「"紫外光"」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

波長３００ｎｍ以下の光、特にＦ_2エキシマレーザー（１５７ｎｍ）等の真空紫外光に対して透過性の高い高分子化合物を得る上で有用な新規なフッ素原子含有重合性不飽和単量体の製造法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a new fluorine-containing polymerizable unsaturated monomer useful for producing a polymer compound having high transparency to the light having wavelength of ≤300 nm, especially vacuum ultraviolet rays of F_2 excimer laser (157 nm), or the like. - 特許庁

分子内にＳｉＨ基を有するポリシロキサンとケイ素原子に直接結合したビニル基を分子内に有するポリシロキサンを白金触媒存在下で反応させ硬化させる近紫外光領域用ポリシロキサン樹脂の製造方法。例文帳に追加

The process for the production of a polysiloxane resin for the use in near-ultraviolet region comprises the reaction and curing of a polysiloxane having SiH group in the molecule with a polysiloxane having vinyl group directly bonded to Si atom in the molecule in the presence of a platinum catalyst. - 特許庁

安価でかつ汎用の塩素系シラン化合物を用いて、波長３００ｎｍ以下のエキシマレーザー照射による吸収・発光の生成を抑え、紫外光透過用光学ガラスとして、特に耐レーザー特性に優れた光学ガラスの提供する。例文帳に追加

To provide an optical glass having particularly excellent laser resistance as an optical glass for transmitting ultraviolet rays by using an inexpensive and general purpose chlorine-based silane compound to suppress absorption/emission caused by the irradiation with ≤300 nm excimer laser. - 特許庁

紫外光（ＵＶ）が当たらない環境下に置かれても抗菌作用を示す光触媒であって、かつ、沈殿やゲル化することが少なく、安定したゾルを維持することのできる抗菌性を向上させた光触媒溶液を提供する。例文帳に追加

To provide a photocatalyst solution having improved microbial resistance which hardly causes sedimentation and gelation and can maintain a stable sol with respect to a photocatalyst which exhibits antimicrobial action even when being put in an environment that is not exposed to ultraviolet light (UV). - 特許庁

そして、紫外光が照射されることによって蛍光したＵＶカットガラスカレット３０を視野５４を介してＣＣＤカメラ４２で検知すると、その出力信号によりコントローラがエアーノズル４４を制御して、このＵＶカットガラスカレット３０に向けて圧縮エアを噴射する。例文帳に追加

When the UV cut glass cullet 30 fluorescing by irradiation of the ultraviolet light is detected by a CCD camera 42 through a visual field 54, a controller controls an air nozzle 44 by its output signal to thereby jet out compressed air toward the UV cut glass cullet 30. - 特許庁

光導波路において、光感受性を有するコアにサンプルドグレーティングを作製する際に、スリット幅が狭い強度変調マスクを用いても、フレネル回折の影響を抑え、かつ紫外光に対する感受性を増大させる。例文帳に追加

To suppress the effect of Fresnel diffraction and to increase sensitivity to ultraviolet light, even if an intensity modulation mask having a small slit width is used when a sampled grating is formed in a photosensitive core in an optical waveguide. - 特許庁

このようなターゲットは、１パルスのレーザー光により丁度プラズマ化できる程度の量のプラズマ源物質を有し且つパルスレーザー光の径に対応する大きさにすることにより、極端紫外光を効率よく発生することができる。例文帳に追加

Such a target has an enough amount of plasma source material to become plasma by one pulse of laser beam, and by making it a size coping with the diameter of the pulse laser beam, the extreme ultraviolet light is generated efficiently. - 特許庁

基板密着性に優れ、しかも波長３００ｎｍ以下の光、特にＦ２エキシマレーザー（１５７ｎｍ）等の真空紫外光に対して透過性が高い高分子化合物を得る上で有用な新規なラクトン環含有重合性単量体を提供する。例文帳に追加

To provide a new lactone ring-containing polymerizable monomer useful for obtaining a macromolecular compound having excellent adhesion to a substrate, and high transparency to a light having ≤300 nm wavelength, especially a vacuum ultraviolet light of an F2 excimer laser (157 nm) or the like. - 特許庁

ポリシランから成る有機ケイ素樹脂被膜２をガラス基板３上に形成し、その被膜２に対し、製造しようとするマイクロレンズのレンズ領域に開口をもつパターンを形成したマスクを通して紫外光を照射する。例文帳に追加

An organic silicon resin coating film 2 consisting of polysilane is fromed on a glass substrate 3 and the coating film 2 is irradiated with an ultraviolet-ray through a mask forming a pattern having openings corresponding to those at lens areas of micro lenses to produce. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、疎密依存性が小さく、サイドローブマージンが広い優れたポジ型感光性組成物を提供することにある。例文帳に追加

To solve the problem on techniques to improve the intrinsic performance of microphotofabrication using far-UV rays, particularly ArF excimer laser light and to provide an excellent positive resist composition having low dependence on the pattern density and a wide side robe margin. - 特許庁

プラズマ生成室で生成されたプラズマから発生する紫外光と水素イオンを遮蔽して水素ラジカルのみを処理室に供給できるとともに，金属原子や板状部材を構成する材料が飛散して処理室内に入り込むことを防止しながらも，的確に水素イオンを捕獲する。例文帳に追加

To supply only hydrogen radicals to a processing chamber by blocking ultraviolet rays and hydrogen ions generated from plasma generated in a plasma generation chamber, and to properly capture the hydrogen ions while preventing metal atoms and a material constituting a plate-like member from scattering and intruding into the processing chamber. - 特許庁

該低抵抗ｎ型半導体ダイヤモンドを得るためには、ダイヤモンドの気相合成法において、真空紫外光を用いた光励起方法で原料を光分解し、リチウム原料はエキシマレーザーを照射してリチウム原子を飛散させて供給することにより得ることができる。例文帳に追加

A raw material is photodecomposed by an optical excitation method using vacuum ultraviolet rays so as to obtain the low-resistance n-type semiconductor diamond by a diamond vapor phase synthetic method, and a lithium material is irradiated with excimer laser rays so as to scatter lithium atoms for feeding. - 特許庁

遠紫外光、とくにエキシマレーザー光などの短波長光源の使用に対して感度、解像力、定在波の内パターンプロファイル、露光から加熱工程までの寸法安定性などの必要特性の優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photoresist composition superior in characteristics required for sensitivity and resolution and inner pattern profile dimensional stability from exposure process to heating process at the time of using far ultraviolet rays, especially, short wavelength light source, such as excimer laser beams. - 特許庁

結合ミラー５を介した第２波長光Ｌ２と第３波長光Ｌ３をＣＬＢＯ結晶等の非線形光学結晶６で和周波混合し、波長１９０ｎｍ以上２１７ｎｍ以下の紫外光（第４波長光Ｌ４）を発生させる。例文帳に追加

Nonlinear optical crystal 6 such as CLBO crystal performs the sum frequency mixing of the second wavelength light L2 and the third wavelength light L3 through the coupling mirror 5 to generate ultraviolet light (fourth wavelength light L4) of 190 to 217 nm in wavelength. - 特許庁

紫外光などの波長の短い光に対して充分な感度を有するとともに、光電変換によって生成された光電子を高い効率で放出させることができる透過型光電陰極、及びそれを用いた電子管を提供する。例文帳に追加

To provide a transparent photocathode which has a high sensitivity to light of short wavelengths such as ultraviolet light and which enables photoelectrons generated by photoelectric conversion to be emitted with a high efficiency, and to provide an electron tube using the same. - 特許庁

本発明は、石英基板、半導体基板、ガラス基板、金属基板等に塗布された感光性フォトレジストに対し、紫外光を照射しつつ、加温された高濃度オゾン水をかけることを特徴とするフォトレジストの剥離及び洗浄方法の構成とした。例文帳に追加

In the photoresist peeling and cleaning method; heated high concentration ozone water is poured over the photosensitive photoresist applied to a quartz substrate, a semiconductor substrate, a glass substrate, a metallic substrate, or the like while irradiating ultraviolet light. - 特許庁

更に好ましくは、アルコール／水混液中に白金族元素の化合物と酸化チタン担持シリカ担体とを共存させたもとで、紫外光又は可視光の照射下で前記酸化チタン上に白金族元素を析出させた光触媒。例文帳に追加

More preferably, the photocatalyst is prepared by depositing the platinum group element on the titanium oxide while performing irradiation with ultraviolet light or visible light under the coexistence of a compound of platinum group element and titanium oxide-carrying silica carrier in alcohol/water mixed liquid. - 特許庁

光触媒と易酸化物質の存在下で、水蒸気と二酸化炭素を含む混合気体に紫外光を含む光を照射することにより、二酸化炭素を還元してホルムアルデヒドおよびメチルアルコールから選ばれる少なくとも一種の有機化合物を効率よく生成させる。例文帳に追加

A light containing ultraviolet light is irradiated at a mixture gas containing water vapor and carbon dioxide under the presence of a photocatalyst and an easily oxidizing substance so that at least one organic compound selected from formaldehyde and methyl alcohol is efficiently produced by reducing carbon dioxide. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決したポジ型レジスト組成物を提供することにあり、より具体的には、サイドローブマージン特性に優れるポジ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive resist composition having excellent side lobe margin characteristics in microphotofabrication using far UV light, in particular, ArF excimer laser light. - 特許庁

遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができる、高感度であり、疎密依存性が小さく、エッチング時の表面荒れが少ないポジ型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive type resist composition suitable for use in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, having high sensitivity and small density dependence and ensuring slight surface roughening in etching. - 特許庁

太陽光や室内照明に含まれているエネルギーの高い紫外光以外にも、これよりエネルギーの低い、波長の長い可視光領域の光に対して触媒活性を有する、光スペクトルを効率よく利用できる光触媒の提供。例文帳に追加

To provide a photocatalyst which has a catalytic activity to both an ultraviolet radiation of high energy contained in sunlight and a room illumination and light in long wavelength visible light area of energy lower than the former, and is capable of efficiently utilizing optical spectrum. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決したポジ型レジスト組成物を提供することにあり、より具体的には、サイドローブマージン特性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive resist composition having excellent side lobe margin characteristics in microphotofabrication using far UV light, in particular, ArF excimer laser light. - 特許庁

処理対象となる流体が流れる流体経路５中に、表面にＺｎＯが設けられたＺｎＯ光触媒１６と、ＺｎＯ光触媒１６に対して紫外領域の波長を有する光を照射する紫外光発光ＬＥＤ１７と、を設けた。例文帳に追加

A ZnO photocatalyst 16 provided with ZnO on the surface and ultraviolet light emitting LEDs 17 radiating light having the wavelength of an ultraviolet range to the ZnO photocatalyst 16 are provided in a flow route 5 where a fluid, an object to be treated, flows. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、コンタクトホールパターンの疎密依存性に優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV excellent in density dependence of a contact hole pattern. - 特許庁

オゾンガスを流通させるガス流路を備え、前記ガス流路内のオゾンガスに紫外光を照射してオゾンガスを分解するオゾン分解装置１０において、前記ガス流路中に、前記オゾンガスを乱流させるための障害部材６を充填する。例文帳に追加

In the ozone decomposing device 10 which is provided with a gas flow path where an ozone gas flows and decomposes the ozone gas by irradiating the ozone gas inside the gas flow path with the ultraviolet light, an obstacle member 6 for causing the turbulence of the ozone gas is filled in the gas flow path. - 特許庁

ゲル化された水、アルコール及びこれらの混合物からなる群より選択される媒体、該ゲル化された媒体中に分散された光触媒微粒子を含む光触媒シートを、樹脂基板と接触させ、紫外光又は可視光を照射することにより、樹脂基板表面を改質する。例文帳に追加

The method comprises contacting a photocatalyst sheet with a resin board followed by irradiation with ultraviolet or visible rays to modify the surface of the resin board and then washing off the photocatalyst sheet, thus obtaining the objective surface-modified resin board. - 特許庁

遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができ、露光マージンに優れ、現像欠陥の発生数が軽減ざれたポジ型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive type resist composition, which is suitably used in microphoto fabrication using far ultraviolet ray, particularly ArF excimer laser beam and has excellent exposure margin and in which the generation of development defects is reduced. - 特許庁

液体クロマトグラフ質量分析装置において液体クロマトグラフ部からのカラム溶出物をイオン化する方法として、大気圧下で霧化された溶出物に紫外光を照射することによってこれをイオン化する大気圧光イオン化法を用いる。例文帳に追加

As a method for ionizing the column eluate from a liquid chromatographic part in a liquid chromatograph/mass spectrometer, an atmospheric pressure optical ionization method for irradiating the eluate atomized under atmospheric pressure with ultraviolet rays to ionize the same is used. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ションの性能向上技術における課題を解決することであり、パターン形状の裾引き、ラインエッジラフネスの点で問題のないポジ型感光性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photosensitive composition free from problems relating to tailing in a pattern profile or line edge roughness so as to solve problems in the techniques to improve the performance of microphotofabrication using far UV rays, in particular, ArF excimer laser light. - 特許庁

半導体素子のピックアップ装置（１００）は、紫外光照射により接着力が低下する接着層を有する接着テープ（２０２）上に接着された半導体ウエハ（ＳＷ）から分離された個々の半導体素子を取り外す半導体素子のピックアップ装置である。例文帳に追加

The semiconductor element pickup device (100) is for detaching the individual semiconductor element separated from the semiconductor wafer (SW) attached onto an adhesive tape (202) having the adhesion layer whose adhesive force is lowered by ultraviolet irradiation. - 特許庁

遠紫外光、とくにＫｒＦ又はＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、現像欠陥の発生が少なく、エッジラフネスに優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To solve a technical problem in enhancing performance peculiar to microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly KrF or ArF excimer laser light and to obtain a positive type photoresist composition less liable to cause development defects and excellent in edge roughness. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ションの性能向上技術における課題を解決することであり、エッジラフネス、現像欠陥の点で改善されたポジ型感光性組成物を提供する。例文帳に追加

To solve problems in a technique for enhancing the performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light and to provide a positive photosensitive composition improved in terms of edge roughness and development defects. - 特許庁

ＵＶカットフイルタ４１によってマゼンタ定着光に含まれる紫外光がカットされるので、サーマルヘッド２２による印画中にマゼンタ用定着ランプ２８を点灯させても、端部検出センサ３７は正常に動作する。例文帳に追加

Since the ultraviolet light included in the magenta fixing light by the UV-cut filter 41 is cut, even if the fixing lamp for magenta 28 is made turned on during printing with a thermal head 22, the end-detection sensor 37 operates normally. - 特許庁

インキ組成物は、紫外光、可視光又は赤外光の少なくとも一つの照射により、紫外領域、可視領域及び赤外領域において、それぞれの波長領域で吸収、発光及び反射する物質を含むインキ組成物の組合せで行う。例文帳に追加

The ink compositions are made by combining ink compositions including substances that absorb, emit and reflect light in the wavelength regions of ultraviolet, visible and infrared regions under the radiation of at least one of ultraviolet, visible and infrared lights. - 特許庁

太陽光及び室内照明に含まれているエネルギの高い紫外光に加えて、これよりエネルギが低いが波長が長い可視光領域の光に対して触媒活性を有し、太陽光を効率よく利用できる光触媒複合材料を提供する。例文帳に追加

To provide a photocatalyst composite material having catalytic activity not only against ultraviolet light high in energy and included in sunlight and indoor illumination but also against light in a visible light region low in energy and large in wavelength relative to the ultraviolet light, and capable of efficiently utilizing sunlight. - 特許庁

非晶質シリコンまたは多結晶シリコンにレーザ光を照射してシリコン結晶を成長させるシリコン結晶成長方法及び装置において、紫外光レーザ照射及び可視光レーザ照射の欠点を相補的に補い合い、従来より低い温度でシリコン結晶を成長させる。例文帳に追加

To grow a silicon crystal at a temperature lower than in the prior art by complementarily compensating for both defects in ultraviolet laser irradiation and in visible laser irradiation, in a method and apparatus of growing a silicon crystal by irradiating an amorphous or polycrystalline silicon with laser light. - 特許庁

放電空間１３内にアーク放電させた状態を維持するために十分な量の希ガス、水銀、ハロゲン、発光金属からなる封入物を封入することで紫外線ランプ１００を構成し、点灯時に紫外光を発光させる。例文帳に追加

An enclosed material composed of rare gas, mercury, halogen and light emitting metal is sealed in the discharge space 13 in an amount sufficient to maintain an arc-discharged state therein, whereby a UV lamp 100 is constituted to emit UV light when lighted. - 特許庁

皮膚バリアー機能回復促進剤は、紫外光を吸収して波長が５５０ｎｍ以上８００ｎｍ以下の光を発光する第一の材料、及び／又は、波長が４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の光をレイリー散乱する第二の材料を含有する。例文帳に追加

The agent for promoting recovery of barrier function of the skin comprises a first material which absorbs UV and emits light at wavelength of 550-800 nm and/or a second material which causes Rayleigh scattering of light at wavelength of 400-500 nm. - 特許庁

高周波プラズマにより窒素ラジカルを形成し、形成された窒素ラジカルを、基板上に紫外光励起ラジカルにより形成された酸化膜あるいは酸窒化膜表面に沿って流れるガス流に乗せて供給し、膜表面を窒化する。例文帳に追加

A nitrogen radical is formed by high frequency plasma, the formed nitrogen radical is supplied on a gas flow flowing along the surface of the oxide film or the oxynitride film formed by an ultraviolet light excitation radical on a substrate, and the film surface is nitrided. - 特許庁

紫外線波長の励起スペクトルを有する蓄光表面（蓄光性蛍光体に同じ。）を備えた蓄光ボール、蓄光衣服その他の蓄光物品を被照射体として、その蓄光表面に励起スペクトルに応じた紫外光を照射することにより光エネルギを供給可能とする。例文帳に追加

To enable to supply light energy to surfaces of light-storing items, such as a phosphorescent ball, and a phosphorescent cloths equipped with phosphorescent surfaces (identical to light-storing phosphor) with exciting spectra of ultraviolet wavelengths, by irradiating ultraviolet rays according to the excitation spectra on the surfaces. - 特許庁

そして、そのときに、所定数の反射体を経た場合の反射率の半値幅中心と反射すべき極短紫外光の中心波長とが一致するように（Ｓ１０２）、その多層膜構造における繰り返し積層単位の周期長を設定する。例文帳に追加

The periodical length of the multilayer unit for repetition in the multilayer film structure is determined in such a manner that the half width center of the reflectance when the light is reflected on a specified number of layers coincides with the center wavelength of the EUV light (S102). - 特許庁

本発明は、フッ素が添加された石英ガラスからなるコア部と石英ガラスからなるクラッド部とを有するプリフォームを製造し、プリフォームから光導波路を線引することにより紫外光伝送用光導波路を製造する。例文帳に追加

In the method for manufacturing the optical waveguide, the optical waveguide for transmittance of UV rays is obtained by manufacturing a preform having a core part comprising quartz glass doped with fluorine and a clad part comprising quartz glass, and then drawing the optical waveguide from the preform. - 特許庁

波長１５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の紫外光の照射により波長５００ｎｍ以上５７０ｎｍ以下の領域にピークを持つ蛍光を発する蛍光シリカガラスであって、銅濃度が１ｐｐｍ以上４００ｐｐｍ以下であるようにした。例文帳に追加

The fluorescent silica glass emits fluorescence having a peak within a wavelength range of 500-570 nm when exposed to ultraviolet rays within a wavelength range of 150-300 nm, wherein the copper concentration is adjusted to 1-400 ppm. - 特許庁

このような複雑な反応系において、紫外光を用いて光を十分に照射し反応を行うことによって、副反応を抑え選択的に天然に存在する各種生理活性物質と同様の構造の化合物を効率よく一段階で合成できることが確認された。例文帳に追加

By sufficient irradiation with ultraviolet rays in such a complicated reaction system, the compounds having the same structure as various physiologically active substances found in nature can be selectively synthesized in one step efficiently by inhibiting side reactions. - 特許庁

従来よりも長波長側（低光子エネルギー側）の紫外光の照射により光誘起屈折率変化を容易かつ効率的に生じさせてグレーティングの生成を容易に行い得るグレーティング形成用石英系ガラスを提供する。例文帳に追加

To provide quartz glass for forming grating, which is easy to form grating and in which the light induced refractive index change occurs easily and effectively by irradiating it with an ultraviolet ray having a wavelength of longer wavelength side(low photon energy side) than the conventional wavelength. - 特許庁