「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(100ページ目) - Weblio英語例文検索

The effervescent food is obtained by passing through a step of melting solid fat or solid fat which contains effervescent ingredients including carbonate and acid, spraying the product to food to be the central layer, and cooling the product to form an oil and fat layer; and a step of warming the oil and fat layer, and coating the melted surface of the fat layer with effervescent-ingredient-containing powder.例文帳に追加

発泡性食品は、固形脂又は炭酸塩と酸とからなる発泡性成分を含んだ固形脂を溶解後、中心層となる食品に対して噴霧、冷却して油脂層を形成する工程と、前記油脂層を加温し、その表層が溶融したところへ発泡性成分を含む粉末をコーティングする工程を経て得られる。 - 特許庁

The step of forming the trench etching pattern on the substrate substantially further includes depositing the silicon nitride film on the substrate on which a pad oxidation film is formed, patterning, and forming a thermal oxidation film on the inner wall surface by an annealing so as to repair etching damages between the step of forming the trench and the liner.例文帳に追加

本発明で、基板にトレンチエッチングパターンを形成する段階は、通常、パッド酸化膜が形成された基板にシリコン窒化膜を積層し、パターニングして実施され、トレンチを形成する段階とライナを形成する段階の間に、トレンチの内壁にエッチング損傷を修復するためのアニーリングによって熱酸化膜が形成される段階をさらに含むことができる。 - 特許庁

A manufacturing method of a bonded silicon wafer includes a thinning step of thinning one wafer to 0.1 μm or higher and 20 μm or lower after adhesion and an internal oxygen sucking step of removing a junction interface oxide by sucking oxygen from the vicinity of the junction interface by accelerating thickening a surface oxide film via heat treatment in a mixed atmosphere of chlorine and oxygen.例文帳に追加

接着後に一方のウェーハを０．１μｍ以上２０μｍ以下に薄厚化する薄厚化工程と、 塩素・酸素混合雰囲気で熱処理することで、表面酸化膜の増厚を促進することにより接合界面付近からの酸素を吸い上げて接合界面酸化物を除去する内部酸素吸い上げ工程と、を有してなる。 - 特許庁

To obtain an heat exchanging tube having an inner surface structure in which an excellent evaporation efficiency can be attained as compared with prior art or the evaporation efficiency is enhanced, weight of the tube is reduced as compared with prior art, and production cost is reduced depending on the number of times of work step and rolling step.例文帳に追加

内部表面構造を備えた熱交換管において、従来の技術に比べて優れた蒸発効率が得られ、或いは蒸発効率が改善される利点とともに、従来の技術に比べて管が軽量化され、作業ステップおよびローリングステップの回数に応じた生産コストを減少させる利点をももたらす前記熱交換管とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the solid-state image pickup apparatus includes a step of forming a hard mask, having an aperture on the front surface of image pickup area where a plurality of pixels, having photoelectric converting elements are arranged and a step of forming any one of the first, second and third color filter elements within the aperture of hard mask.例文帳に追加

固体撮像装置の製造方法では、光電変換素子を有する複数の画素が配列された撮像領域の表面上に開口部を有するハードマスクを形成する工程と、ハードマスクの開口部内に、第１色目フィルタ成分、または第２色目フィルタ成分と第３色目色フィルタ成分、のいずれかを形成する工程を有する。 - 特許庁

A method of washing a silicon wafer which includes the step of dipping a silicon wafer 12 in an aqueous solution containing a fluoric acid and a surfactant respectively to remove an oxide film of a back surface 12a of the wafer, and the step of dipping the wafer obtained by removing the oxide film in a dissolved ozone aqueous solution 14 to wash both surfaces of the wafer is improved.例文帳に追加

フッ酸及び界面活性剤をそれぞれ含む水溶液１１にシリコンウェーハ１２を浸漬させてウェーハ表裏面１２ａの酸化膜を除去する工程と、酸化膜を除去したウェーハを溶存オゾン水溶液１４に浸漬させてウェーハ表裏面を洗浄する工程とを含むシリコンウェーハの洗浄方法の改良である。 - 特許庁

This method comprises a step for executing a selective etching process using TMAH (Tetra-Methyl-Ammonium-Hydroxide) to form a plurality of trenches with slow inclination of the side surface, and a step for forming a gate pattern at the top of the substrate so that at least the inclination part of the trench acts as a part of a channel.例文帳に追加

本発明は、ＴＭＡＨ（Ｔｅｔｒａ−Ｍｅｔｈｙｌ−Ａｍｍｏｎｉｕｍ−Ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）を用いた選択的エッチング工程を実施し、側面の傾斜が緩慢な複数のトレンチを形成するステップと、少なくとも前記トレンチの傾斜部分がチャネルの一部になるように前記基板上部にゲートパターンを形成するステップとを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the composite photocatalyst film is characterized by having a boehmite film formation step of forming boehmite film 2 on the surface of an aluminum member 1 by performing the hydrothermal pressurization treatment of the aluminum member 1 and a treatment step of suspending particles of anatase type titanium dioxide in a potassium permanganate solution, immersing the boehmite film 2 in the suspension solution and performing the hydrothermal pressurization treatment of them.例文帳に追加

アルミニウム部材１を水熱加圧処理して、アルミニウム部材１表面にベーマイト皮膜２を形成する、ベーマイト皮膜形成工程と、アナタース型の二酸化チタンの粒子を過マンガン酸カリウム溶液に懸濁させ、この懸濁溶液に上記ベーマイト皮膜２を浸漬し、これらを水熱加圧処理する、処理工程と、を有することを特徴としている。 - 特許庁

In a fuel injection valve, a surface layer of at least one (in an embodiment, a valve seat) of mutually abutting parts of a valve element and the valve seat is heated and softened in a step S13, and then the valve element and the valve seat are pressed against each other and the mutually abutting parts are fitted in a step S14.例文帳に追加

燃料噴射弁において、ステップＳ１３において弁体と弁座とが相互に当接する部分のうち少なくともいずれか一方（例えば弁座）の表層を加熱して軟化させる処理を施した後、ステップＳ１４において弁体と弁座とを相互に押圧して相互に当接する部分をなじませる処理を施すようにした。 - 特許庁

The method has a step wherein at least the surface temperature of a glass material is cooled in a rate of change calculated by dividing the total temperature variation by the temperature changing time of ≥3°C/sec during a step wherein the glass material is cooled at least to the glass transition point (Tg) after pressing.例文帳に追加

プレス後から少なくともガラス転移点（Ｔｇ）まで冷却する工程の間に、少なくとも表面温度が総温度変化量を温度変化時間で除した値が３℃／秒以上の変化率で、ガラス素材を冷却する工程を有するので、例えば、成形温度からガラス転移点（Ｔｇ）まで３０℃あるとすると、１０秒程度で徐冷ができる。 - 特許庁

This method of manufacturing the slit which forms an electron beam in a desired shape is provided with a cavity-forming step in which a cavity is formed in the substrate surface, and a through-hole-forming step in which a through hole smaller than the bottom face of the cavity is formed in the bottom face of the cavity with an anisotropic wet etching from the backside of the substrate.例文帳に追加

電子ビームを所望の形状に成形するスリットを製造するスリット製造方法であって、基板の表面に溝部を形成する溝部形成段階と、基板の裏面から、溝部の底面に、溝部の底面の大きさより小さい貫通孔を、異方性ウェットエッチングにより形成する貫通孔形成段階とを備える。 - 特許庁

The method includes at least a step of bringing a compound having a functional group which is to be fixed to the surface of a substrate 1 via a siloxane coupling and a functional group developing a function into contact with the substrate 1 to fix the compound to the substrate, and a step of heating and vaporizing the compound not fixed to the substrate 1 in an atmosphere 4 of 200°C for 10 minutes.例文帳に追加

シロキサン結合を介して基板１表面に固定化する官能基と、機能を発現する官能基とを有する化合物を接触させることで、基板１にその化合物を固定化する工程と、基板１に固定化していない化合物を２００℃雰囲気４で１０分加熱し蒸発する工程を少なくとも含むものである。 - 特許庁

The method includes: a step for two-dimensionally forming a plurality of photoelectric conversion parts 303 with respect to a substrate 301 along its one main surface; and a step for forming the lamination film interference filter 306 by alternately laminating films 401, ..., 411 and films 402, ..., 412, having mutually different reflectivities, in the upper part of each of the plurality of photoelectric conversion parts 303.例文帳に追加

基板３０１に対し、その一方の主面に沿って複数の光電変換部３０３を二次元形成するステップと、複数の光電変換部３０３の各々の上方に、互いに屈折率の異なる膜４０１、・・、４１１と膜４０２、・・、４１２とを交互に積層して積層膜干渉フィルタ３０６を形成するステップとを有する。 - 特許庁

This manufacturing method of glass substrate for a magnetic disc has a texture treatment step to form a linear texture on the main surface of a glass plate, formed into a disc in its circumferential direction using a tape by supplying diamond slurry, following a chemical strengthening step, to chemically increase the mechanical strength of the glass substrate.例文帳に追加

磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、磁気ディスク用ガラス基板の機械的強度を化学的に強化する化学強化工程の後に、円形状に成形加工されたガラス板の主表面にダイヤモンドスラリーを供給しながらテープを用いて主表面の円周方向にライン状のテクスチャーを形成するテクスチャー処理工程を行う。 - 特許庁

A crystal semiconductor particle 101 can be produced by repeating a step for introducing a base plate 102 mounting a large number of semiconductor particles 101 on the upper surface into a heating furnace and thermally fusing the semiconductor particles 101, and a step for solidifying the fused semiconductor particles 101 while directing upward from the base plate 102 side two times or more.例文帳に追加

上面に多数個の半導体粒子101を載置した台板102を加熱炉内に導入し、半導体粒子101を加熱して溶融させる工程と、この溶融した半導体粒子101を台板102側から上方に向けて固化させる工程とを、２回以上繰り返すことによって結晶半導体粒子101とする結晶半導体粒子の製造方法である。 - 特許庁

The silica is preferably produced by a production method including: a step of preparing silica having a controlled content of isolated silanol groups and a specific surface area into respective specified ranges by firing silica particles obtained through a hydrolysis-condensation reaction of alkoxysilane at 650 to 1,180°C; and a step of introducing an organosilyl group to the silica.例文帳に追加

該シリカはアルコキシシランの加水分解・縮合反応により得られたシリカ粒子を６５０〜１１８０℃で焼成することによって、孤立シラノール基含有量並びに比表面積を所定範囲に制御されたシリカを製造する工程と、該シリカにオルガノシリル基を導入する工程とを有する製造方法により製造することが好ましい。 - 特許庁

The method for manufacturing the capacitor, in which the brazing materials are coasted on at least one surfaces of electrodes formed on both surfaces of a ceramic board comprises a step of laminating and forming an Au layer and an Sn layer on the surface of each of the electrodes, and a step of diffusing the Au layer and the Sn layer to each other by heating to form an AuSn diffused layer.例文帳に追加

セラミック板の両主面に形成された電極の少なくとも一方の表面に、ロウ材が被着されたコンデンサの製造方法であって、ロウ材は、電極の表面にＡｕ層とＳｎ層を積層形成する工程と、加熱によりＡｕ層とＳｎ層を相互に拡散させて、ＡｕＳｎ拡散層を形成する工程とを用いて形成される。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device which comprises the step of forming an offset insulation film 18 to be used when a self-aligning contact is formed with a silicon nitride film 17, this manufacturing method further comprises the step that, before the offset insulation film 18 is formed, a hydrogen stopper layer 16 is formed on a surface in which the offset insulation film 18 is formed.例文帳に追加

セルフアラインコンタクトを形成する際に用いるオフセット絶縁膜１８を窒化シリコン膜１７で形成する工程を備えた半導体装置の製造方法において、オフセット絶縁膜１８を形成する前に、オフセット絶縁膜１８の成膜表面に水素ストッパ層１６を形成する工程を備えた製造方法である。 - 特許庁

The three-dimensional plasma-based ion implantation/deposition method comprises a step for forming an ion implantation layer on the surface of the packing body 1 by ion implantation of a hydrocarbon gas and a fluorine gas in plasma and a step for forming the diamond-like carbon thin film on the ion implantation layer by ion deposition of the hydrocarbon gas and the fluorine gas in plasma.例文帳に追加

三次元プラズマイオン注入成膜法は、炭化水素ガスおよびフッ素ガスのプラズマ中でのイオン注入によりパッキン本体１の表面にイオン注入層を形成する工程と、炭化水素ガスおよびフッ素ガスのプラズマ中でのイオン成膜によりイオン注入層上にダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜を形成する工程とを含む。 - 特許庁

This method of manufacturing tampons 20 having an absorber for absorbing a liquid includes: a step of obtaining the absorber by compression molding 102 an absorber material 60; and a step 110 of coating the outer surface of the absorber, the temperature of which is a freezing point of the principal component of the formulation or lower, with a molten formulation.例文帳に追加

液体を吸収する吸収体を有するタンポン２０の製造方法であって、吸収体材料６０を圧縮成型１０２することにより前記吸収体を得るステップと、溶融した製剤を、該製剤の主成分の凝固点以下の温度である前記吸収体の外表面に塗工するステップ１１０と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing the oxide superconducting film, which forms a thick oxide superconducting film by repeating: a thin film forming step of forming an oxide superconducting thin film on a substrate by using a physical vapor deposition method, and repeating the process to form a film having a predetermined thickness; and a smoothing step of smoothing a surface of the formed oxide superconducting thin film.例文帳に追加

基板上に物理蒸着法を用いて酸化物超電導薄膜を形成することを繰り返して所定の厚みの成膜を行う薄膜成膜工程と、成膜された酸化物超電導薄膜の表面を平滑化する平滑化工程とを繰り返して厚膜の酸化物超電導膜を形成する酸化物超電導膜の製造方法。 - 特許庁

The collecting signal of an image is transmitted to a display in order to shorten the time space between the radiation measurement step and an X ray prospective image display step for inducing equipment in the body of the patient in "real time", and to display the image of the selected area of the patient projected in a parallel surface to the longitudinal axis of the patient.例文帳に追加

画像の収集信号は、放射線測定段階とＸ線透視画像表示段階との間の時間間隔が患者の体内で器具を「リアルタイム」で誘導できる程短くなるように、患者の長手方向軸に平行な平面内に投影された患者の選択領域の画像を表示するために、ディスプレイに伝送される。 - 特許庁

The method of forming an iron silicide film layer 4 or β-FeSi_2 on an Si wafer 1 having a crystal plane (001) on the surface comprises an SiGe layer forming step of epitaxially growing an SiGe layer 2 on the Si wafer, and an iron silicide layer forming step of epitaxially growing the iron silicide layer on the SiGe layer.例文帳に追加

結晶面（００１）を表面に有するＳｉウェーハ１上にβ−ＦｅＳｉ_2の鉄シリサイド層４を成膜する方法であって、前記Ｓｉウェーハ上にＳｉＧｅ層２をエピタキシャル成長するＳｉＧｅ層形成工程と、前記ＳｉＧｅ層上に前記鉄シリサイド層をエピタキシャル成長する鉄シリサイド層形成工程とを有している。 - 特許庁

The process for forming a dielectric thin film comprises a step for rotating an object being coated with material liquid for forming a dielectric thin film, and a step for forming a dielectric thin film by ejecting the material liquid for forming a dielectric thin film to the surface of a rotating object being coated.例文帳に追加

誘電体薄膜形成用液体材料を塗布するための塗布対象物を回転させる工程と、回転している該塗布対象物の表面に該誘電体薄膜形成用液体材料を吐出し、誘電体薄膜を形成する工程と、を備えていることを特徴とする誘電体薄膜の形成方法により解決する。 - 特許庁

In the processing method for a planographic printing plate in which a planographic printing material with at least a silver halide emulsion layer on an aluminum substrate is processed through a developing step and a washing step for removing the silver halide emulsion layer, unused washing water is applied to the resulting plate surface freed of the silver halide emulsion layer.例文帳に追加

アルミニウム支持体上に少なくともハロゲン化銀乳剤層を有する平版印刷材料を、現像工程及び前記ハロゲン化銀乳剤層を剥離除去する水洗工程を通して処理する方法において、前記ハロゲン化銀乳剤層が剥離除去された版面に未使用の水洗液を塗布することを特徴とする平版印刷版の処理方法。 - 特許庁

An execution method for a floor slab waterproofing method comprises a step of superposing a paving adhesive layer by overlaying a laying material for adhesion, which is constituted by molding an active hydrogen-containing synthetic resin with a softening point of less than 60°C, on a urethane-based waterproof material layer, and a step of paving a top surface of the paving adhesive layer with an asphalt mixture.例文帳に追加

本発明の床版防水工法の施工法は、ウレタン系防水材層の上に軟化点が６０℃未満の活性水素含有合成樹脂を成形してなる接着用敷設物を貼り付けて舗装接着剤層を積層する工程と、前記舗装接着剤層の上面にアスファルト合材を舗設する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the element 15 having a transition metal or a thin film 11 made of the alloy thereof formed on a resin substrate 12, has a step (corresponding to a third step in Fig.2) wherein a precursor of the resin substrate 12 is heated and pressurized by a molding mold including a first molding mold 10 having the thin film 11 formed on a molded surface.例文帳に追加

樹脂基材１２上に遷移金属又はその合金からなる薄膜１１が形成された素子１５の製造方法において、樹脂基材１２の前駆体を、成型面に薄膜１１が形成された第１成型型１０を含む成型型で加熱及び加圧する工程（図２では第３工程に相当）を有するものとする。 - 特許庁

The production method of the crystalline polymer microporous membrane has an asymmetric swelling step which makes one surface of a film consisting of a crystalline polymer contact with a swelling solvent to form a semi-swelling film having a crystallinity index gradient formed in the depth direction of the film, and a drawing step for drawing the semi-swelling film.例文帳に追加

結晶性ポリマーからなるフィルムの一方の表面を膨潤性溶剤と接触させて、該フィルムの厚み方向に結晶化度勾配を形成した半膨潤フィルムを形成する非対称膨潤工程と、前記半膨潤フィルムを延伸する延伸工程と、を含むことを特徴とする結晶性ポリマー微孔性膜の製造方法である。 - 特許庁

The method for forming a hydrophilic coating film includes: a first step of removing contaminant of a substrate surface by a glass compound and/or a melamine resin sponge; and a second step of coating (A) metal oxide particles having 1-400 nm number-average particle diameter and (B) coating compositions containing polymer particles on the substrate, and then drying.例文帳に追加

基材表面の汚染物質をガラスコンパウンド及び／又はメラミン樹脂スポンジで除去する第一の工程と、（Ａ）数平均粒子径が１ｎｍ〜４００ｎｍの金属酸化物粒子、（Ｂ）重合体粒子を含むコーティング組成物を、前記基材上に塗布し、その後、乾燥する第二の工程とを含む親水性塗膜の形成方法。 - 特許庁

This method comprises the steps of embedding a conductive metallic material into fine recesses formed in a substrate, such as a semiconductor wafer (step 1), polishing the surface of the metallic material by a mechanical and chemical operation using a working solution (including a polishing solution, a chemical solution and a cleaning solution) from the outermost layer of the buried metal (step 2), whereby an interconnection structure is prepared.例文帳に追加

半導体ウエハ等の基材に設けた微細な凹みに導電性の金属材料を埋込み（工程１）、その後埋込み金属の最外層側から、金属材料表面を作業液（研摩液や薬液、洗浄液を含む）を用いて機械的・化学的作用によって研摩する（工程２）ことによって配線構造を製造する。 - 特許庁

A step 13 is formed on the seal surface 23 of a flange 4 where a flow measuring device comes in contact with a structure 10 having airtight structure, the inside 11 of the step is projected in the direction coming in contact with the structure 10 to the outside 12, and only a part of the inside 11 of the stem is brought into contact with the structure 10.例文帳に追加

流量測定装置が気密構造を有する構造物１０と接するフランジ４シール面２３に段差１３を形成し、段差の内側１１が、外側１２に対して前記構造物１０に接触する方向に凸形状を形成することにより、段差の内側１１の部分だけを前記構造物１０に接触させる構造とする。 - 特許庁

The image forming method includes: a toner image forming step of forming a toner image by using a toner that can develop a color by imparting external simulation thereto; and a fixing and color developing step of fixing the toner image onto a recording medium surface and irradiating the image with light for fixing and color developing that develops a color to thereby form an image.例文帳に追加

外部刺激の付与により発色可能なトナーを用いてトナー像を形成するトナー像形成工程と、前記トナー像に対して、これを記録媒体表面に定着させると共に発色させる定着発色光を照射して画像を形成する定着発色工程とを含むことを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

The manufacturing method includes a step for preparing a semiconductor substrate SUB, and a step for forming a first metal electrode LEL1 having an aluminum layer AC1 on one main surface of the semiconductor substrate SUB, a dielectric layer DEC on the first metal electrode LEL1, and a second metal electrode UEL on the dielectric layer DEC.例文帳に追加

本製造方法は、半導体基板ＳＵＢを準備する工程と、半導体基板ＳＵＢの一方の主表面上に、アルミニウム層ＡＣ１を有する第１の金属電極ＬＥＬ１と、第１の金属電極ＬＥＬ１上の誘電体層ＤＥＣと、誘電体層ＤＥＣ上の第２の金属電極ＵＥＬとを形成する工程とを備える。 - 特許庁

A method of manufacturing a liquid crystal panel having negative permittivity anisotropy includes a step of hermetically sealing a liquid crystal layer 30 between a TFT substrate 10 and a CF substrate 20 through vertical alignment films 11 and 21, and a step of exposing the entire surface of the liquid crystal layer 30 to light while a voltage V is applied between the substrates 10 and 20.例文帳に追加

この液晶パネルの製造方法は、負の誘電率異方性を有する液晶パネルの製造方法であり、ＴＦＴ基板１０とＣＦ基板２０との間に垂直配向膜１１，２１を介して液晶層３０を封止する工程と、基板１０，２０間に電圧Ｖを印加した状態で液晶層３０の全面を露光する工程とを含む。 - 特許庁

A method and an apparatus for preparing inspection samples have each a step of automatically dividing an inspection wafer having a plurality of sets of identifying codes and alignment marks printed at rotationally symmetric positions on the main surface into the same plurality of inspection samples, and a step of detecting the identifying codes of the divided inspection samples and automatically classifying them.例文帳に追加

主面の回転対称な位置に複数組の識別符号及びアライメントマークが印字された検査用ウェーハを、自動で同複数片の検査サンプルに分割する分割工程と、該分割された検査サンプルの識別符号を検出し、自動で仕分けする仕分け工程を有することを特徴とする検査サンプルの作製方法及び同作製装置。 - 特許庁

The method for recycle of an alloy from a used alloy member having an yttrium-containing layer on a surface of a base material consisting of the alloy, includes: an alloy member melting step of melting the used alloy member having the yttrium-containing layer as it is; and an yttrium removing step of removing yttrium oxide separated from and floating on molten metal containing the used alloy member.例文帳に追加

合金からなる母材の表面上にイットリウム含有層を有する使用済み合金部材から、合金をリサイクルする方法であって、使用済み合金部材を、イットリウム含有層を有したまま溶融する合金部材溶融工程と、使用済み合金部材を含む溶湯上に分離浮遊する酸化イットリウムを除去するイットリウム除去工程とを備える。 - 特許庁

The manufacturing method of the spin injection source device performs a step for forming a CaF_2 film 2 by epitaxial growth while the clean surface of the Si substrate 1 is being heated, and a step for forming an Fe_3Si film 5 by a molecular beam epitaxy method for simultaneously applying Si 3 and Fe 4 onto the CaF_2 film 2 at 400°C.例文帳に追加

スピン注入源デバイスの製造方法において、Ｓｉ基板１の清浄表面を加熱した状態で、ＣａＦ_2 膜２をエピタキシャル成長により形成する工程と、次に、前記ＣａＦ_2 膜２上に４００℃でＳｉ３とＦｅ４を同時に照射する分子線エピタキシー法によりＦｅ_3 Ｓｉ膜５を形成する工程とを施す。 - 特許庁

A wavelength of first light emitted from a first light source 20 to be used for observing the vicinity of a water surface in the step for measuring the velocity of the fluid 12 is different from a wavelength of second light emitted from a second light source 30 to be used for observing the vortex 13 in the step for measuring the whole shape of the vortex 13.例文帳に追加

流体１２の速度を計測する工程において水面近傍を観察するために用いる第１の光源２０の発する第１の光の波長と、渦１３の全体の形状を計測する工程において渦１３を観察するために用いる第２の光源３０の発する第２の光の波長とは異なっている。 - 特許庁

The manufacturing method of the two-domain fine particle comprises a first step for dispersing an organic solvent solution containing two kinds of polymers in an aqueous solution of at least one dispersion stabilizer to obtain a liquid drop having two surface domains constituted of the material containing the polymer different from each other and a second step for removing the solvent from the liquid drop.例文帳に追加

少なくとも１種の分散安定剤の水溶液中に、２種のポリマーを含む有機溶媒溶液を分散させて、互いに異なるポリマーを含む材料からなる２つの表面領域を有する液滴を得る第１工程と、液滴から溶媒を除去する第２工程とを含む２領域微粒子の製造方法。 - 特許庁

The operation method of the cell recovery device comprises a step to adsorb the target cell to the surface of the fine magnetic particle by the coating of the cell recovery device placed in the living body and a step to generate magnetic attraction force according to the magnetic field applied from a specific place out of the living body and collect the cells near the specific place.例文帳に追加

また、生体内に配置された細胞回収装置のコーティングにより、磁性微粒子の表面に目的細胞を吸着するステップと、生体外の所定箇所から作用させた磁界に応じて磁界吸着力を発生させ、前記所定箇所近傍に集合させるステップとを含む細胞回収装置の作動方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the carrier includes a dissolving step of dissolving at least a coating material in carbon dioxide in a liquid state and a coating layer forming step of forming a coating layer on the surface of the core material by reducing the solubility of the solution in which the coating material is dissolved, by controlling at least either pressure or temperature.例文帳に追加

液体状態の二酸化炭素中で少なくとも被覆用材料を溶解する溶解工程と、前記少なくとも被覆用材料を溶解させた液を圧力及び温度の少なくともいずれかの制御により溶解度を低下させて、芯材表面に被覆層を形成する被覆層形成工程とを含むキャリアの製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing a polyurethane/polyurea molding having a low weight per unit area and high rigidity comprises a step of coating a surface of a natural fiber mat with a polyol mixed with 10 to 70 wt.% of water and a polyisocyanate, and a step of thermoforming a coated natural fiber mat in a mold heated at 50 to 160°C.例文帳に追加

低い単位面積重量でかつ高剛性なポリウレタン／ポリウレア成形品の製造方法は、（１）天然繊維製マットの表面に、水が１０重量％〜７０重量％配合されたポリオール成分およびポリイソシアネートを塗布する工程、および（２）５０℃〜１６０℃で加熱された型で、塗布された天然繊維マットを熱成形する工程からなる。 - 特許庁

A method of manufacturing a wafer processing apparatus comprises: a step of depositing a film electrode onto the surface of a base substrate; and a step of overcoating the structure with a protective coating film layer comprising at least one of a nitride, a carbide, a carbonitride, and an oxynitride of elements selected from a group consisting of B, Al, Si, Ga, refractory hard metals, transition metals, and combinations thereof.例文帳に追加

ウェーハ加工装置の製造に当たり、ベース基板の表面上にフィルム電極を堆積し、この構造を次にＢ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇａ、高融点硬金属、遷移金属及びこれらの組合せからなる群から選択される元素の窒化物、炭化物、炭窒化物及び酸窒化物の少なくとも１種を含んでなる保護コーティングフィルム層で被覆する。 - 特許庁

The method for forming a photosensitive resin film includes: a step of preparing a photosensitive resin composition to which an ink repellent is added and which shows a difference in surface energy of ≥2 mN/m before and after adding the ink repellent; and a step of forming a photosensitive resin film by applying the photosensitive resin composition on a substrate or a temporary support and carrying out vacuum drying.例文帳に追加

撥インク剤を添加し、撥インク剤の添加後と添加前の表面エネルギーの差が２ｍＮ／ｍ以上となる感光性樹脂組成物を調製する工程と、前記感光性樹脂組成物を基板上又は仮支持体上に塗布し、真空乾燥して感光性樹脂膜を形成する工程とを有する感光性樹脂膜の形成方法とする。 - 特許庁

An engaging portion is formed on at least either the circuit board or the components, the solder melting step and the solder solidification step are executed in a state where the circuit surface is inclined for a horizontal plane, and engageability of the circuit board and the components in the engaging portion makes it possible to limit the movement of the components to the circuit board.例文帳に追加

回路基板および部品の少なくともいずれか一方には、係合部が形成されており、はんだ溶融工程およびはんだ凝固工程は、回路面が水平面に対して傾いた状態で実施され、係合部において回路基板と部品とが係合可能であることにより、回路基板に対する部品の移動が制限される。 - 特許庁