「"紫外光"」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

光学ペンは、筒状のペン本体と、ペン本体の先端から紫外光を発光する発光ダイオードと、ペン本体に内蔵され発光ダイオードに所定の電圧を印加する電池と、電池と発光ダイオードを接続する配線と、配線に接続され発光ダイオードの発光と発光停止を制御するスイッチとを有する。例文帳に追加

The optical pen has a cylindrical pen main body, a light emitting diode emitting UV from the tip of the pen main body, a cell incorporated into the pen main body and applying a prescribed voltage to the light emitting diode, wiring connecting the cell to the light emitting diode, and a switch connected to the wiring and controlling light emission and suspension of the light emitting diode. - 特許庁

透明基板（１）上に、高屈折率膜（３）と低屈折率膜（２）とを含む膜を多層積層した紫外光遮蔽素子であって、高屈折率膜（３）及び低屈折率膜（２）から選ばれる少なくとも一つ膜の光吸収係数が０．１以上となる波長が３００ｎｍから３６０ｎｍの範囲にある。例文帳に追加

The ultraviolet light shielding element is made by laminating multilayer films containing high refractive index films 3 and low refractive index films 2 on a transparent substrate 1, wherein the light absorption coefficient of at least one film selected from the high refractive index films 3 and the low refractive index films 2 becomes 0.1 or more at a wavelength in the range of 300 nm-360 nm. - 特許庁

また、紫外光用ＣＣＤカメラ５が１枚の画像を撮像する毎に、検査するレジストパターンに対して、紫外域の波長を有する照明光を、０．５ｍＪ／ｃｍ^2以上の照射光量で、且つ、検査対象のレジストパターン１０２を収縮させない照射閾値、或いは、反射防止膜の吸収率を変化させない照射閾値以下の照射光量で照射する。例文帳に追加

Every time the UV CCD camera 5 photographs a frame of image, the resist pattern 102 under inspection is irradiated with illuminating light having a wavelength in the UV range at an irradiating quantity of 0.5 mJ/cm2 or more, an irradiating threshold not shrinking the resist pattern 102 under inspection or an irradiating quantity below the irradiating threshold, not changing the absorption of an antireflective film. - 特許庁

この状態で、同図の（ｂ）に示すように、フェイズマスク８を介して光ファイバテープ心線２に光源５からの紫外光を照射することにより、光ファイバテープ心線２に並設されている複数の光ファイバのうち、裸光ファイバ１ａのグレーティング形成部６にのみグレーティングを形成する。例文帳に追加

In this state, as shown in Fig. 1 (b), the coated optical fiber tape 2 is irradiated with ultraviolet rays from a light source 5 through the phase mask 8, thereby forming a grating only in the grating forming part 6 of the bare optical fiber 1a, among the plural optical fibers arranged side by side in the coated optical fiber tape 2. - 特許庁

離型紙面に形成された熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂の塗膜の目付を測定する方法であって、前記塗膜に紫外光を含む光を照射し、前記塗膜を透過して前記離型紙面で散乱された光の強度を計測し、その光の強度と検量線データとを比較することにより、塗膜の目付を測定することを特徴とする塗膜目付の測定方法。例文帳に追加

The method of measuring the basis weight of the coating of a thermosetting resin or thermoplastic resin formed on the face of the release paper includes: irradiating the coating with light including ultraviolet light; measuring the intensity of light scattered on the face of the release paper by transmitting the coating; and measuring the basis weight of the coating by comparing the intensity of the light with a calibration curve. - 特許庁

前記Ｔａ_2 Ｏ_5 膜中の酸素欠損を補償する熱処理を、ＮとＯとを含む雰囲気中において、紫外光照射により窒素ラジカルと酸素ラジカルとを発生させながら低温で行い、発生した窒素ラジカルによりＳｉ基板表面のダングリングボンドを速やかに終端させ、また発生した酸素ラジカルにより、Ｔａ_2 Ｏ_5 膜中の酸素欠損を補償する。例文帳に追加

The heat treatment for compensating the oxygen defect in the Ta2O5 film is performed in an atmosphere containing N and O at low temperatures while generating nitrogen radials and oxygen radicals, by applying ultraviolet rays to rapidly end dangling bonds on the surface of the Si substrate by the generated nitrogen radicals and to compensate the oxygen defect in the Ta2O5 film by the generated oxygen radicals. - 特許庁

気体状酸化剤の雰囲気中で波長１７２〜１２６ｎｍの真空紫外光を照射することにより、前記プラスチック表面の接着性を改良することを特徴とするプラスチック表面の改質方法によって、前記プラスチック表面の接着性を改良するので、簡便な方法でプラスチック表面の接着性を向上させることができる。例文帳に追加

The adhesive ability of a plastic surface can be improved by a simple procedure comprising irradiating the surface with a vacuum UV ray having a wave length of 172-126 nm in a gaseous oxidizing agent atmosphere. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、感度及び解像力に優れ、更にレジスト溶液に時間の経過と共にパーテイクルが発生する問題を解消したポジ型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive resist composition, in which the problems of the performance improvement technique of a microphoto application of its own using far ultraviolet ray, particularly ArF excimer laser beam are solved and concretely, the improvement of sensitivity and resolution and a problem of generating particles in a resist solution with the lapse of time are resolved. - 特許庁

下記一般式（１）で示される環状化合物と、少なくとも光酸発生剤、酸拡散抑制剤及び溶剤を含み、前記光酸発生剤及び酸拡散抑制剤がそれぞれ溶剤を除く組成物中０〜４０重量％含まれる極端紫外光用及び／又は電子線用フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The photoresist composition for extreme ultraviolet light and/or electron beam includes a cyclic compound represented by a general formula (1), a photoacid generator, an acid diffusion inhibitor, and a solvent, wherein the photoacid generator and acid diffusion inhibitor are each contained in the amount of 0-40 wt.% in the composition except the solvent. - 特許庁

有害物質を含む排気ガスを処理するため、放電プラズマを利用して有害物質を分解するだけでなく、放電プラズマからの紫外光を利用して水素を安価なコストで発生させ、その水素の強力な還元力を併用して排気ガスに含まれる有害物質の還元処理を可能とする方法及び装置を得る。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus by which harmful materials in an exhaust gas is not only decomposed by discharge plasma, but also reduced by using the strong reduction force of hydrogen produced by ultraviolet rays from the discharge plasma at a low cost to treat the exhaust gas containing the harmful materials. - 特許庁

波長２５０ｎｍ以下の光、特にＡｒＦエキシマーレーザー光に対して透明性が高く、高感度であるといったレジスト性能を有し、ドライエッチング耐性に優れ、遠紫外光エキシマーレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適なレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いた微細なパターン形成方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a resist composition having high transparency to light with wavelength ≤250 nm, especially to ArF excimer laserbeam and resist performance such as high sensitivity, excellent in dry etching tolerance, and suitable for far-ultraviolet light excimer laser lithography, electronic beam lithography, etc., and to provide a method for forming fine patterns using the composition. - 特許庁

少なくとも色材と、これを溶解するための水性液媒体とを有するインクジェット用インクにおいて、色材として、紫外光域で励起し、可視光域で発色するアニオン性蛍光染料を少なくとも１種含み、且つこの蛍光染料の総量に対して５—６０％のポリエチレンイミンを含有することを特徴とする蛍光インク。例文帳に追加

The fluorescent ink comprises at least one kind of anionic fluorescent dye exciting in an ultraviolet light area and coloring in a visual light area as a coloring material and comprises 5-60% polyethyleneimine based on total amount of the fluorescent dye in an ink for ink jet having at least the coloring material and a water-based liquid medium for dissolving the coloring material. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、露光後加熱温度依存性、エッチング表面荒れが低減され、さらには疎密依存性が小さく、サイドローブマージンに優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photoresist composition for exposure to far UV rays, the composition showing little dependence on heating temperature after exposure in a microphotofabrication process using far UV light, in particular, ArF excimer laser light, having decreased surface roughening by etching, having low dependence on pattern density, and having excellent side lobe margin. - 特許庁

レーザ発振器からのレーザ出力光を非線形光学結晶２３によって高調波を発生させ短波長を得る波長変換レーザにおいて，波長変換効率を向上させ，かつ非線形光学結晶の寿命を延ばす事で，大出力で実用的な紫外光源を得る事を目的とする。例文帳に追加

To provide a UV light source which has a high power and is practical by enhancing the efficiency of wavelength conversion and prolonging a life of nonlinear optical crystal in a wavelength converting laser which generates higher harmonic wave and provides shorter wavelength by means of a nonlinear optical crystal 23 with respect to a laser output beam from a laser transmitter. - 特許庁

紫外光のみならず可視光領域も利用しうる光触媒を提供し、この触媒を用いて水等の分解に使用し、これによって、水素を生成、製造する手段を提供しようとするものであり、更にまた、有害化学物質の分解処理に使用し、これによって、有害物質無害化処理手段を提供しようとするものである。例文帳に追加

To obtain a photocatalyst capable of utilizing not only an ultraviolet region but also a visible light region, a means for forming and manufacturing hydrogen by using this photocatalyst in the decomposition of water, or the like, and a harmful substance detoxifying treatment means using the photocatalyst in the decomposition treatment of a harmful substance. - 特許庁

光誘起型の屈折率変化を利用した導波路型光部品の光学特性調整方法であって、導波路型光部品が光回路中にマッハ-ツェンダ干渉計を有し、このマッハ-ツェンダ干渉計の２本のアームに、異なる向きの偏波の紫外光を照射することを特徴とする導波路型光部品の光学特性調整方法。例文帳に追加

In the method for controlling optical characteristics of the waveguide type optical component by using light induction type refractive index changes, the waveguide type optical components has a Mach-Zehnder interferometer arranged in an optical circuit and two arms of the Mach-Zehnder interferometer are irradiated with ultraviolet light of polarized waves of different directions. - 特許庁

半導体からなりピーク波長３７０ｎｍ〜４８０ｎｍの青色光ないし近紫外光を発光する発光素子と、該光を励起光としてピーク波長５６０ｎｍ〜５８０ｎｍの黄色光を放射する蛍光体とを組み合わせてなる害虫防除装置用ＬＥＤランプ５を、ほ場Ｂにおける害虫防除の必要な被照射面の実質的に全域での照度が１ｌｘ〜１０ｌｘの範囲内に収まるように、分散配置する。例文帳に追加

These LED lamps are to be dispersedly arranged so that the illuminance in the substantially overall to-be-irradiated area necessary for controlling insect pests in a farm B fall within the range of 1-10 lx. - 特許庁

着色材と水と水溶性有機溶剤を少なくとも含む水性インキ組成物において、前記着色材が少なくとも昼光下で無色または白色状であり、近紫外〜紫外光を吸収して鮮明な有彩色を発光する蛍光物質を含むものであることを特徴とする水性インキ組成物。例文帳に追加

This water-base ink composition at least containing a coloring matter, water and a water-soluble solvent is characterized in that the coloring matter is colorless or white at least in daylight, and contains a fluorescent material emitting a clear chromatic color by absorbing the near ultraviolet to ultraviolet rays. - 特許庁

アルゴンガスと塩素ガスによる誘電体バリヤ放電１００によって生成される波長１７５ｎｍにピークを有する真空紫外光を酸素を含む流体に照射させて、光化学反応によってオゾンおよび活性酸化性分解物を生成せしめ、このオゾンおよび活性酸化性分解物を被処理物９に接触させて酸化させることを特徴とする。例文帳に追加

An oxygen-containing fluid is irradiated with vacuum ultraviolet light which is generated by a dielectric barrier discharge 100 while using argon gas and chlorine gas and has 175 nm wavelength at the peak to generate ozone and an active oxidizing/decomposing material, which are then brought into contact with a subject 9 to be treated in order to oxidize the subject. - 特許庁

水への溶解性も良好で、紙（特に普通紙）への耐水性も極めて優れ、染料濃度を調整することによって目視認識可能な印刷からある特定の紫外光を照射することによって蛍光発光で読み取ることが可能な印刷まで対応することができる蛍光強度が高い染料（化合物）及びそれを含有するインクを提供する。例文帳に追加

To provide a dye (compound) having high fluorescence intensity which has good water solubility in water, very superior water resistance against paper (especially ordinary paper) and can cope with from printing to be visually recognizable by adjusting the dye concentration to printing to be readable with fluorescence emission by irradiation with certain specified ultraviolet rays, and an ink containing the same. - 特許庁

また、本発明の光学的記録方法は、フォトクロミック材料を含む記録層を有する光学的記録媒体への記録方法であって、紫外光から可視光の波長領域の光を照射して記録を行い、赤外線波長領域の光を利用して再生を行う方法であり、上記光学的記録媒体が好ましく用いられる。例文帳に追加

The optical recording method is a recording method for an optical recording medium having a recording layer containing a photochromic material and performs recording by irradiation with the light in the range from ultraviolet light to visible light and performs reproduction using the light in the wavelength range of IR, and in the optical recording method, the above optical recording medium is preferably used. - 特許庁

化膿の恐れがある皮膚患部を被覆して空気との接触を遮断すると同時に、皮膚患部に近紫外光を照射することで殺菌及び感染菌の増殖を防止し、かつ、被覆部材であるシート体を取り外すことなく皮膚患部の目視による観察を可能にする医療用発光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a medical light emitting device for interrupting contact with air by covering a skin lesion with the risk of suppuration, simultaneously performing sterilization and preventing the reproduction of infecting bacteria by irradiating the skin lesion with near ultraviolet light, and making it possible to visually observe the skin lesion without detaching a sheet body which is a covering member. - 特許庁

金属系材料からなる基材の表面に波長５０ｎｍ〜１００ｎｍの真空紫外光を照射しつつ炭素原子を含む飛散粒子を付着させる接合前処理工程と、 前記飛散粒子が付着した前記基材の表面上に他の部材を接合せしめる接合工程と、を含むことを特徴とする接合方法。例文帳に追加

The joining method comprises a joining pretreatment step of depositing scattering particles containing carbon atoms on a surface of a base member formed of metallic materials while irradiating vacuum ultraviolet ray of the wavelength of 50-100 nm, and a joining step of joining other member on the surface of the base member with the scattering particles deposited thereon. - 特許庁

また、蛍光体層３５６には、最内層から最外層までを連通する連通孔が設けられているとともに、透光性粒子３５６２は、紫外光および可視光を透過し、蛍光体層３５６中において、蛍光体粒子３５６１の量に対して５［ｗｔ％］以上３３［ｗｔ％］以下の比率をもって含有されている。例文帳に追加

Further, communication holes which communicate from the innermost layer to the outermost layer are provided in the phosphor layer 356, and the translucent particles 3562 transmit ultraviolet light and visible light and are included in the phosphor layer 356 with a ratio of 5 [wt.%] or more and 33 [wt.%] or less against the quantity of the phosphor particles 3561. - 特許庁

樹脂部材６０の表面６０ｓに光触媒層８０を密着させる工程と、樹脂部材６０と光触媒層８０との密着部分６５に紫外光６６を照射する工程と、無電解めっき法により樹脂部材６０の表面６０ｓにめっき皮膜７０を形成する工程と、を有することを特徴とする。例文帳に追加

The film deposition method includes: a step of adhering a photocatalyst layer 80 to a surface 60s of the resin member 60; a step of applying ultraviolet ray 66 to an adhered portion 65 of the resin member 60 to the photocatalyst layer 80; and a step of depositing the plating film 70 on the surface 60s of the resin member 60 by an electroless plating method. - 特許庁

波長２００ｎｍ以下の紫外光を用いるフォトリソグラフィ工程において、ペリクル膜とフレームとからなるペリクルを通して露光する際、９９．５％以上の純度を有する不活性ガス成分と、９９．５％以上の純度を有する炭素数３以下のフッ素化炭化水素ガス成分を混合して成る混合ガスの雰囲気下で露光することを特徴とする露光方法。例文帳に追加

When the pellicle, having the pellicle film and a frame, is exposed in a photolithographic process using the ultraviolet rays having the wavelength of 200 nm or shorter, the exposure is made in an atmosphere of a mixed gas containing an inert gas component, having a purity of 99.5% or more and a fluorinated hydrocarbon gas component having 3 or fewer carbons in purity of 99.5% or higher. - 特許庁

可視光のみならず特に紫外光に対して優れた吸収性を示し、広帯域の光に対して長期にわたって光触媒活性を有し、分解対象物に対する吸着性に優れ、酸化分解作用、抗菌作用、防汚作用等を発現可能な広帯域光吸収性光触媒等の提供。例文帳に追加

To provide a photocatalyst for wide band optical absorption and the like which exhibits excellent absorbancy to ultraviolet ray as well as visible light, has photocatalytic activities to wide band light for a long term and is excellent in adsorption performance to an object to be decomposed and which is capable of effecting oxidative decomposition action, fungicidal action, anti-fouling action and the like. - 特許庁

本発明は、光源からの光パワーを有効に利用して、光触媒作用を安定且つ高効率に発揮させると共に、使用範囲の制限を招く光源の独立した設置スペースを不要とし、紫外光等の照射による人体ヘの悪影響を防止することができる光触媒励起装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a photocatalyst excitation device which enables a photocatalyst to display its action stably by efficiently making efficient use of an optical power emitted from a light source, dispenses with an installation space that is separately provided for a light source and liable to impose limitations on an operating range, and protects a human body against an adverse effect caused by irradiation with ultraviolet rays or the like. - 特許庁

例えば、成膜条件や結晶粒子径を制御することによって、酸化チタン薄膜単独（酸化チタン薄膜層２単独）で、光量１．０μｗ／ｃｍ^２以下の紫外光の照射下で、水の接触角が５°以下（特に実質的に０°）となる高度な光触媒活性を示すことを特徴とする酸化チタン薄膜を得る。例文帳に追加

For example, by controlling the film forming condition and the particle diameter of crystal, the titanium oxide thin film having a high photocatalytic activity such that the contact angle of water under a feeble ultraviolet irradiation of 1.0 μw/cm^2 is ≤5° (substantially 0°) by the titanium oxide thin film alone (titanium oxide thin film 2 alone) is obtained. - 特許庁

シラン化合物の加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方と、（Ｂ）紫外光照射および／または加熱により酸を発生する化合物（例えば、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムカンファースルホネート）と、（Ｃ）触媒（例えば、マレイン酸）とを含有することを特徴とするレジスト下層膜用組成物である。例文帳に追加

The composition for a resist underlayer film comprises: (A) both or either of a hydrolysate and a condensate of a silane compound; (B) a compound generating an acid by ultraviolet irradiation and/or heating (e.g., bis(4-t-butylphenyl)iodonium camphorsulfonate); and (C) a catalyst (e.g., maleic acid). - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術における課題を達成すべく、現像欠陥、特にラインパターン及びトレンチパターン形成におけるブリッジングを低減した遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photoresist composition for exposure to a far ultraviolet ray in which bridging for forming a developing defect or particularly line pattern and a trench pattern is reduced so as to perform a subject in a technique for improving an original performance of a microphotofabrication used for a far ultraviolet ray or particularly an ArF excimer laser beam. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、良好なパターンプロファイル、特に、ガラス基板（ＳＯＧ基板）上でのラインパターンの裾形状不良、コンタクトホールの庇形状を生じない、また、広いサイドローブマージンを有するポジ型感光性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photosensitive composition giving good pattern profile particularly free of a defective trailing shape of a line pattern on a glass substrate (SOG substrate) and an overhang shape of a contact hole and having a wide side lobe margin. - 特許庁

所望の金属酸化物の前駆体となる金属有機化合物を有機溶媒中に分散し、該金属有機化合物分散溶液に浸漬した基材に紫外領域のレーザー光（好ましくは300nm以上の長波長の紫外光レーザー）を照射することにより、該基材の光照射部位に前記金属酸化物の薄膜を生成する。例文帳に追加

An organic metal compound as a precursor of a desired metal oxide is dispersed in an organic solvent, and a substrate is immersed in the resulting organic metal compound dispersion and irradiated with laser light in an ultraviolet region (preferably ultraviolet laser having a long wavelength of ≥300 nm) to form a thin film of the metal oxide on the irradiated part of the substrate. - 特許庁

波長３４０ｎｍ〜３８０ｎｍの近紫外光によって励起されて白色発光する照明用蛍光体であって、ピーク波長６２５ｎｍ〜７５０ｎｍの赤色蛍光体またはピーク波長５７５ｎｍ〜６７５ｎｍの橙色蛍光体と、ピーク波長５００ｎｍ〜６００ｎｍの緑色蛍光体と、ピーク波長４００ｎｍ〜５００ｎｍの青色蛍光体とを含有している。例文帳に追加

The illuminating fluorescent substance excited by the near ultraviolet light at 340-380 nm wavelength and emitting the white light comprises a red fluorescent substance at 625-750 nm peak wavelength or an orange fluorescent substance at 575-675 nm peak wavelength, a green fluorescent substance at 500-600 nm peak wavelength and a blue fluorescent substance at 400-500 nm peak wavelength. - 特許庁

分解されるべき有機塩素化合物を含有するガスに波長１５０ｎｍ〜２８０ｎｍの紫外線を照射せしめる第一工程、続いて該紫外線を照射後のガスに対して波長３００ｎｍ〜５００ｎｍの近紫外光若しくは可視光の短波長部の光を照射する第二工程を有する有機塩素化合物の光分解方法。例文帳に追加

This method for photolyzing the organochlorine compound comprises a first step for irradiating the gas containing the organochlorine compound to be decomposed with 150-280 nm ultraviolet rays, and a second step for irradiating the ultraviolet-irradiated gas with near ultraviolet rays or the light in the short wave length part of the visible light, having 300-500 nm wavelength. - 特許庁

オリゴメール又は反応性モノマーの一つと、光重合開始剤を含む液状の感光性樹脂を、内部へ発光ダイオードチップを封止した後、赤外線を含まない可視光又は紫外光の照射下に曝して、液状感光性樹脂のフリーラジカル集合反応を誘発し、室温下で迅速に硬化させる。例文帳に追加

Either oligomer or reactive monomer and liquid photosensitive resin including a photopolymerization initiator are exposed, after a light emitting diode chip is sealed inside, to the radiation of visible light which does not include infrared rays or of ultraviolet light, which causes free radical aggregation reaction of the liquid photosensitive resin, and swiftly cures it at room temperature. - 特許庁

極端紫外光を用いて、マスクに形成されたパターンを感応基板上に露光転写するための複数の反射鏡（Ｍ１−Ｍ６）を有する投影光学系を備えた露光装置であって、前記複数の反射鏡のうち、少なくとも１つの反射鏡を外部と絶縁した状態で保持することを特徴とする露光装置である。例文帳に追加

The aligner comprises a projection optical system having a plurality of reflectors (M1-M6) performing exposure and transfer of a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate using extreme ultravoilet light wherein at least one of the plurality of reflectors is held in a state insulated from the outside. - 特許庁

遠紫外光を使用するリソグラフィの薄膜化に対応する技術課題を解決することであり、具体的には薄膜プロセスにおいても十分な面内均一性が保持され、高解像力でパターン倒れの少ない、所望のレジストパターンを再現し得る感放射線性樹脂組成物を提供すること。例文帳に追加

To solve problems on a technique adaptable to reduction in the thickness of a film for lithography using far ultraviolet light and to provide a radiation sensitive resin composition capable of reproducing a desired resist pattern which retains satisfactory intrasurface uniformity, has high resolving power and collapses hardly even in a thin film process. - 特許庁

極端紫外光を用いて、マスクに形成されたパターンを感応基板上に露光転写するための複数の反射鏡を有する投影光学系を備えた露光装置であって、前記複数の反射鏡のうち、少なくとも１つに露光光の反射率を監視する機器１１１を備えたことを特徴とする露光装置である。例文帳に追加

In the exposure device equipped with a projection optical system having a plurality of reflectors for exposure transferring a pattern formed on a mask to a photosensitive substrate by using extreme UV-light, at least one of the plurality of reflectors is provided with an apparatus 111 for monitoring the reflectivity of exposure light. - 特許庁

円盤状の基板１の表面に紫外光反応硬化型樹脂２である樹脂材料をスピンコートし、樹脂層２Ａを形成する光記録媒体の製造方法において、前記基板１として、前記樹脂材料でコートする表面に対して外周面が鋭角をなす形状の基板を使用する。例文帳に追加

In the method for manufacturing the optical recording medium for forming a resin layer 2A by spin-coating the surface of a disk-like substrate 1 with a resin material, that is an ultraviolet-light reaction curing resin 2, a substrate in a shape, where the outer periphery surface forms an acute angle to a surface coated by the resin material is used as the substrate 1. - 特許庁

下記一般式（１）で表される単量体から形成される単量体単位を有する含フッ素樹脂（A）と、紫外光（300nm〜450nm）に反応する感光性成分とを含むカラーフィルター隔壁形成用感光性樹脂組成物であって、組成物の全固形分100重量部に対する含フッ素樹脂（A）の割合が0.05〜10重量部であるカラーフィルター隔壁形成用感光性樹脂組成物である。例文帳に追加

This photosensitive resin composition for forming color filter barrier plate contains: (A) fluorine contained resin having a monomer unit formed by a monomer expressed by the following general formula; and a photosensitive component reacting with ultraviolet rays (300 nm-450 nm), and the proportion of the fluorine contained resin (A) to 100 pts.wt. total solid in the composition is 0.5-10 pts.wt. - 特許庁

高圧水銀ランプと、この高圧水銀ランプを取り囲むとともに、放射光のうち紫外光を反射するとともに可視光を透過する凹面反射鏡よりなる光源装置において、高圧放電ランプに給電するための給電線を接続する給電端子が、反射鏡を透過してくる赤外光を含む可視光によって加熱されて酸化してしまうことがないような構造を提供することである。例文帳に追加

To provide a structure of a light source device which includes high-pressure mercury lamp and a concave reflection mirror surrounding the high pressure mercury lamp, reflecting ultraviolet light out of irradiated light and transmitting visible light, so that feeder terminals to connect feeder wires to supply electricity to a high-pressure discharge lamp are not to be oxidized by being heated with the visible light including infrared light transmitting the reflection mirror. - 特許庁

フレームと、極端紫外光の生成が内部で行われるチャンバと、チャンバの内部にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、フレームとチャンバとをフレキシブルに接続するための第１の接続部材と、ターゲット供給部をフレームに固定するための機構と、ターゲット供給部をチャンバにフレキシブルに接続するための第２の接続部材と、を備えてもよい。例文帳に追加

An extreme ultraviolet light generation system may comprise: a frame; a chamber in which extreme ultraviolet light is generated; a target supply unit for supplying a target material into the chamber; a first connection member for connecting the frame and the chamber flexibly; a mechanism for fixing the target supply unit to the frame; and a second connection member for connecting the target supply unit to the chamber flexibly. - 特許庁

基板上に、水に溶解または分散可能な樹脂および紫外光により硬化可能なモノマーを含有する感光性樹脂層（Ａ）、接着力調整層（Ｂ）、および赤外線吸収物質を含有する感熱マスク層（Ｃ）がこの順に積層された感光性樹脂印刷原版であって、該接着力調整層（Ｂ）が少なくともアミン化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂印刷版原版による。例文帳に追加

In the photosensitive resin printing plate precursor, a photosensitive resin layer (A) containing a water-soluble or water-dispersible resin and an ultraviolet-curable monomer, an adhesive strength adjusting layer (B), and the thermosensitive mask layer (C) containing an infrared absorbing substance are installed, in this order on a substrate, wherein the adhesive strength adjusting layer (B) contains at least an amine compound. - 特許庁

支持体上に、水に溶解または分散可能な樹脂および紫外光により硬化可能なモノマーを含有する感光性樹脂層（Ａ）、感熱マスク層（Ｃ）、感熱マスク層に接する面の表面粗さＲａが０．１〜０．６μｍである保護層（Ｅ）をこの順に有することを特徴とする感光性樹脂印刷版原版。例文帳に追加

The photosensitive resin printing original plate has a photosensitive resin layer (A) containing a monomer that is soluble or dispersible in water and curable by UV rays, a thermosensitive mask layer (C) and a protective layer (E) having a surface roughness Ra of 0.1 to 0.6 μm on the face in contact with the thermosensitive mask layer, successively layered in this order on a support. - 特許庁