例文 (143件) |
流加プロセスの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 143件
また、EPプロセスの現像装置の現像ロールに印加する現像バイアスは、上流側に配置されるEPプロセスから下流側に配置されるEPプロセスに移行するにつれて増加させる。例文帳に追加
Developing biases applied to developing rolls in developing devices of EP processes are increased according as the biases shift from EP processes disposed in the upstream side toward those disposed in the downstream side. - 特許庁
プロセスガスを短時間で効率的に加熱できるようにした加熱装置、および、この加熱装置を用いてプロセスガスを高温に加熱して下流の長距離にわたりプロセスガスを高温に維持するプロセスガス処理システムを提供する。例文帳に追加
To provide a heating arrangement for heating process gas efficiently in a short time, and to provide a process gas treating system for sustaining process gas at high temperature over a long distance in the downstream by heating the process gas to high temperature using the heating arrangement. - 特許庁
排気コンダクタンスの上昇を抑えつつプロセスガスを短時間で効率的に加熱できるようにした低コストの加熱装置、および、この加熱装置を用いてプロセスガスを高温に加熱して下流の長距離にわたりプロセスガスを高温に維持するプロセスガス処理システムを提供する。例文帳に追加
To provide a heating apparatus of low cost which can quickly and effectively heat a process gas while controlling a rising of an exhaust conductance, and to provide a process-gas treatment system which heats the process gas to a high temperature using the heating apparatus and maintains the process gas at the high temperature over a long distance of the lower stream. - 特許庁
また、幅広い参加及び研究者との交流の強化を図るための RG のプロセスの簡素化を歓迎。例文帳に追加
We also welcomed streamlining the process of the Research Group to ensure wider participation and enhanced interaction with researchers. - 財務省
あるいは、EPプロセスの転写装置の第一転写ロールに印加するバイアス電圧を画像形成の上流側に配置されるEPプロセスから下流側に配置されるEPプロセスに移行するにつれて、各第一転写ロールに印加するバイアス電圧を増加させる。例文帳に追加
Or bias voltages applied to first transfer rolls in transfer devices of EP processes are increased according as the voltages shift from EP processes disposed in the upstream side of image formation toward those disposed in the downstream side. - 特許庁
用紙搬送方向に沿って配設された複数のEPプロセスの帯電装置のバイアス印加によって制御される感光体の表面電位を、画像形成の上流側に配置されるEPプロセスから下流側に配置されるEPプロセスに移行するにつれて減少させる。例文帳に追加
A surface potential of a photoreceptor controlled by bias application of chargers in a plurality of EP processes arranged in a paper carrying direction is reduced according as the potential shifts from EP processes disposed in an upstream side of image formation toward those disposed in a downstream side. - 特許庁
この空気排出口52から吹き出された空気は、プロセス部11と定着装置12間を横切って流れるエアーカーテンとなり、定着装置12からプロセス部11への加熱された空気の流れを遮断する。例文帳に追加
The air blown out from the air exhaust port 52 flows across a space between the processing section 11 and a fixing device 12, thereby serving as an air curtain to block a flow of heated air toward the processing section 11 from the fixing section 12. - 特許庁
プロセスガスの添加成分が雰囲気ガス成分と同じである場合、雰囲気ガスをプロセスガス流に混入することにより、設備の簡素化を図る。例文帳に追加
To aim at simplification of a plasma processing device by mixing atmosphere gas into process-gas flow when an added component of the process gas is same as the atmosphere gas. - 特許庁
加圧プロセス空気は、4つのプロセス空気出口の各群から放出し、関連する液体出口から放出する液体接着剤の糸状体をランダムパターンで移動させるための乱流帯域を形成する。例文帳に追加
The pressurized processed air discharges from each group of the four processed air outlets and forms a zone of turbulence for moving the filament of liquid adhesive discharging from the associated liquid outlet in a random pattern. - 特許庁
弁は、再生プロセスから出る高温のガスを利用して、弁をシールするためのガスを加熱し、シールエアは、再生プロセスからの高温の排気ガスと接触するように配置されている第1及び第2の熱交換器を通って流れる。例文帳に追加
The valve utilizes hot gas from a regenerative process to heat gas for sealing the valve, and sealing air flows through first and second heat exchangers positioned to be in contact with hot exhaust gas from the regenerative process. - 特許庁
本発明は、ポンプ30の吸込圧力Ps、吐出圧力Pdおよび吐出流量Qを含むプロセス値を検出してプロセス値演算部43に加える。例文帳に追加
A process value including suction pressure Ps, delivery pressure Pd and a delivery flow rate Q of the pump 30 is detected and is added to a process value calculating part 43. - 特許庁
オゾン発生器へ導入される酸素流に添加物質としてヘリウムを導入し、発生器の流出物を吸着プロセスへ導く。例文帳に追加
Helium is introduced as an additive into any of oxygen streams to be introduced into the ozone generator, and the effluent of the generator is directed to the adsorption process. - 特許庁
続いて、プロセススピードPS2に対応する周波数で電圧値がV5の交流電圧が帯電ローラ2に印加され、このときに帯電ローラ2に流れる交流電圧の電流値I6が、プロセススピードPS2に対する定電流制御値として決定される。例文帳に追加
Sequentially, the alternating voltage whose voltage value is V5 is applied to a charging roller 2 at the frequency corresponding to the process speed PS2, and the current value I6 of the alternating voltage flowing in the charging roller 2 is determined as the constant current control value for the process speed PS2. - 特許庁
半導体製造などに使用されるプロセスガスを制御する各種の流体制御機器を一体的に接続した流通ラインプロセスユニットを持った集積流体制御装置で、加熱が必要なユニットについて熱効率が良くユニット全体を加熱する。例文帳に追加
To suppress the wasteful radiation and stably heat a unit by connecting various fluid control apparatuses in the passage direction through passage blocks, thereby constituting one circulation line unit, and installing a heater within a recessed groove provided in the passage direction of each passage block. - 特許庁
燃焼プロセス中に発生する気筒内イオンを検出するためには、直流バイアス電圧を印加する必要がある。例文帳に追加
In order to detect ions in a cylinder generated during the combustion process, the DC bias voltage must be applied. - 特許庁
インプリントプロセスによる樹脂の流動性と磁気記録媒体のエッチング後の加工性を均一にすることができる磁気記録媒体の提供。例文帳に追加
To provide a magnetic recording medium wherein fluidity of resin by an imprinting process and workability after etching of a magnetic recording medium can be made uniform. - 特許庁
たばこ加工産業における流動するプロセス空気の作用を受ける製造機械の騒音レベルを低下させるための装置例文帳に追加
DEVICE FOR LOWERING NOISE LEVEL OF MANUFACTURING MACHINE SUBJECTED TO EFFECT OF FLOWING PROCESS AIR IN TOBACCO PROCESSING INDUSTRY - 特許庁
プロセスの経済およびエネルギー効率を最適化するために、さらなる機器が、装置中において液体流の中間加熱に用いられる。例文帳に追加
To optimize the economics and energy efficiency of the process, additional devices are used for intermediate heating of the liquid streams in the apparatus. - 特許庁
本発明の一実施形態において、連鎖球菌が流加培養で増殖される、連鎖球菌を培養するためのプロセスを提供する。例文帳に追加
One embodiment of the present invention provides a process for culturing Streptococcus, wherein the Streptococcus is grown in feeding culture. - 特許庁
アルゴンフローはF_2流量の3〜10倍に維持し、プロセスチャンバ204の圧力を30〜300Torrの間まで増加させる。例文帳に追加
The pressure of the process chamber 204 is increased between 30 to 300 Torr. - 特許庁
簡単な構成でありながら、定着部からプロセス部への加熱された空気の流れをより広い範囲で効果的に遮断する。例文帳に追加
To effectively block a flow of heated air from a fixing section to a processing section, within a wider range despite a simple configuration. - 特許庁
処理プロセスは、例えば、低エネルギー化学線照射、アニール、機械的歪み、直流電圧、またはプラズマを加えることなどがある。例文帳に追加
The treatment process may include, for example, a low energy actinic radiation exposure, anneal, mechanical strain, DC voltage, plasma application, etc. - 特許庁
孔部221を通過して螺旋状となったプロセスガスが円筒210およびフィン220から放射される熱により加熱され、反応副生成物の付着を防止する温度が下流の排気流路の終端まで維持されるプロセスガスとする。例文帳に追加
The process gas, which passes the hole part 221 to be changed to a spiral state, is heated by a heat radiated from a cylinder 210 and the fins 220 so that a temperature preventing a reaction byproduct from adhering is maintained to the last end of a discharge passage of the lower stream. - 特許庁
その際には、各業務プロセスにおいて用いる業務プロセスにおける取引の発生から集計、記帳といった会計処理の過程の整理に加えて、システム間のデータの流れ等を、必要に応じ図や表を活用して把握・整理し、また各業務プロセスで使用されているシステムの一覧を作成することが有用である。例文帳に追加
In doing this, it would be useful to utilize charts and diagrams, as necessary, in order to recognize and clarify not only the accounting procedures performed in the business process, from origination of transactions to computing and journalizing transactions, but also the flow of data among systems. It would also be useful to prepare a list of the systems being used in each business process. - 金融庁
帯電部材に直流電圧のみを印加して帯電を行った場合であれ、ゴースト画像を発生させることなく、2パターンのプロセススピードを好適に活用し、且つ良質な画像を安定して形成することのできる画像形成装置、プロセスカートリッジ、およびそのような画像形成装置やプロセスカートリッジに適用される帯電部材を提供する。例文帳に追加
To provide an image forming apparatus and a process cartridge which can suitably use process speeds of two patterns and stably form an image of good quality without producing any ghost image even when electrostatic charging is carried out by applying only a DC voltage to an electrostatic charging member, and the electrostatic charging member applied to the image forming apparatus and process cartridge. - 特許庁
プロセスカートリッジを搬送ベルトや中間転写体に対して退避した位置で装着する構成において、プロセスカートリッジ未使用時に物流等で強い衝撃が加わった場合においても不具合がなく、安定して使用することのできるプロセスカートリッジ及び電子写真画像形成装置を提供する。例文帳に追加
To provide a process cartridge which is stably used without causing a failure even if strong shock is applied in physical distribution or the like when the process cartridge is not in use and the process cartridge is loaded at a position where it retreats from a conveyance belt or an intermediate transfer body, and to provide an electrophotographic image forming apparatus. - 特許庁
管路1、2及びプロセスチャンバ21の流路を流れる流体の流量が増加したとき、流量計4では流体の流量が測定され、圧力スイッチ5では流体の圧力が測定される。例文帳に追加
When the amount of flow passed through pipe lines 1, 2 and a passage of the process chamber 21 is increased, the flow amount is measured by a flow meter 4, and the pressure of the flow is measured by a pressure switch 5. - 特許庁
パイロットプロセスは、パイロットプロセスが開始するときと前記電子パワーコポーネントの開及び/もしくは閉を停止するときとの間においてコンポーネントの制御電極に印加される一連の異なる整流電圧を制御するための複数のステップを含む。例文帳に追加
The pilot process includes a plurality of steps for controlling a series of different rectified voltages applied to a control electrode of the component between a start of the pilot process and a stop of open and/or close of the component. - 特許庁
食品加工処理プロセス、セメント製造プロセス、高炉及びコークス炉、シャフト炉、ロータリーキルン、ストーカー炉、流動床炉、キュポラ、溶融炉、ガス化溶融炉等の排ガス中に含まれるダイオキシン類をさらに抑制する。例文帳に追加
To further reduce dioxins contained in the exhaust gases of a process of making food, a process of manufacturing cement, a blast furnace, a coke oven, a shaft furnace, a rotary kiln, a stoker furnace, a fluidized bed furnace, a cupola, a melting furnace, a gasification melting furnace and the like. - 特許庁
配管の内部を流れるプロセスガスを所定の温度に均一に加熱制御でき、しかもメンテナンスが容易であるばかりでなく、配管系を容易に変更できるようにしたプロセスガス搬送用配管及び成膜装置を提供する。例文帳に追加
To provide a process gas transfer piping capable of uniformly controlling the heating of process gas flowing through the inner part of piping to a prescribed temperature and also capable of easily changing a piping system as well as facilitating maintenance, and a film deposition system. - 特許庁
樹脂材料の射出成形プロセスにおける流動解析において、流動中に圧力が加わることにより結晶化が進行し、流動が停止して固化する効果をシミュレーション上にて考慮させるものであり、樹脂材料が流動を停止する温度を加圧時結晶化温度Tsとすることを特徴とする、射出成形プロセス解析方法。例文帳に追加
In the flow analysis in the injection molding process of resin materials, the effect of solidifying due to the progress of crystallization by application of pressure during flowing and stopping of the flow of the resin materials, is taken into account, and a temperature of stopping the flow of the resin materials is assumed as the crystallization temperature Ts at pressurizing time. - 特許庁
用いる電着プロセスには、最初に低電流密度を加え、所定の時間後に電流密度を高電流密度に変える電流波形が用いられる。例文帳に追加
The electrodeposition process employed uses current waveforms that apply a low current density initially, and after a predetermined period of time, the current density is changed to a high current density. - 特許庁
金属加工プロセスであって、加工プロセスの間に金属の潤滑をフッ素化不活性流体を用いて行うことを含み、前記フッ素化不活性流体は、一般式がC_nF_2n+2の脂肪族ペルフルオロカーボン流体、一般式がC_nF_2n+1ONのペルフルオロモルホリン、ペルフルオロシクロアルカン、ペルフルオロアミン、高フッ素化アミン、ペルフルオロエーテル、および高フッ素化エーテルからなる群から選択される。例文帳に追加
The metal processing process comprises conducting the lubrication of a metal during the processing using a fluorinated inert liquid selected from the group consisting of an aliphatic perfluorocarbon of a general formula of C_nF_2n+2, perfluoromorpholine of a general formula of C_nF_2n+1ON, a perfluorocycloalkane, perfluoroamine, a highly fluorinated amine, a perflluoroether and a highly fluorinated ether. - 特許庁
浮動ステータに形成された圧力バランス式環状通路は、加圧したシール流体がプロセス流体により浮動ステータに加えられる軸方向圧力を均衡させることを許容する。例文帳に追加
A pressure balance type annular passage formed at the floating stator permits a pressurized seal fluid to balance an axial pressure applied to the floating stator by a process fluid. - 特許庁
加熱装置1の加熱流路部200に複数枚配置されたフィン220の孔部221は、プロセスガスを螺旋状に案内しつつ流すように設けられている。例文帳に追加
A hole part 221 of a plurality of fins 220, arranged in a heating passage part 200 of the heating apparatus 1, is arranged so that the process gas flows while being spirally introduced. - 特許庁
ゲート絶縁層402上にアンドープポリシリコン層411aをシラン流プロセスで形成し、続いてその上に、ドープ剤を添加したホスフィン流をシラン流に混合してドープポリシリコン層411bを形成する。例文帳に追加
An undoped polysilicon layer 411a is formed on a gate insulation layer 402 by silane flow process and a doped polysilicon layer 411b is formed thereon by admixing a silane flow wit a phosphine flow added with a dopant. - 特許庁
微細加工プロセスの適用を必要とすることなしに、マイクロチャンネル(微細流路)に流体バルブやマイクロポンプ等の機能を実現して流体の制御を可能とする。例文帳に追加
To control a fluid by realizing the function of a fluid valve, a micropump or the like, in a microchannel (microflow channel) without requiring the adaptation of a microprocessing process. - 特許庁
インクジェットヘッド10のインク流路基板32に、ODEプロセスによって加工するインク流路28の流路溝38とともに空溝40を形成する。例文帳に追加
A groove 40 is made in the ink channel substrate 32 of an ink jet head 10 along with the groove 38 of an ink channel 28 being made by ODE process. - 特許庁
プロセス微細化によるオフリーク電流量の増加と変動幅に対応し、静的電源電流値の異常を高い感度および信頼性で検出可能な静的電源電流の判定値と故障検出方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for determining value and also detecting failure of static power supply current which can detect abnormality in the static power supply current value with higher sensitivity and reliability, depending on increase and variation range of off-leak current capacity due to process miniaturization. - 特許庁
プロセススピードが高くなった場合には、画像形成時の前回転動作時に印加する交流定電圧値を選択されている交流定電圧値もしくはそれよりも高い交流定電圧値とする。例文帳に追加
If the processing speed has become high, the value of the AC constant voltage applied during the pre-rotating operation in image formation is switched to the value of the AC constant voltage that has been selected or to the value of the AC constant voltage higher than that. - 特許庁
本プロセスは、電流をめっき浴に流して基板とアノードの間、および第2のカソードとアノードの間に印加するステップと、基板上に異なる密度の金属フィーチャを電気めっきするステップを更に含む。例文帳に追加
The method includes a step of applying a voltage between the substrate and the anode and between the second cathode and the anode to allow an electric current to flow to the plating bath and a step of electroplating the metal feature different in density on the substrate. - 特許庁
爆轟波に続き、加圧された燃焼生成物が、爆轟管路の下流端部30から噴流として放出され、洗浄プロセスをさらに仕上げる。例文帳に追加
The detonation wave will be followed by the expulsion of a pressurized combustion product, the expelled product emerging as a jet from the downstream end 30 of the detonation conduit and further completing the cleaning process. - 特許庁
帯電部材に印加する交流電圧を高めたり、交流電圧の周波数を高めたりすることなく、濃度ムラを抑えた画像を得ることができる帯電部材、画像形成装置およびプロセスカートリッジを提供する。例文帳に追加
To provide an a charging member by which an image suppressed in density unevenness can be obtained, without increasing the AC voltage to be applied to the electrifying member, and without increasing the frequency of the AC voltage. - 特許庁
ロールジャケットの外側表面の全体または適切に選択可能な領域に、均一な密度の渦電流を発生させることによって、加熱出力の損失のない伝達とプロセスに適応した加熱出力を発生させる。例文帳に追加
To output heat suitable for transmitting and processing causing no loss of the heat, by generating an eddy current with uniform density, on the entire or selected area of the outside surface of a roll jacket. - 特許庁
従来の製造プロセスを用いつつ、pMOSにはチャネル方向に圧縮応力をnMOSにはチャネル方向に引っ張り応力を印加出来るようにして両MOS電流の増加を図る。例文帳に追加
To use a conventional production process, and simultaneously to apply stress strain on a pMOS in the channel direction and tensile stress to an nMOS in the channel direction, to realize increase in both-MOS currents. - 特許庁
薄膜プロセスにより基板上に磁気回路が形成されてなるインダクティブ型の薄膜磁気ヘッドにおいて、直流抵抗の大幅な増加等を招くことなく薄膜コイルの巻き数を増加させ、特性の向上を図る。例文帳に追加
To improve a characteristic by increasing the winding number of a thin-film coil without any great increases in DC resistance or the like in an interactive thin-film magnetic head having a magnetic circuit formed on a substrate by a thin-film process. - 特許庁
ROMやヒューズ素子を備えていない半導体装置であっても、製造プロセスの増加によるコストの上昇やパターン占有面積の増加を抑制できる電流溶断型ヒューズアレイを提供することを目的としている。例文帳に追加
To provide a current fusing type fuse array with which rise of a cost due to increase in manufacturing processes and increase in pattern occupied area can be suppressed even of a semiconductor device provided with neither ROM nor fuse element. - 特許庁
キャリア除去ユニットは、トナー画像保持構造体にトナーを押し付ける方向のバイアス電圧が印加された導電性回収ローラを2つ以上当接させ、そのプロセス上流のローラはトナー画像保持構造体と同一表面移動方向に回転させ、プロセス下流のローラは逆方向に回転させられる。例文帳に追加
In the carrier removing unit, two or more conductive recovering rollers to which bias voltage in a toner pressing direction is applied are made to abut on the toner image holding structural body, and the roller on a processing upstream side is rotated in the same surface moving direction as the toner image holding structural body and the roller on the processing downstream side is rotated in a reverse direction. - 特許庁
複数のプロセススピードを持ち、それぞれに対応して帯電周波数を可変する画像形成装置において、帯電部材に印加するピーク間電圧は一つのプロセススピードと帯電周波数をもちいて、帯電のピーク間電圧と交流電流の関係を測定することから算出すること。例文帳に追加
The peak-to-peak voltage to be impressed to an electrostatic charging member of the image forming device which has the plural process speeds and varies the electrostatic charge frequencies in correspondence to the respective speeds is calculated by measuring the relation between the peak- to-peak voltage of the electrostatic charge and the AC current by using one process speed and the electrostatic charge frequency. - 特許庁
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