「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(102ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a dicing sheet that has a good contacting property to a reverse surface of a wafer in which only a reverse-surface inner periphery of the wafer is ground to have an annular projection at an outer periphery and then a step is formed between an inner periphery plane and the annular projection, allows adhesion thereto, and securely holds the wafer and a chip during dicing.例文帳に追加

ウエハの裏面内周部のみが研削され、外周部に環状凸部を有し、内周部平面と環状凸部との間に段差が形成されたウエハ裏面に対して、追従性が良く密着して貼付でき、ダイシング時にウエハおよびチップを確実に保持できるダイシングシートを提供すること。 - 特許庁

When necessary processing is performed on the glass substrate and rough polishing and then finish polishing are performed on the surface of the glass substrate, a finish polishing process comprises an ultra-precision polishing step of polishing the surface of the glass substrate by using a polishing liquid (polishing slurry) comprising colloidal silica abrasive grains produced by hydrolysis of an organosilicon compound.例文帳に追加

ガラス基板に必要な加工処理を施し、表面を粗研磨した後に仕上研磨を行う方法において、その仕上研磨工程の中に、有機ケイ素化合物を加水分解することで生成したコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液（スラリー）を用いて研磨する超精密研磨工程を設ける。 - 特許庁

To provide a plastic substrate for display elements having a reflecting surface at the substrate itself by simplifying a manufacturing process step for the reflecting surface of a reflection type liquid crystal display device manufactured by many process steps and adopting plastic for the substrate heretofore made of glass and further the reflection type liquid crystal display using the same.例文帳に追加

多数の工程によって作製されていた反射型液晶表示装置の反射面の製造工程を簡易化すると共に、従来ガラスで作られていた基板をプラスチック化することで、基板自体に反射面をもつ表示素子用プラスチック基板を提供し、さらにこれを用いた反射型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The semiconductor image sensor is most principally characterized in that a surface of a microlens group for condensation is brought into contact with a lower surface of a cover glass 31 in the thinning step of a semiconductor substrate 2 in order to prevent a phenomenon that a principal region of the image sensor where the microlens group 30 etc. are arranged, is pushed toward the cover glass.例文帳に追加

半導体基板２の薄膜化工程で、マイクロレンズ３０群などが配列されているイメージセンサの主要領域がカバーガラス側へ押し込まれる現象を阻止するため、集光のためのマイクロレンズ群の表面をカバーガラス31の下面に接触させることを最も主要な特徴とする。 - 特許庁

During or after the polishing step 2, a chemical conversion treatment is conducted through a contact with an electrolytic solution, either with the surface of the substrate in contact as is with the working solution or immediately after the working solution is removed, whereby the surface of the embedded metallic material is provided with a protective chemical conversion coating.例文帳に追加

研摩工程２の進行中又は完了後に、基材表面を作業液に接触した状態のままか、もしくは作業液を除去した直後に電解液接触による化成処理を行うことによって埋込んだ金属材料表面に保護性の化成皮膜を形成する（工程３）。 - 特許庁

To prevent performance from being lowered due to the leakage of a refrigerant during the normal operation by substantially zeroing the step between the end surface of a piston and the inner surface of the end plate of a fixed scroll in a scroll compressor having an operation capacity control mechanism for opening and closing a communication passage formed in the end plate of the fixed scroll.例文帳に追加

固定スクロール（21）の鏡板（21a）に形成した連通路（32）をピストン（33）（33）で開閉する運転容量制御機構（30）を備えたスクロール圧縮機において、ピストン（33）の先端面（33f）と固定スクロール（21）の鏡板（21a）の内面（21h）との段差を実質的にゼロにして、通常運転時の冷媒の漏れによる性能低下を防止する。 - 特許庁

A manufacturing method includes a polishing step of supplying a polishing liquid containing polishing abrasive grains onto a surface of a glass substrate and polishing the surface of the glass substrate by relatively moving the glass substrate and a polishing pad, wherein the polishing abrasive grain is colloidal silica and the polishing liquid with pH ranging 1-5 and a negative (minus) sign of zeta-potential is used.例文帳に追加

ガラス基板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給し、ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させてガラス基板の表面を研磨する研磨工程を有し、前記研磨砥粒はコロイダルシリカであって、研磨液のｐＨが１〜５の範囲で、ゼータ電位の符号が−（マイナス）である研磨液を使用する。 - 特許庁

The method of manufacturing a solid electrolytic capacitor includes a step (b) to form a dielectric oxide film 3 on the entire surface of a positive electrode 1 and a part of the surface of an anode lead 2 by electrochemical treatment, and steps (c) and (d) to form a conductive high polymer layer 4 on the dielectric oxide film 3.例文帳に追加

固体電解コンデンサの製造方法は、電解化成処理により陽極体１の全表面および陽極リード体２の一部表面に誘電体酸化皮膜３を形成する工程（ｂ）と、誘電体酸化皮膜３上に導電性高分子層４を形成する工程（ｃ），（ｄ）とを備える。 - 特許庁

An oxide film existing on a surface of the first layer and an oxide film existing on a surface of the second layer are resolved at a temperature less than a temperature at which a metal configuring the first electrode is solid-phase diffused and less than a temperature at which a metal configuring the second electrode is solid-phase diffused (step S2).例文帳に追加

前記第１の電極を構成する金属が固相拡散する温度未満、かつ前記第２の電極を構成する金属が固相拡散する温度未満の温度で、前記第１の層の表面に存在する酸化膜及び前記第２の層の表面に存在する酸化膜を還元する（ステップＳ２）。 - 特許庁

According to this manufacturing method, in the spin coating step (C) of spreading an ultraviolet curing resin (44) on a disk substrate (41) by rotating a spin table (2) at a high speed, the ultraviolet curing resin spread to the peripheral edge of the disk substrate is coated up to the peripheral end surface of the disk substrate by an end surface coating means.例文帳に追加

本発明の製造方法では、スピンテーブル（２）を高速回転させてディスク基板（４１）上に紫外線硬化樹脂（４４）を拡がらせるスピンコーティング工程（Ｃ）の際に、ディスク基板の周縁部にまで拡がってきた紫外線硬化樹脂を端面塗布手段によってディスク基板の周端面にまで塗布する。 - 特許庁

The method for manufacturing the support for the lithographic printing plate comprises a roughing step of executing at least one type of roughing treatment on at least one surface of an aluminum plate, and the steps of injecting dry ice particles to the surface of the plate after the roughing treatment, and cleaning the aluminum plate.例文帳に追加

アルミニウム板の少なくとも一方の面に少なくとも１種の粗面化処理を施す粗面化工程を有してなり、前記粗面化処理後に、前記アルミニウム板の表面にドライアイス粒子を噴射して前記アルミニウム板を洗浄することを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法。 - 特許庁

A production method of a heat exchanger member (2) to be brazed comprises the step of spraying particulate powder of metal less noble in corrosion potential than Al, an alloy of the metal or a compound of the metal at 150°C or less at high speed onto a surface of a substrate (2a) of aluminum or its alloy to thereby make the particulate powder adhere to the surface.例文帳に追加

ろう付に供される熱交換器用部材(2)の製造方法であって、アルミニウムまたはその合金からなる基材(2a)の表面に、Ａｌより腐食電位が卑なる金属またはその合金もしくはその化合物の微粒子状粉末を１５０℃以下で高速噴射し、該微粒子状粉末を付着させる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal alignment agent which realizes uniform liquid crystal alignment with a pre-tilt angle via a single step of irradiation process by making a linearly polarized ultraviolet rays, of which the direction of the electric field vector is inclined, with respect to a substrate surface irradiate a liquid crystal alignment layer formed on the substrate surface.例文帳に追加

基板表面に形成した液晶配向膜に、その電場ベクトルの方向が基板面から傾いている、直線偏光された紫外線を照射することにより、１段階の照射プロセスでプレチルト角を有する均一な液晶配向を実現することのできる液晶配向剤を提供すること。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device includes a step of forming a conductor pattern 7a on a main surface of a multilayer wiring substrate 6, covering the conductor pattern 7a with an insulating thin film 9, and adhering a semiconductor chip 1 oppositely to a rear surface of the conductor pattern 7a via this insulating thin film 9 with a conductive adhesive 10.例文帳に追加

多層配線基板６の主面に導体パターン７ａを形成し、さらに導体パターン７ａを絶縁性薄膜９によって覆った後、この絶縁性薄膜９を介在して、導体パターン７ａ上にその裏面を対向させて半導体チップ１を導電性接着剤１０により接着する。 - 特許庁

Consequently, a deviation of wall core of the partitioning panels 11A is corrected by a nipping and holding force of the nipping and holding member 40, and a surface of the joint member 41 provided between the partitioning panels 11A becomes flush with a surface of the partitioning panels 11A, preventing a step difference on a wall face of a partitioning wall 10.例文帳に追加

これにより、間仕切パネル１１Ａ同士の壁芯のずれが挟持部材４０の挟持力により矯正され、間仕切パネル１１Ａの間に設けられたジョイント材４１の表面が間仕切パネル１１Ａの表面と同一面となり、間仕切壁１０の壁面に段差が生じることがない。 - 特許庁

This method for manufacturing the glass substrate having the chemically strengthened surface for the magnetic recording medium comprises polishing the surface of this glass substrate by using a polishing liquid and polishing cloth containing 1 wt.% or less CeO2-based abrasive having 0.5 μm or smaller average particle size D50 at the finishing polishing step.例文帳に追加

磁気記録媒体用表面化学強化性ガラス基板の仕上げポリッシング工程において、平均粒径Ｄ_50が０．５μｍ以下のＣｅＯ_2 系研磨材を１重量％以下含有する研磨液及び研磨布を用いて研磨する、磁気記録媒体用表面化学強化性ガラス基板の製造方法。 - 特許庁

In a conductor formation step, electrolytic copper plating is performed following to electroless copper plating and a through hole conductor 17 is formed by filling the through hole 16 of the core insulation material 13 entirely, and a conductor layer 19 is formed on the main surface 14 and the rear surface 15 of the core of the core insulation material 13.例文帳に追加

導体形成工程において、無電解銅めっき後に電解銅めっきを施すことにより、コア絶縁材１３のスルーホール用穴１６内全体が充填されてなるスルーホール導体１７が形成されるとともに、コア絶縁材１３のコア主面１４及びコア裏面１５の上に導体層１９が形成される。 - 特許庁

The method for applying the solder paste for the connection of a surface mount component to the electronic circuit board 1 by the reflow method comprises a step of partially applying the solder paste 3 to at least a crossover region with a terminal on the surface of the land 2 for component terminal connection on the electronic circuit board 1.例文帳に追加

リフロー方式による表面実装部品の電子回路基板１への接続のための半田ペースト塗布方法において、電子回路基板１上に設けられた、部品の端子が接続されるランド２の表面における、少なくとも端子との重なり領域に部分的に半田ペースト３を塗布する。 - 特許庁

A processing method includes a step of pressing a processing member 3 onto the workpiece along a longitudinal direction thereof, while rotating the rod-like processing member 3 about a longitudinal axis thereof in one direction to cut-off or process the workpiece, thereby forming the cross sectional surface for cross sectional surface observation in the workpiece.例文帳に追加

加工方法は、棒状の加工部材３をその長手軸周りに一方向に回転させながら、加工部材３をその長手方向に沿って加工対象物に押し付けることによって、加工対象物を切断又は加工することで、加工対象物に断面観察用の断面を形成する工程を有する。 - 特許庁

A cylindrical frame die is detachably provided on a step annular surface formed by the difference between the diameter of a drum body of the lower die and the diameter of a small diameter part of the lower die which is formed by reducing the diameter of the tip of the the drum body, so as to surround a lens stock material set on the small diameter part and a molding surface of the lower die.例文帳に追加

胴型内において筒状枠型が、上型の胴体の先端が小径部として縮径されて下型の胴体と小径部の胴径の違いで生じた段差環面に、小径部及び下型の成形面上にセットされたレンズ素材を囲み込むように脱着可能に設けられている。 - 特許庁

The inter-step coupling capacitor includes: a first coupling capacitor electrode disposed in counter to a lower surface side of the low impedance portion of the first SIR; a second coupling capacitor electrode disposed in counter to an upper surface side of the low impedance portion of the second SIR; and a via connecting the first coupling capacitor electrode and the second coupling capacitor electrode.例文帳に追加

段間結合キャパシタは、第１ＳＩＲの低インピーダンス部の下面側に対向して配した第１結合キャパシタ電極と、第２ＳＩＲの低インピーダンス部の上面側に対向して配した第２結合キャパシタ電極と、これら第１結合キャパシタ電極と第２結合キャパシタ電極とを接続するビアとを備える。 - 特許庁

To provide a matting liquid organopolysiloxane composition capable of easily forming surface matted cured products without requiring another step such as mechanical surface roughening and suitably usable as a potting material and a coating material for electric/electronic devices such as LED, and to provide matted cured products obtained by curing the composition.例文帳に追加

機械的な粗面化などの別工程を必要とすることなく、表面が艶消しされた硬化物を容易に形成することができ、ＬＥＤのような電気・電子機器のポッティング材やコーティング材として好適に使用し得る艶消し用液状オルガノポリシロキサン組成物、及びこの組成物を硬化してなる艶消し硬化物を提供する - 特許庁

A horizontal face is formed in a container 13 toward outside from the boundary of the rim of a work 15 so as to keep the surface of the work 15 and the surface of the container 13 with no step between them or intentionally keeping steps between them while the work 15 being set in the container 13.例文帳に追加

ワーク１５が容器１３内に載置された状態で、ワーク１５の表面と容器１３の表面とが段差なく、又は意図的に段差を設けて、ワーク１５表面の端縁境界を拡大することが可能なように、容器１３にはワーク１５の端縁境界から外側に向かって水平面が形成されている。 - 特許庁

On the base plate 2, the inner diameter D of the area near the opening of the through hole CH is made larger than the inner diameter d of the other area of the through hole CH, and a step 6 is formed around the through hole CH of the light incident surface, i.e., the surface the reflective layer 3 and the recording layer 4 are formed.例文帳に追加

この基板２は、貫通孔ＣＨの開口部近傍領域の内径Ｄが貫通孔ＣＨのその他の部分の内径ｄよりも大きくなっており、光入射側の面すなわち反射層３及び記録層４が形成されている面の貫通穴ＣＨの周囲に段差部６が形成されている。 - 特許庁

(1) When the magnetic recording layer is formed on one surface of the paper base material and the thermosensitive coloring layer is formed on the opposite surface of the paper base material, after a thermosensitive coloring layer coating liquid is applied on the base material, air is applied to the thermosensitive coloring layer coating liquid in a wet film state until a drying step.例文帳に追加

（１）紙基材の一方の面に磁気記録層を形成し、該紙基材の反対面に感熱発色層を形成する際に、該感熱発色層塗工液を基材上に塗布した後、乾燥工程に入るまでのＷｅｔ膜状態において、エアーを当てる感熱記録型磁気シートの製造方法。 - 特許庁

To stabilize an etching step for a surface oxide film on an Al pad, regardless of the condition of the surface oxide film thereon and form a fine projecting electrode in the air through electroless plating.例文帳に追加

スパッタリング法によりＡｌ電極パッド上の表面酸化膜を除去後、Ａｌ電極パッド上へ直接Ｎｉメッキを行い突起電極の形成を行う場合、スパッタリング法によりＡｌ電極パッド上の表面酸化膜の除去後直接、不活性雰囲気中へ移動し、メッキ工程を行わなければならなく、大掛かりな装置が必要となる。 - 特許庁

To provide a water-containing cutting fluid composition excellent in surface accuracy and detergency after processing by adjusting viscosity and surface tension to be lower than those of conventional ones in the cutting step of a brittle material, and to provide an industrially advantageous method for producing the water-containing cutting fluid having such characteristics.例文帳に追加

本発明は脆性材料の切削工程において、従来品より低粘度かつ表面張力を低く調整することで加工後の表面精度と洗浄性に優れた含水切削液組成物；並びにこのような特性を有する含水切削液の工業的に有益な製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Deformation of a sword point by pressure impressed on the squeegees 2a and 2b is restrained by setting a combustion of the sword point angle and an attack angle, and a dimensional variation in a printed filling patter (a net diameter of the via hole filled with paste and a step height between a green sheet surface and a paste surface of a via hole filling part) is restrained.例文帳に追加

剣先角とアタック角の組合せを設定することでスキージ２ａ，２ｂに印加される圧力による剣先の変形が抑制され、印刷後の充填パターン（ペーストが充填されたビアの正味の直径や、グリーンシート面とビア充填部のペースト面との段差）の寸法変動が抑えられる。 - 特許庁

The method for manufacturing the development roller comprising a shaft core and a resin layer on the circumference of the shaft core and comprising a surface layer on the circumference of the resin layer comprises a step of forming the surface layer by hardening a mixture of carbon black, a specific diol, and a specific isocyanate compound.例文帳に追加

本発明に係る現像ローラの製造方法は、軸芯体と、該軸芯体の外周に樹脂層とを有し、該樹脂層の外周に表面層を有する現像ローラの製造方法において、カーボンブラック、特定のジオール、及び特定のイソシアネート化合物を含む混合物を硬化させて、該表面層を形成する工程を有する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a semiconductor device, after first resin is formed on a front surface of a semiconductor wafer and second resin is formed on a rear surface thereof, and when the thickness of the first resin is A and the thickness of the second resin is B, a step of polishing the second resin is provided so as to satisfy 0.2≤B/A≤1.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、半導体ウエハの表面上に第１の樹脂、裏面上に第２の樹脂を形成した後、第１の樹脂の厚さをＡ、前記第２の樹脂の厚さをＢとした場合、０．２≦Ｂ／Ａ≦１を満たすように第２の樹脂を研磨する工程を備える。 - 特許庁

There are provided steps of providing a dielectric layer 23 and a wiring layer on a surface of a support 20 to form an intermediate body, removing the support from the intermediate body to obtain a wiring board, and carrying out a roughening treatment over a surface 20a of the support 20 before the intermediate body forming step.例文帳に追加

支持体２０の表面に誘電体層２３と配線層とを積層し、中間体を形成する工程と、該中間体から支持体を除去し、配線基板を得る工程と、から成り、前記中間体形成工程の前に、前記支持２０の表面２０ａに粗化処理を施しておくことを特徴とする。 - 特許庁

This method for manufacturing the cellulosic film comprises a surface treatment step of irradiating a high energy ray equal to or more than 490 kJ/mol represented by an excimer UV ray of 172 nm wavelength generated upon xenon molecule excitation or an active species on at least one surface of the cellulosic film.例文帳に追加

セルロース系フィルムの少なくとも一方の面上に、キセノン分子が励起した際に発生する１７２ｎｍの波長のエキシマ紫外線で代表される４９０ｋＪ／ｍｏｌ以上の高エネルギーな光もしくは活性種を照射する表面処理工程を有することを特徴とするセルロース系フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming the quantum dots on the surface 10a of a substrate 10 includes a catalyst-layer forming step for forming a catalyst layer 12 containing catalyst materials in a plurality of regions that correspond to the quantum dots by physically evaporating the catalyst material on the surface 10a.例文帳に追加

この製造方法は、基材１０の表面１０ａ上に量子ドットを製造する方法であって、表面１０ａ上に触媒材料を物理蒸着することにより、触媒材料を含む触媒層１２を量子ドットに対応する複数の領域に形成する触媒層形成工程を含む。 - 特許庁

To protect the surface of a multilayer metal foil laminate board inner layer circuit from the generation of a roughness, even when a metal mirror surface plate whose thickness is 0.8 mm or less is used for intervention between each combination of boards, when performing thermal bonding of a plural of combinations of boards between press heating one step platens.例文帳に追加

プレス熱盤一段間で複数組の内層回路入り多層金属箔張り積層板を加熱加圧成形するに際し、各組の間に介在させる金属鏡面板として厚み０．８mm以下のものを使用した場合にも、内層回路入り多層金属箔張り積層板表面に凹凸が付与されないようにする。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor capable of effectively preventing occurrence of a pattern formation fault due to defocusing caused by a foreign matter adhered to a rear surface of a semiconductor wafer in an exposure device used when the surface of the wafer is patterned in a step of manufacturing the semiconductor.例文帳に追加

半導体の製造工程において半導体ウエハー表面にパターニングを行う際に用いられる露光装置に関するものであり、半導体ウエハーの裏面に付着した異物に起因するフォーカスずれによるパターン形成不良の発生を有効に防止する事の出来る半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

The steps of degreasing the surface of the pressure plate by the superheated steam and of producing an oxide film are carried out at 250-800°C in an atmosphere of superheated steam for a time of 15-60 minutes, and the step of applying is preferably performed at the surface temperature of the pressure plate being the range of 120-170°C.例文帳に追加

前記過熱蒸気によりプレッシャプレート表面の脱脂を行うと共に酸化皮膜を生成する工程は、過熱蒸気雰囲気下に温度２５０〜８００℃、時間１５〜６０分の範囲で行うこと、及び前記塗布する工程は、プレッシャプレートの表面温度が１２０〜１７０℃の範囲で行うことが好ましい。 - 特許庁

In the side wall inner surface of the substrate lower surface, a guide rail part 13 for the optical disk holder, a stopper part 17, a hooking step part 18, and an unhooking part 20 for releasing a hooked state are integrally formed, and further, a housing part for housing a jacket, a liner note, explanation, and so on, is formed.例文帳に追加

基板下面の側壁内面には、光ディスク保持体用のガイドレール部１３とストッパー部１７と掛止段部１８と掛止状態を解除する掛止解除部２０を一体的に形成し、更に基板上面の側壁内方にジャケット、ライナーノート、説明書等を収納する収納部１４を形成する。 - 特許庁

The sheet-like light diffusion member includes, at least on one surface: a rugged structure having an average pitch of 1 to 150 μm and an average height of 1 to 150 μm; and a step that has an average height of 1 to 100 μm and a maximum height of 1 to 100 μm and substantially linearly traverses the surface.例文帳に追加

シート状の光拡散部材であって、 少なくとも一方の表面に、 平均ピッチが１〜１５０μｍ、平均高さが１〜１５０μｍである凹凸構造と、 平均高さが１〜１００μｍ、最大高さが１〜１００μｍであり、前記表面を略直線状に横断する段差を有する光拡散部材。 - 特許庁

A step part 67c lower on the outer side is concentrically pressed and formed by forging of a plate member in a position slightly deviating to the inner side from a position corresponding to the outer peripheral edge of a flange 67 on the surface 67a side to be stuck with the magnetic disk media and thereafter, the flange 67 is formed by blanking through from the opposite surface side.例文帳に追加

板部材に対する鍛造加工により、磁気ディスクメディア貼付面６７ａ側におけるフランジ６７の外周縁に相当する位置から若干内側に寄った位置に、外方が低くなる段部６７ｃを同心的に押圧形成した後、反対面側から抜き落としてフランジ６７を形成する。 - 特許庁

A card receiving part of an ejection member 20 has, on a side surface at one end facing a spring support shaft 20S, a circular arc part 20PAR corresponding to a step part 16R of a memory card 16, and has a projection part 20PA, in a part at the other end of the side surface directed toward the spring support shaft 20S.例文帳に追加

イジェクト部材２０におけるカード受け部が、スプリング支持軸２０Ｓに対向する一端部の側面にメモリカード１６の段差部１６Ｒに対応した円弧部２０ＰＡＲを有するとともに、その側面におけるスプリング支持軸２０Ｓ側に向かう他端の一部に突起部２０ＰＡを有しているもの。 - 特許庁

The semiconductor laser element is provided with a semiconductor laminate consisting of a compound semiconductor layer of AlGaIn base having a step-like structure on an n-type GaN substrate using a (0001) surface as a substrate surface, and having an active layer containing two kinds of group III elements including In and a group V element including N.例文帳に追加

半導体レーザ素子は、（０００１）面を基板面とするｎ型ＧａＮ基板上にステップ状構造を備えると共に、ｎを含む２種類のＩＩＩ族元素及びＮを含むＶ族元素を含む活性層を有するＡｌＧａＩｎＮ系の化合物半導体層からなる半導体積層体を備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing a thermosetting resin molding comprises the steps of subjecting a surface of a recess of a mold to glaze- coating molding, supplying the molding obtained in the previous step to a protrusion mold 8 by reversing the molding upside down and subjecting a surface of a protrusion of the molding to glaze coating.例文帳に追加

この熱硬化性樹脂成形品の製造方法は、成形品の凹型の表面にグレーズコーティング成形を行う工程と、前記工程で得られた成形品をその上下を反転して凸金型８に供給する工程と、前記成形品の凸型の表面にグレーズコーティング成形を行う工程とを具備する。 - 特許庁

The method includes a step of bonding the adhesive agent layer for the laser processing protection sheet to the laser beam incident surface side of the organic article to be processed, a step of processing the laser processing protection sheet and the organic article to be processed by irradiating the same with a laser beam, and a step of separating the laser processing protection sheet from the organic article to be processed after the processing.例文帳に追加

基材上に少なくとも粘着剤層を有しており、かつ屈折率比が１以上であるレーザー加工用保護シートを使用し、前記有機系被加工物のレーザー光入射面側に該レーザー加工用保護シートの粘着剤層を貼付する工程、レーザー光を照射してレーザー加工用保護シート及び有機系被加工物を加工する工程、レーザー加工用保護シートを加工後の有機系被加工物から剥離する工程を含むレーザー加工品の製造方法。 - 特許庁

The method also includes a step S4 of setting the fitting condition of the tire wished by the customer, a simulating step S5 of acquiring the evaluation parameter by performing simulation on the tire by using at least the surface condition of the road and fitting condition of the tire, and an information providing step S6 of providing the evaluation parameter to the customer.例文帳に追加

情報を提供するタイヤを設定するステップＳ１、前記タイヤを走行させる路面条件を設定するステップＳ２、前記タイヤを装着する装着条件を設定するステップＳ３、顧客が希望するタイヤの評価パラメータを設定するステップＳ４、少なくとも前記路面条件と装着条件とを用いて前記タイヤのシミュレーションを行い前記評価パラメータを取得するシミュレーションステップＳ５、及び前記評価パラメータを顧客に提供する情報提供ステップＳ６を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the conductive particulates with a conductive metal layer formed on the surface of base material particulates includes a base material particulate manufacturing process which comprises: a step of adjusting polyamic acid mixed solution by mixing polyamic acid, metal alkoxide and non-polymerizable organic solvent; an emulsification step of mixing and agitating the polyamic acid mixed solution and emulsifier solution; and a heating step of heating the mixed solution after the emulsification process.例文帳に追加

基材微粒子の表面に、導電性金属層が形成された導電性微粒子の製造方法であって、ポリアミック酸と金属アルコキシドと非重合性有機溶媒とを混合してポリアミック酸混合溶液を調整する工程と、前記ポリアミック酸混合溶液と乳化剤水溶液とを混合し、攪拌する乳化工程と、前記乳化工程を行った混合液を加熱する加熱工程とを有する基材微粒子調製工程を有する導電性微粒子の製造方法。 - 特許庁