is quickly moved vertically and horizontally to the thumb by two fingers.例文帳に追加
これにより指2本で携帯電話機のキーボード面を親指に対して上下左右に素早く動かせるようにしたことを特徴とする。 - 特許庁
A scintillator layer 12 of ZnS (Ag) or the like is set on a surface of a wrapping film 10 for covering a sample face 20a of the smear filter paper 20.例文帳に追加
スミヤろ紙20の試料面20aを覆うラッピングフィルム10の表面にZnS(Ag)などのシンチレータ層12を設ける。 - 特許庁
Then, when the filtering flow rate becomes lower than a set flow rate (YES in S04), the membrane surface is washed (S08).例文帳に追加
そして、濾過流量が設定した流量よりも少なくなると(S04でYESとなると)、膜面を洗浄する処理を行う(S08)。 - 特許庁
That is, by changing the surface ratio between the opening section 521 and the non-opening section 522, the transmission factor of the dummy half mirror can be set freely.例文帳に追加
即ち、開口部521と非開口部522との面積比を変えることにより、擬似ハーフミラーの透過率を任意に設定できる。 - 特許庁
To set the needle perpendicular to the mounting surface of the needle, a series of operations in the case of using the drawing pin is conducted.例文帳に追加
針を針の取付け面に対し垂直にするには、手動又はこの画鋲を使用する際の一連の動作によるものとする。 - 特許庁
The sun had just set, the sea breeze was rustling and tumbling in the woods and ruffling the grey surface of the anchorage; 例文帳に追加
ちょうど日が沈み、海風が森の中を吹き抜け、ガサガサ音をたて木々を揺り動かし、停泊場所の薄暗い水面を波立たせていた。 - Robert Louis Stevenson『宝島』
A control unit 3 contrasts the detected distance between the circumferential end surface of the substrate W and the treatment liquid nozzles 115, 116 with a set distance between the circumferential end surface of the substrate W to the treatment liquid nozzles 115, 116 to be set in a recipe so that it may be a desired circumferential edge etching width EH, thereby calculating a positional deviation amount between the detected distance and the set distance.例文帳に追加
制御ユニット3は検出された基板Wの周端面と処理液ノズル115,116との間の距離と、所望の周縁エッチング幅EHとなるようにレシピに設定される、基板Wの周端面から処理液ノズル115,116までの設定距離とを対比して検出距離と設定距離との間の位置ずれ量を算出する。 - 特許庁
To provide electronic equipment in which the first back surface of a display which is opposite to its first surface can be opposed to the second back surface of a body which is opposite to its second surface while making a display screen large in size and an angle formed of the second surface of the body and the first surface of the display can be set at a prescribed obtuse angle.例文帳に追加
表示画面のサイズを大きくしつつ、表示部の第1の表面とは表裏逆側の第1の裏面と、本体部の第2の表面とは表裏逆側の第2の裏面とを対向させることが可能であると共に、本体部の第2の表面と表示部の第1の表面とのなす角を所定の鈍角とすることが可能な電子機器を提供する。 - 特許庁
In the developing sleeve having directionality in the rotating direction and having a surface-prepared part that has been subjected to surface treatment for conveying a developer composed of a toner and a carrier, and surface-prepared parts that have not been subjected to the surface treatment, and are provided on both sides of the surface-prepared part, recessed grooves that set continuous in the circumferential direction, being formed on one of the surface-prepared parts.例文帳に追加
トナーとキャリアからなる現像剤を搬送するための表面処理が施された表面処理部と、該表面処理部の両側に設けられ、前記表面処理が施されていない非表面処理部とを備え、回転方向の方向性を有する現像スリーブにおいて、一方の前記非表面処理部に、周方向に連続した凹溝を形成した。 - 特許庁
The uppermost part of the opposed surface part 56 is formed in an arc shape about a rivet axis 50, and the clearance between the uppermost part of the wall surface 52 and the uppermost part of the opposed surface part 56 is set to the minimum clearance in any rotating position of the wiper blade 48.例文帳に追加
対面部56の最上部をリベット軸50を中心とした円弧形状に形成して壁面52の最上部と対面部56の最上部のクリアランスをワイパブレード48の任意の回動位置において上記最小のクリアランスとする。 - 特許庁
An area reducing region 50 having an initial contact surface set to an area smaller than that of a leading end contact surface is provided to the leading end part of the protruded fusin-bonding rib 42 provided to the second joining scheduled surface 38 provided to a resin insert member 30.例文帳に追加
樹脂材質のインサート部材30に設けた第2接合予定面38に突設した溶着リブ42の先端部に、先端当接面の面積より小さい面積に設定された初期当接面を有する面積減少領域50を設ける。 - 特許庁
Thus, the surface of the electrode pad 4 is made a relatively smooth surface, and thereby, the contact surface of a metal wire 7 with the electrode pad 4 can be secured sufficiently, and the yield at the bonding can be set to a high value of 94.5% or more.例文帳に追加
このように電極パッド4表面を比較的滑らかな面とすることで、金属ワイヤ7と電極パッド4との接触面積を十分に確保することが可能となり、ボンディング時の歩留りを94.5%以上と高い値にすることができた。 - 特許庁
A temperature of a temperature-controlled ceramic liner 102 adjacent to a surface of a chamber 100 is set to facilitate reduction of formation of deposits on the surface of the liner 102 and removal of deposits from the surface of the liner 102 during a semiconductor substrate treatment.例文帳に追加
チャンバ100表面近傍の温度制御付きセラミックのライナ102の温度は、半導体の基板処理中にライナ102表面上の堆積物形成の低減やライナ102表面から堆積物除去の促進を目的に設定される。 - 特許庁
Also, the surface of a front and back direction control plate 32 is worked into a regularly or irregularly curved surface 320, the tip of the wheel rod 220 is moved along the wavy surface 320 and a massage wheel set 22 is swung back and forth and performs the action of massage.例文帳に追加
又前後方向コントロール板32はその表面が規則的あるいは非規則的曲線面320に加工され、車棒220の先端がこの波形面320に沿って移動し、按摩車組22は前後に揺れ動いてマッサージの作用をする。 - 特許庁
In an inside surface of the plunger 25 facing the magnetic delivery part 36 of the yoke 35, a counter surface 62 is set, so that magnetism is delivered from the yoke 35 energized by the solenoid 16 through the guide member 34 and the counter surface 62 to the plunger 25.例文帳に追加
前記ヨーク35の磁気受渡部36に対向したプランジャ25の内側面に対向面62を設定し、ソレノイド16で励磁されたヨーク35からガイド部材34及び対向面62を介してプランジャ25へ磁気の受け渡しを行う。 - 特許庁
There are used a 4H-SiC substrate 31 where the principal surface is composed of {0001} surfaces in general with off-angle α, and a trench formation device where the standard deviation is set up at σ in the variation of the angle settled by the trench side wall surface and the substrate principal surface in the wafer.例文帳に追加
主面が概ね{0001}面であり、かつオフ角αを有する4H−SiC基板31と、トレンチ側壁面と基板主面とのなす角度のウェハ面内におけるばらつきの標準偏差がσとなるトレンチ形成装置を用いる。 - 特許庁
The bonding layer 71 so has a first principal surface 75 bonded to the substrate principal surface 52, and so has a second principal surface 74 of an element mounting portion 56 being set thereto whereon a semiconductor circuit element 21 is mounted as to dispose conductor columns 72 in its via holes 76.例文帳に追加
接着層71は、基板主面52上に接着する第1主面75、及び半導体回路素子21が搭載される素子搭載部56が設定された第2主面74を有し、ビア孔76内に導体柱72が設けられる。 - 特許庁
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原題:”Treasure Island ” 邦題:『宝島』 | This work has been released into the public domain by the copyright holder. This applies worldwide. (C) 2000katokt プロジェクト杉田玄白(http://www.genpaku.org/)正式参加作品 本翻訳は、この版権表示を残す限りにおいて、訳者および著者にたいして許可をとったり使用料を支払ったりすることいっさいなしに、商業利用を含むあらゆる形で自由に利用・複製が認められる。 |
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