r-ssとは 意味・読み方・使い方

The operation circuit 20 estimates the rotation component R and the translation component T, which minimize the evaluation value SS, as a momentum at the time T.例文帳に追加

そして、演算回路２０は、評価値ＳＳが最小値となる状態の回転成分Ｒ及び並進成分Ｔを時刻Ｔの運動量として推定する。 - 特許庁

Until the BT(R) communication part 26 and the SS radio communication part 27 become communicable (step S4; YES), an RF output of the BT(R) communication part 27 is gradually increased (step S5) and a noise level is detected (step S6).例文帳に追加

ＢＴ通信部２６とＳＳ無線通信部２７との通信が可能となるまで（ステップＳ４；ＹＥＳ）、ＢＴ通信部２６のＲＦ出力を徐々に上げていき（ステップＳ５）、ノイズレベルを検出する（ステップＳ６）。 - 特許庁

A similarity index calculation section 11 calculates a similarity index value R for feature amounts F of each main fragment Sm of the main music piece and each sub-fragment Ss other than the main fragment Sm.例文帳に追加

類否指標算定部１１は、主楽曲の各主素片Ｓmについて、主素片Ｓm以外の各副素片Ｓsとの特徴量Ｆの類否指標値Ｒを算定する。 - 特許庁

The steering wheel body 1 is constituted in the two-divided form by a shaft side part 15 at a side fastened to a steering shaft SS and a ring side part 21 at a ring part R side.例文帳に追加

ステアリングホイール本体１が、ステアリングシャフトＳＳに締結される側のシャフト側部１５と、リング部Ｒ側のリング側部２１とで、二分割して構成される。 - 特許庁

A selection section 16 selects a sub-fragment Ss for which the similarity index value R with the main fragment Sm satisfies the selection condition, for each main fragment Sm of the main music piece.例文帳に追加

選択部１６は、主楽曲の各主素片Ｓmについて、当該主素片Ｓmとの類否指標値Ｒが選択条件を満たす副素片Ｓsを選択する。 - 特許庁

As a result, the spherical surface SS having the radius R of curvature from the supporting point Oc can be machined.例文帳に追加

つまり、目標とする加工面である球面ＳＳの法線方向に工具軸が傾斜するように工具９０を走査することになり、支点Ｏcの位置を中心とし曲率半径Ｒの球面ＳＳが加工可能となる。 - 特許庁

The operation circuit 20 three-dimensionally moves the virtual image I'_0 minutely while changing the rotation component R and the translation component T and calculates an evaluation value SS showing the amount of deviation between the image I_0 at the time T and the virtual image I'_0.例文帳に追加

演算回路２０は、回転成分Ｒ及び並進成分Ｔを変えながら仮想画像Ｉ’_0を３次元微小移動させて、時刻Ｔの画像Ｉ_0と仮想画像Ｉ’_0とのずれ量を示す評価値ＳＳを算出する。 - 特許庁

Next, the second beams SS of different kinds of radiation are patterned into a light region 1 and a dark region 2 similar to the projection beam PB, and the light region 1' is applied to the nonexposed region 2" of the resist layer R, and the dark region 2' is applied to the exposed region 1".例文帳に追加

次に、前記と異なる種類の放射線の第２ビームＳＢを投影ビームＰＢと同様に明領域１と暗領域２′にパターン化して、明領域１′をレジスト層Ｒの非露出領域２″に、暗領域２′を露出領域１″に当てる。 - 特許庁