「surface thin layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain a polyester film for a photoresist for extremely thin lines as a substrate which simultaneously satisfies transparency, lubricity and air venting property and can form a photoresist layer excellent in pattern forming property of the surface and edge part.例文帳に追加

透明性、滑り性、空気抜け性を同時に満足し、表面や端部のパターン形成性に優れるフォトレジスト層を形成可能な支持体としての極細線用フォトレジスト用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

Surface of the nozzle forming member 121 is coated with a fluorine based water repelling agent 123 and a thin SiO_2 film layer 122 is formed between the nozzle forming member 121 and the fluorine based water repelling agent 123.例文帳に追加

ノズル形成部材１２１の表面は、フッ素系撥水剤１２３でコーティングされており、ノズル形成部材１２１とフッ素系撥水剤１２３との間にはＳｉＯ_2薄膜層１２２が形成されている。 - 特許庁

After an electrode layer on the surface of a crystal element piece 12 in the state of a wafer is formed, each crystal vibrating-reed is made to separate from the wafer by folding and cutting off along the visible outline using the thin part.例文帳に追加

ウエハの状態で水晶素子片１２の表面に電極膜を形成した後、各水晶振動片は、薄肉部を利用して外形線に沿って折り取ることによりウエハから分離させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, in which a thin portion of an oxide film is prevented from being formed at an edge of an active region when a surface layer portion of the active region is thermally oxidized.例文帳に追加

活性領域の表層部を熱酸化したときに、活性領域の縁に酸化膜の薄い部分が発生することを防止することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method and apparatus for fabricating the flat panel display element include patterning a thin film of the flat panel display element by utilizing a soft mold formed with a repulsion layer having high repulsive force to an etch-resist on the surface.例文帳に追加

本発明の平板表示素子の製造方法及び装置は、エッチレジストとの反発力が大きい反発層が表面に形成されたソフトモールドを利用して平板表示素子の薄膜をパターニングする。 - 特許庁

To obtain a method of manufacturing a thin-film solar cell module with high efficiency by reducing an unnecessary current pass at the exposed surface of a semiconductor, which is removed at the same time of scribing a second electrode layer.例文帳に追加

第２電極層のスクライブと同時に除去される半導体の露出面での不要な電流パスを低減して、効率の高い薄膜太陽電池モジュールを製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To form a calcium phosphate-based compound layer which shows high adhesion properties to titanium or a titanium alloy, is extremely thin, and is bioactive on a surface of the titanium or the titanium alloy easily and inexpensively.例文帳に追加

チタンまたはチタン合金の表面に、当該チタンまたはチタン合金に対する密着性が高く、厚さが極めて薄い、生体活性なリン酸カルシウム系化合物層を簡便かつ安価に形成する。 - 特許庁

To obtain a laminated polyester film for a very thin line photoresist as a substrate having both transparency and lubricity on which a photoresist layer excellent in surface and edge pattern forming property can be formed.例文帳に追加

透明性及び滑り性を同時に満足し、表面や端部のパターン形成性に優れるフォトレジスト層を形成させることが可能な支持体として極細線フォトレジスト用積層ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

By using the manufacturing method for effectively reducing the roughness on the polysilicon surface, bumps that are generated on the polysilicon layer due to recrystallization is planarized, and the reliability in the thin-film transistor is improved.例文帳に追加

本方法によれば、ポリシリコン表面の粗さを効果的に減少させるために、再結晶によりポリシリコン層上に生じるバンプを平面化し、薄膜トランジスタの信頼性を増大させる。 - 特許庁

The transparent electrode layer 160 is formed as an amorphous thin film by a composition material having a grain size of not more than 0.001 μm by surface observation of AFG with indium oxide and zinc oxide as principal components.例文帳に追加

酸化インジウムおよび酸化亜鉛を主要成分としＡＦＧの表面観察による粒径が0.001μｍ以下の構成材料を用いて透明電極層１６０を非晶質薄膜に形成する。 - 特許庁

The anisotropy forming layer 92 is a thin film of a tantalum, niobium alloy or tantalum alloy, is nitride or contains nitrogen, and its surface has been exposed to the atmospheric gas, nitrogen gas, or oxygen gas, and denaturalized.例文帳に追加

異方性付与層９２は、タンタル、ニオブ合金又はタンタル合金であって窒化されたもの又は窒素を含む薄膜であり、表面が大気ガス、窒素ガス又は酸素ガスに晒されて変性されている。 - 特許庁

To provide an electronic component capable of eliminating whisker on an Sn-based thin film layer formed on the surface of a terminal 15 and excellent in solderability, in spite of utilizing a lead-free plating material.例文帳に追加

鉛フリーのめっき材料を採用しながら、端子１５の表面に形成したＳｎ系薄膜層にウィスカが発生するのを抑制でき、かつはんだ付け性も良好なる電子部品を得る。 - 特許庁

A metal thin film is formed on an insulation surface, and then the oxide semiconductor layer is stacked.例文帳に追加

また、同一基板上に複数種類の薄膜トランジスタの構造を作製して複数種類の回路を構成し、増加する工程数が少ない半導体装置の作製方法を提供することを課題の一とする。 - 特許庁

To provide a method for efficiently forming a liquid thin film on the surfaces of various structures and a method for forming an antifouling hydrophilic layer efficiently on the surface of a heat resistant structure such as a tile.例文帳に追加

各種構造体表面に液体薄膜を効率的に形成する方法及びタイル等の耐熱性構造体表面に防汚性親水層を効率的に形成する方法の提供。 - 特許庁

To film-deposit a thin film for a magnetic recording medium, having superior step coverage and corrosion resistance/wear resistance by an FCVA (filtered cathodic vacuum arc) method even on a magnetic recording layer on which comparatively large surface ruggedness is formed.例文帳に追加

比較的大きい表面凹凸が形成される磁気記録層上であっても、ＦＣＶＡ法により、ステップカバレッジ、および、耐食性・耐摩耗性に優れた磁気記録媒体用薄膜を成膜できる。 - 特許庁

To provide a thin layer nonwoven fabric which has a good thickness recovery property, when left in a compression stress-added state and then released from the stress, and has a soft smooth surface touch.例文帳に追加

圧縮応力を加えられ続けた状態で放置されても、応力が除かれた後の厚みの回復性が良好で、しかもソフトな風合で滑らかな表面タッチを呈する薄層不織布を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin-film element, which controls the width of the (lower) layer of a reverse side of a stacking direction in a layered structure formed on the element forming surface of a substrate.例文帳に追加

基板の素子形成面に形成された積層構造にあって積層される方向とは逆側の（下部の）層の幅をより小さく制御することが可能な薄膜素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The metal coating film 13 is made of a material, having a high electrical conductivity, for example electric copper, and forms a thin metal layer in solid structure to the surface of the elastomeric ring 12 by means of fusion spray or evaporation.例文帳に追加

また、金属被膜１３は電気伝導率の高い、たとえば電気銅からなり、弾性リング１２の表面に溶射または蒸着などにより薄い金属層として一体に形成される。 - 特許庁

To provide a surface mount thin capacitor which has a small leak current, high reliability, superior high-temperature durability, and large capacity by eliminating entry of a conductive high polymer and oxygen from a gap of a resist layer.例文帳に追加

レジスト層の隙間からの導電性高分子や酸素の侵入をなくし、漏れ電流が小さく、高信頼性、高温耐久性に優れ、かつ、大容量の表面実装薄型コンデンサを提供すること。 - 特許庁

As a result, even if the carbon layer is removed thereafter, only the thin part of the surface thereof is removed, and low sheet resistance can be established and desired device characteristic be also obtained.例文帳に追加

このため、この後にカーボン層を除去しても、ｐ^-型ベース領域の表面の薄い部分しか除去されないことになり、低シート抵抗が得られ、所望のデバイス特性を得ることが可能となる。 - 特許庁

A resistive thin film 13 is provided via an oxide film 12 in a trench 11 provided at a part sandwiched between a p-body region 4 and an n-buffer region 7 in a surface layer of an n-drift region 3.例文帳に追加

ｎドリフト領域３の表面層のｐボディ領域４およびｎバッファ領域７に挟まれた部分に設けられたトレンチ１１に、酸化膜１２を介して、抵抗性薄膜１３が設けられている。 - 特許庁

High frequency noise is prevented from coming into a thin film electrode layer 32 inside a film 31, by forming shielding layers 37a and 37b on the outer surface of the potential sensor 30 and connecting them to ground potential.例文帳に追加

電位センサ３０の外面にシールド層３７ａ、３７ｂを形成して接地電位に接続することにより、フィルム３１の内側の薄膜電極層３２に高周波ノイズが入らないようにする。 - 特許庁

A refractive index measuring sensor 21 is manufactured by forming a metal thin layer, on a surface of the optical fiber with a core (optical fiber core) exposed by a chemical, by a vacuum evaporation method.例文帳に追加

屈折率測定用センサー２１は、薬品によりコア（光ファイバーコア）を露出させた光ファイバーの表面上に真空蒸着法により金属薄膜層を形成することにより作製されている。 - 特許庁

Since a device layer (thin film structure 2 ) lies on an upper surface, and mounting thereof is the same as in dicing in an ordinary LSI manufacturing process, it can be mounted on a printed board as it is without inversion with the aid of a chip mounter or the like.例文帳に追加

デバイス層（薄膜構造体２）が上面にあり、通常のＬＳＩ製造工程におけるダイシングの場合と同じなので、反転せずにそのままチップマウンター等によりプリント基板に実装できる。 - 特許庁

If necessary, a metal-coated foamed plastic partially coated with a metallic coating can be obtained by forming a thin resin layer on the surface of a rigid foamed plastic and irradiating the resultant foamed plastic with ultraviolet radiation through a photomask.例文帳に追加

また、必要に応じて、硬質発泡プラスチックの表面に薄膜樹脂層を設け、フォトマスクを介して紫外線照射処理して、部分的に金属被覆を備える金属被覆発泡プラスチックとできる。 - 特許庁

The thin film ND filter comprises an alternate layer of an absorption film and a transparent dielectric film by one type of a metal oxide having absorbability on one side surface of a transparent board.例文帳に追加

薄膜型ＮＤフィルターにおいて、透明基板の片面に、吸収性を有する１種類の金属酸化物による吸収膜と透明な誘電体膜の交互層を設けた構成とする。 - 特許庁

On the surface of the thin film coil layer 12, the lead conductor 20 is formed integrally with the bump electrode 13a, and the lead conductor 21 is formed integrally with the bump electrode 13c.例文帳に追加

薄膜コイル層１２の表面において、引き出し導体２０はバンプ電極１３ａと一体的に形成されており、引き出し導体２１はバンプ電極１３ｃと一体的に形成されている。 - 特許庁

A weak adhesive layer is provided on one surface of a flat plate, and the flat plate is projected at the position of the flat plate corresponding to a position where at least a flip chip is mounted to a thin substrate.例文帳に追加

平板の片面に弱粘着剤層を有し、少なくともフリップチップが薄型基板に実装される位置に相対する平板位置では平板が突出していることを特徴とする。 - 特許庁

This is a dynamic ratioless shift register provided with thin film transistors of which the semiconductor layer is formed of p-Si on a substrate surface, and the register is connected with a floating state node via capacitance at a fixed potential.例文帳に追加

基板面に半導体層がｐ−Ｓｉからなる薄膜トランジスタを備えるダイナミックレシオレスシフトレジスタにあって、フローティング状態になるノードに容量を介して固定電位に接続させる。 - 特許庁

An endlessly driven film 2 and a particle supply brush 4 for supplying the particles 1 in a particle feeder 5 to the film to form a thin particle layer on the surface of the film are arranged.例文帳に追加

循環駆動されるフィルム２と、粒子供給装置５内の粒子１をフィルム上に供給するとともに表面に薄い粒子層を形成する粒子供給ブラシ４とを配置する。 - 特許庁

To change an orientation of zinc oxide whereby an oxide semiconductor thin film layer excels in a heat resistance and surface smoothness, it is intended to suppress a leakage current and enhance a current drive capability, and a pixel electrode excels in a micro processability, thereby highly micronizing pixels.例文帳に追加

酸化亜鉛の配向を変化させることで、酸化物半導体薄膜層は、耐熱性、表面平滑性に優れたものとし、リーク電流の抑制、電流駆動能力の向上を図る。 - 特許庁

An insulating resin material is poured from a rotor support part 1a formed in the outer frame 1 to the inner surface or inner/outer surfaces of the outer frame 1 by an injection molding so as to be formed into a thin insulating layer 11.例文帳に追加

外枠１に形成した回転子支持部１ａから外枠１の内面或いは内外面に至るまで射出成形により絶縁樹脂材料を流し込み薄い絶縁層１１を設ける。 - 特許庁

Abrasion of a coating layer on the side where a larger load is applied is thus restricted, and the surface pressure is increased in a fluid lubrication range to thin lubricating oil film, thereby friction resistance is also reduced.例文帳に追加

これにより、より大きな荷重が作用する側のコーティング層の摩耗が抑制され、しかも流体潤滑域での面圧が高まって潤滑油膜が薄くなるので、摩擦抵抗も減少する。 - 特許庁

To provide a low resistivity light attenuation reflection preventing film which has a transparent surface conductive layer as a surface layer material of the film having eight oxide layers, having a high refractive index of 1.9-2.2 with reliability in mass-producing oxide thin films.例文帳に追加

本発明の主な目的は、８つの酸化物層を有する該フィルムの表層の材料が透過可能な導電層であって、１．９〜２．２の高屈折率を有し、酸化物薄フィルムを多量に生産するプロセスにおいて信頼的である透過可能な表面導電層を有する低抵抗光減衰反射防止フィルムを提供する。 - 特許庁

A single-crystalline or epitaxial buffer layer 12 comprising Pb1-xLax(ZryTi1-y)1-x/4O3 is disposed on the surface of a single crystal substrate 10 and a single-crystalline or epitaxial electrically conductive or semiconductive thin film 14 having an ABO3 type perovskite phase structure is formed on the surface of the buffer layer 12.例文帳に追加

単結晶基板１０の表面に、単結晶状またはエピタキシャル状のＰｂ_1-xＬａ_x（Ｚｒ_yＴｉ_1-y）_1-x/4Ｏ_3からなるバッファ層１２を設けた後に、該バッファ層１２の表面に、単結晶状またはエピタキシャル状でありＡＢＯ_3型ペロブスカイト相構造を有する導電性または半導電性の薄膜１４を形成する。 - 特許庁

Before the wire bonding is performed on an electrode forming nickel plating on a thin film metal barrier used as the uppermost surface layer on a substrate such as an IC board, acid radical and hydroxyl group forming oxidation product of nickel being a trace quantity on the surface layer of the electrode are reduced and removed.例文帳に追加

ＩＣ基板等のサブストレート上の最表層としてなる薄膜金属のバリアにニッケルめっきを形成して成る電極にワイヤボンディングを行なうに先立ち、前記電極の表層部に微量なるニッケルの酸化生成物を形成する酸基および水酸基を還元して取り除くことを特徴とするワイヤボンディング前処理方法。 - 特許庁

In a first embodiment, a gas diffusion layer 5 has a first hole portion 23 consisting of a thin passage portion 21 connecting a first opening portion 17 formed on a surface contacting with a projecting portion 15 of a gas passage of a separator, and a second opening portion 18 formed on a surface on the side of the electrode catalyst layer with each other.例文帳に追加

第一実施形態としては、ガス拡散層５が、セパレータのガス流路の凸部１５に接する面に設けた第一の開口部１７と電極触媒層側の面に設けた第二の開口部１８とを結ぶ細路部２１からなる第一の孔部２３を有するガス拡散層であることを特徴とする。 - 特許庁

Then a second resin layer 106 is so formed on the top surface of the core substrate 100 as to cover the first semiconductor chip 102 and then the second resin layer 106 and first semiconductor chip 102 are ground from the opposite side of the first semiconductor chip 102 from the circuit formation surface to thin the first semiconductor chip 102.例文帳に追加

その後、コア基板１００の上面に第１の半導体チップ１０２を覆うように第２の樹脂層１０６を形成した後、第２の樹脂層１０６及び第１の半導体チップ１０２を該第１の半導体チップ１０２の回路形成面の反対側から研削して第１の半導体チップ１０２を薄くする。 - 特許庁

The face substrate part of the human face substrate A is formed of a plastic material, and the face-changeable face substrate A having a mold release layer B where a face surface layer C in a thin film shape to be a final face can be formed and peeled on the surface of the face substrate is used.例文帳に追加

人面基体Ａの顔面基板部分が可塑性材料で形成され、顔面基板の表面に最終顔面となるべき薄膜状の顔面表層Ｃを成膜可能かつ剥離可能とする離型層Ｂを有する顔面交換可能な人面基体Ａを用いることを特徴とするものである。 - 特許庁

The method of manufacturing the lens is such that, when forming the coat layer by light irradiation on the lens having a thin center part coated with the photocurable coating material laid on the primary coat layer, the surface temperature of the lens, immediately prior to first light irradiation is 30°C or lower, and the surface temperature during the light irradiation is 70 °C or lower.例文帳に追加

プライマーコート層上に光硬化性コーティング剤が被覆された中心部の厚みが薄いレンズにおいて、光照射によりコート層を形成するに際し、最初に光照射を行う直前のレンズ表面温度を３０℃以下とし、光照射時のレンズ表面温度を７０℃以下とするレンズの製造方法である。 - 特許庁

While a cooling roll 5 with a ceramic surface layer 52 around an outer boundary face of a metallic base part 51 is rotated in the direction of the arrow 9A, a molten metal 6 of a magnetic material is jetted from a nozzle 6 and is made to collide with the surface layer 52 of the cooling roll 5 to form a thin band-shaped sheet 8 in quench solidification.例文帳に追加

本発明は、金属製の基部５１の外周にセラミックスで構成される表面層５２を有する冷却ロール５を矢印９Ａ方向に回転しつつ、磁石材料の溶湯６をノズル３から吐出し、冷却ロール５の表面層５２に衝突させ、冷却固化して急冷薄帯８を製造する方法である。 - 特許庁

The method for freezing a fluid food and dividing the frozen food in the form of separated unit pieces comprises a process containing (a) step to spray water or salt water to a freezing surface to form a thin and uniform ice layer on the surface, (b) a step to deposit the fluid food on the ice layer and (c) a step to freeze the food.例文帳に追加

流動性食品を冷凍し、かつ該冷凍食品を個別片に製造する方法であって、ａ）水又は食塩水を冷凍表面に噴霧して、該表面に薄く均一な氷層を形成し、ｂ）前記氷層上に、流動性食品を堆積し、ｃ）該食品を冷凍することを含む方法。 - 特許庁

The air data sensor assembly for acquiring data regarding the ambient air environment adjacent to the surface of an airframe travelling at air speeds below 40 knots has a flexible substrate adhesively conforming to the surface of the airframe, a conformable layer, and a relatively thin air data sensor for sensing the air pressure between the substrate and the cover layer.例文帳に追加

機体の表面に接着して適合するフレキシブル基板、コンフォーマブル層、および、基板とカバー層の間の気圧を検知するための比較的薄いエアデータセンサを有する、４０ノット未満の対気速度で移動する機体の表面に隣接した外気環境に関するデータを獲得するためのエアデータセンサ・アセンブリである。 - 特許庁

The polycrystalline thin film Si depositing method includes a process for depositing a polycrystalline Si thin film serving as a base on a substrate, a process for depositing an amorphous Si layer on the surface of the polycrystalline Si thin film, a process for partially removing the amorphous Si layer and partially exposing polycrystalline Si, and a process for growing crystal Si by setting a part where polycrystalline Si is exposed as a core.例文帳に追加

多結晶薄膜Ｓｉ堆積法において、少なくとも 下地となる多結晶Ｓｉ薄膜を基板上に堆積する工程と 該多結晶Ｓｉ薄膜表面に非晶質Ｓｉ層を堆積する工程と 該非晶質Ｓｉ層を部分的に除去し、多結晶Ｓｉを部分的に露出させる工程と 該多結晶Ｓｉが露出した部分を核として結晶Ｓｉを成長させる工程とを含むことを特徴とする - 特許庁

The obscure gas barrier film is characterized by giving a thin film layer of inorganic oxide to at least one side surface of white polymer film with total light line reflectance of ≥70% and further by preparing at least more than one kind of protective layers comprising metal alkoxide, or its hydrolysate on a thin film layer of the inorganic oxide.例文帳に追加

全光線反射率が７０％以上の白色高分子フィルムの少なくとも一方の面に無機酸化物の薄膜層を施すこと、更には、前記無機酸化物の薄膜層の上に少なくとも一種以上の金属アルコキシド或いはその加水分解物からなる保護層を設けることを特徴とする隠蔽性ガスバリアフィルムである。 - 特許庁