「研磨作用」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

静圧スライド機構４に取付けられている部材の被研磨工具取付け台６等が重力の作用で滑る。例文帳に追加

Accordingly, parts attached on the static pressure slide mechanism 4, namely the stand 6 etc. for attaching the tool to be polished slide because of gravitation. - 特許庁

テクスチャー加工後に酸処理を行うことにより、エッチング作用に基づいて研磨材やガラスの削り屑が除去される。例文帳に追加

After the texture processing, acid treatment is performed and thereby the abrasive and the glass ground chip are removed due to etching action. - 特許庁

研磨作用がない放電生成物質除去装置を備えたクリーナレス画像形成装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an image forming device without a cleaner that is provided with a discharge generated products eliminating device without any polishing action. - 特許庁

ウエハ表面を洗浄するためのより効果的で研磨作用の弱い洗浄剤および方法を提供する。例文帳に追加

To provide a cleaning agent for cleaning the surface of a wafer which is more efficient and has weak polishing effect, and to provide a method thereof. - 特許庁

ポリッシャを重量の異なる物に変更すると被加工物に作用する押圧力が変化し、所定の研磨量を得ることが困難になる。例文帳に追加

To provide a polishing device capable of imparting prescribed pressing force even when weight of a polishing tool is changed. - 特許庁

ラビリンス溝を設けたり油溝の内面を研磨したりすることなく低コストでスプールに作用する偏荷重を除去する。例文帳に追加

To remove a bias load acting on a spool at a low cost without providing a labyrinth groove or polishing the inner surface of an oil groove. - 特許庁

そして、この磨砕機は、両研磨部材１，２を少なくとも近接させる方向に作用する、付勢機構３を備える。例文帳に追加

This grinder is equipped with an energizing mechanism 3 which acts at least in a direction allowing both grinding members 1 and 2 to approach mutually. - 特許庁

研磨ビーズ中での電極の振動（歳差運動）により、作用極の洗浄、研磨が可能であり、作用極の汚れなどによる感度低下を防止し、感度低下のない安定した連続測定を可能とした振動式酸化還元電流測定装置を提供する。例文帳に追加

To allow cleaning and polishing of a working electrode by vibration (precession) of the electrode in polishing beads to prevent sensitivity from being lowered by stain of the working electrode, and to allow stable continuous measurement without lowering the sensitivity. - 特許庁

ウェーハがウェーハチャッキング装置１３０に密着され、研磨パッドに対して維持部材１４０を位置することに使用する力とは独立してウェーハチャッキング部材１３４に均一に印加されるバイアシング力によって研磨パッドに圧力が作用するため、研磨パッドに対してウェーハに均一な力を加えることができる。例文帳に追加

Since, with the wafer tightly contacting the wafer chucking device 130, a biasing force is applied evenly on a wafer-chucking member 134, independently of a force used for positioning the holding member 140 to the polishing pad, and since pressure acts on the polishing pad, a constant force on the wafer can be applied to the polishing pad. - 特許庁

入射する光を反射する研磨面を有してなる薄板状弾性部を、上記研磨面とは反対側にて起歪素子によりその起歪作用のもとに変形させる構成のもと、上記研磨面で反射した光をその反射方向に円滑に進行させるようにした光反射装置、波面曲率変調装置及び走査型表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide an optical reflector which, under the structure for deforming a thin plate-like elastic part having a polished face for reflecting incident light, on the side opposite from the polished face, by a strain element through its strain action, the light reflected on the polished face is made to smoothly advance in the reflecting direction, and also to provide a wavefront curvature modulator and a scanning type display apparatus. - 特許庁

回転シャフトとの間に、回転シャフトの軸線に対し偏心し、かつ継ぎ手及びクロス揺動子を介してなる揺動シャフトと、該揺動シャフトを回転可能に支持する偏心カラーと、その回転駆動源からなり、揺動シャフトが被研磨物面に対し揺動回転及びその断面における任意点に、微小な偏心回転運動が付与される合成作用をを生成して被研磨物を研磨する。例文帳に追加

These movements are synthesized, and while swinging/rotating a cross section of the swinging shaft 3, microscopic eccentric rotary motion equal to eccentricity is imparted to the optional point, so that a polishing material is uniformly polished. - 特許庁

金属箔１１の表面側の一部を硬化させて硬化層１４を形成する工程と、切削作用を有する研磨器具を使用して研磨することにより、硬化層１４の上部を除去する工程と、残存する硬化層１４を研磨により除去して、表面を平坦化する工程とを含んで、金属箔１１の平坦化を行う。例文帳に追加

The method for flattening the metal foil 11 includes: a step of hardening a part of the top surface of the metal foil 11 to form a hardened layer 14; a step of removing an upper portion of the hardened layer 14 by polishing with a polisher having cutting action; and a step of polishing and removing the residual hardened layer 14 to flatten the surface. - 特許庁

工作物に対して化学的作用を及ぼすフッ素系オイル２ａ（あるいは、塩素系オイル、窒素系オイル）からなる液状物質を内包した所定粒径、所定壁厚のマイクロカプセル２を、研磨布（研磨パッド）１０を形成する発泡ポリウレタン樹脂３ａ中に分散添加する。例文帳に追加

The microcapsules 2 of a given grain size and a given wall thickness including a liquid substance that shows chemical action on a workpiece and consists of a fluorine-, chlorine-or nitrogen-system oil 2a are dispersedly added to a foamed polyurethane resin 3a forming the abrasive cloth (abrasive pad) 10. - 特許庁

磁気ヘッド浮上面を研磨加工する定盤３０では、錫やその合金からなるその弾性支持盤３１の表面に硬質突起部３２を設け、これら硬質突起部３２の先端部をワーク（磁気ヘッドのローパー）３５を研磨加工する作用する切刃部３３とする。例文帳に追加

A surface table 30 for polishing a magnetic head levitation surface is provided with hard projecting parts 32 on the surface of an elastic support plate 31 formed of tin or its alloy, and the tip parts of the hard projecting parts 32 are formed as cutting edge parts 33 for polishing a workpiece (a raw bar of the magnetic head) 35. - 特許庁

これにて、メカノケミカル作用を発現させるために水を添加した場合でも、工具の硬度低下を少なくできるため、この固定砥粒研削研磨用工具は、長時間研削作業を行った場合でも、安定した研削研磨性能を発揮し得るものとなる。例文帳に追加

Therefore, even in the case of adding water to exhibit the mechano-chemical action, a decrease in hardness of the tool can be reduced, so that the stationary abrasive grain grinding and polishing tool can exhibit stable grinding and polishing performance even in the case of performing grinding work for long time. - 特許庁

同時に、純水等のエッチング反応抑制剤９を基板１上の研磨パッド４の周辺に供給し、基板１と研磨パッド４の当接領域以外でのエッチング液７によるエッチング作用を抑制し、エッチングむらをなくし全面を均一に平坦化する。例文帳に追加

At the same time, an etching reaction suppressing agent 9, such as pure water is fed around the polishing pad 4 on the substrate 1, the etching operation of the etching liquid is suppressed except for the abutting area of the substrate 1 and the polishing pad 4, etching nonuniformity is eliminated and the substrate is planarized uniformly a whole. - 特許庁

このうち、共ずりバレル工程（ｅ）において、複数の焼結体をバレル型容器内に投入し、このバレル型容器を回転あるいは回転軸に沿って往復運動させることにより、容器内の焼結体に相互の研磨作用を付与し、摺動面を含む焼結体表面を研磨する。例文帳に追加

In the barrel polishing stage by mutual rubbing (e), a plurality of sintered compacts are charged to the inside of a barrel type vessel, and the barrel type vessel is rotated or reciprocated along the rotary shaft, thus a mutual polishing action is applied to the sintered compacts in the vessel, and the surfaces of the sintered compacts including sliding faces are polished. - 特許庁

研磨装置（１）にあるラップ盤（４）の表面全体にほぼ垂直な磁力線（１７）を形成する磁場を設け、研磨材として磁性砥粒を使用し、ラップ盤（４）上に磁力線（１７）の作用で磁性砥粒を均一に分散させる。例文帳に追加

A magnetic field is provided for forming approximately vertical lines (17) of magnetic force on the entire surface of the lapping machine (4) in the grinder (1), magnetic abrasive grains are employed as a grinding medium, and the magnetic abrasive grains are uniformly dispersed on the lapping machine (4) by the action of the lines (17) of magnetic force. - 特許庁

水と研磨材とを所望の一定割合で混合したスラリ−をスラリ−ポンプでブラストガンに送り、圧縮エア−で加速してノズルから成型後のＭｇ合金成型品の表面に向けて噴射衝突させ、研磨作用によってその表面に粗面を形成させた。例文帳に追加

A slurry obtained by mixing water and abrasive material in a desired fixed ratio, is sent to a blasting gun by means of a slurry pump, and accelerated by compressed air to be blasted from a nozzle to collide against the surface of a Mg alloy molding after forming, and to form a rough surface of the surface of the alloy by grinding action. - 特許庁

本発明の化学的機械的研磨用スラリー７は、分散媒２５と、前記分散媒２５中に分散し且つ光照射により光触媒作用を呈する研磨粒子１８と、前記分散媒２５中に溶解したノニオン界面活性剤とを含有する。例文帳に追加

The CMP slurry 7 comprises the dispersion medium 25, the polishing particles 18 which are dispersed in the dispersion medium 25 and develop photocatalytic action, when light is radiated and a nonionic surfactant dissolved in the dispersion medium 25. - 特許庁

また、研磨ヘッドは、ヘッド本体にチャックを支持するチャック支持機構が、ヘッド本体の回転中心より研磨用クロスの移動方向における上流側かつ円板状ワークの径内において、チャックに作用する横力を支えるように構成されている。例文帳に追加

The polishing head is composed so that the chuck support mechanism for supporting the chuck against the head body supports lateral force operating on the chuck at the upstream side in the traveling direction of the polishing cloth from the rotation center of the head body and within the diameter of the disc-like workpiece. - 特許庁

光コネクタの研磨時に、各把持具１３で把持された各光コネクタにコイルバネ３９により個別に押圧力が作用し、各光コネクタに一定の押圧力を作用させることが可能となる。例文帳に追加

When polishing the optical connector, pressing force is individually applied to each optical connector gripped by each gripper 18, by the coil spring 39, so that constant pressing force can be applied to each optical connector. - 特許庁

ドレッサ１０のダイヤモンド２０を回転している研磨布１４の作用面４８に回転させながら押圧し、作用面４８の目立て１５〜３０秒程度を行う。例文帳に追加

Diamond 22 of a dresser 10 is rotated and pressed to an action surface 48 of a polishing cloth 14 rotated, and tooth resetting of the action surface 48 is conducted for 15-30 sec. - 特許庁

研磨加工に用いる工具１の作用面の形状を、前工程で用いられた工具の作用面の曲率半径よりも大きい形状の曲面に形成する。例文帳に追加

The work face of a tool 1 used for polishing is formed into a curved face having a larger radius of curvature than that of the work face having been made in the previous process. - 特許庁

研磨時、上定盤１２側からシリコンウェーハＷの表面に作用する摩擦抵抗と、下定盤１３側からウェーハ裏面に作用する摩擦抵抗とには、従来に比べて大きな差が与えられている。例文帳に追加

During polishing, a big difference between a frictional resistance acting on the surface of the silicon wafer W from an upper surface plate 12 side and that acting on the rear surface of the wafer from a lower surface plate 13 side is given comparing with conventional method. - 特許庁

本発明は乾燥用の送風機による発泡作用を利用した撹拌手段を備えたペレット研磨材洗浄装置について次の諸手段を採用し、各作用効果を生じるようにしたものである。例文帳に追加

This invention adopts the following means about a pellet abrasive washing equipment which has an agitation means making use of a foaming action by a drying blower, so that it can produce each action effect. - 特許庁

さらに界面活性剤，リムーバーなどの添加剤の作用で研磨作用が良好に行われ，研磨作業において発生の残渣を除去できるものであって，これら添加剤は，前記繊維質コンポーネントへ組み入れたり，又は，前記繊維質コンポーネントにトポグラフィックにコートしてオプショナルに添加するものである。例文帳に追加

The polishing action is made in good performance owing to additives such as a surface active agent and a remover, and the residue generated in the polishing operations can be removed, and these additives are either included in the fibriform component or added optionally upon coating the fibriform component therewith topographically. - 特許庁

制御回路(３０)は、研磨テープの走行速度を検出する第２のエンコーダ（１９）からの出力に基づいてテープの走行速度を所定の速度に維持すると共に、テンションモータ（１０）の回転速度を検出する第１のエンコーダ（１４）からの出力に基づき研磨テープに作用するテンションが一定になるようにテンションモータの駆動電流を制御する。例文帳に追加

A control circuit (30) maintains a traveling speed of the tape in a predetermined speed based on the output from a second encoder (19) for detecting the traveling speed of the polishing, and controls a drive current of the tension motor based on the output from a first encoder (14) for detecting the rotational speed of the tension motor (10) so that the tension acting on the polishing tape becomes constant. - 特許庁

磁気ヘッドスライダの浮上面と研磨盤表面とを接触させて浮上面を研磨する際に、両者の間に作用する剛性を高めた状態で加工を施し、加工された浮上面の平面度及び浮上面と磁気素子部とのリセス量の標準偏差とを制御することによって、低浮上駆動を可能にする磁気ヘッドスライダを効率良く生産することが出来る。例文帳に追加

When the floating surface of the magnetic head slider is brought into contact with a lap surface to be lapped, lapping is performed in the state of increased rigidity applied therebetween and, by controlling standard deviation between the flatness of the lapped floating surface and the recessed amount of the floating surface and a magnetic element part, the magnetic head slider capable of low float driving is efficiently produced. - 特許庁

化学的な溶解作用と、機械的な機械研磨を併用することで、半導体フォトマスクに存在する余剰欠陥を高加工レートで除去することを課題とする。例文帳に追加

To eliminate an excess defect existing in a semiconductor photomask at a high working rate by using both of a chemical dissolution operation and a mechanical machine grinding. - 特許庁

半導体ウェハの表面を研磨した際に表面に作用する応力により形成された凸状の欠陥を適切に除去可能な半導体ウェハの洗浄方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of cleaning a semiconductor wafer for appropriately removing projecting defects formed by stress operating on a surface when polishing the surface of the semiconductor wafer. - 特許庁

シリカ、アルミナ等の無機砥粒、或いは有機無機複合粒子からなる砥粒と、上記の特定の作用を有する有機化合物と、水とを含有する化学機械研磨用水系分散体を得る。例文帳に追加

This aqueous dispersion for polishing the chemical machinery comprises abrasive grains comprising inorganic abrasive grains such as silica or alumina or organic inorganic composite grains, the organic compound having the above specific actions and water. - 特許庁

加工機の回転軸（７６）に、半導体ウエーハ（１２）の裏面に作用せしめる研削手段（８２）と研磨手段（９２）とを選択的に装着することができるように構成する。例文帳に追加

A grinding means (82) and a polishing means (92) for working on a back side of the semiconductor wafer (12) can be selectively mounted on a rotary shaft (76) of the processing machine. - 特許庁

前処理としてダイヤモンドシート１０が研磨作用する程度まで鏡面板ガラス３表面を機械的方法又は化学的方法で粗面化する。例文帳に追加

As preprocessing, the surface of the mirror glass plate 3 is roughened by a mechanical or chemical method to the extent that the diamond sheet 10 effects polishing. - 特許庁

歯周病や虫歯の予防及び／又は治療に効果があり、かつ、研磨作用を有しながら歯表面を傷つける恐れのない有効成分を含んだ新規な歯磨用組成物を提供することを課題とする。例文帳に追加

To obtain a new composition for a dentifrice comprising an active ingredient having effects on prophylaxis and/or treatment of periodontal diseases or dental caries without a fear of damaging tooth surfaces in spite of polishing actions possessed thereby. - 特許庁

前処理としてダイヤモンドシート（１０）が研磨作用する程度まで鏡面板ガラス（３）表面を機械的方法又は化学的方法で粗面化する。例文帳に追加

As preprocessing, the surface of the mirror glass plate (3) is roughened by a mechanical or chemical method to the extent that polishing by the diamond sheet (10) acts well. - 特許庁

トナーや外添剤等が研磨ブレードをすり抜けることで感光体上に正帯電粒子を分散させた状態で画像形成プロセスを実行することができ、正帯電粒子が潤滑剤として作用する。例文帳に追加

An image forming process is carried out while positively charged particles are dispersed on the photoreceptor by allowing toner or external additive or the like to pass through the grinding blade, and the positively charged particles function as lubricant. - 特許庁

前記納豆菌は、洗浄水に含まれる雑菌あるいはゴミ類を浄化する作用があるため、研磨あるいは洗浄後のワーク表面を綺麗に長期間保つことができる。例文帳に追加

Since the bacillus natto has the effect for cleaning off the miscellaneous germs or refuses contained in washing water, a work surface after grinding or washing can be kept clean for a long time. - 特許庁

多孔質化された透明基板の表面状態は鏡面研磨された表面状態に比べ、３００ｎｍ以下の波長領域の光線を反射防止する作用を得る。例文帳に追加

In the surface state of the transparent substrate which is made porous, operation for preventing a light beam in a wavelength range below 300 nm from being prevented is obtained as compared with a mirror finished surface state. - 特許庁

半導体ウエハなどの研磨に用いられるパッドの加工・調整用工具において、加工・調整用工具の切刃がパッド表面に対して効率的に作用して加工効率を向上することができるようにする。例文帳に追加

To improve processing efficiency by allowing a cutting edge of a tool to efficiently act on a pad surface in a pad processing-adjusting tool used for polishing a semiconductor wafer. - 特許庁

電解複合研磨したアルミニウム合金円筒管１の外周面に白変色（化学的な溶解作用で粗面化した箇所）が発生するのを防止し、ＯＰＣドラムの製造歩留まりを向上させる。例文帳に追加

To prevent the occurrence of a whitish discoloration (a portion rough-surfaced by a chemical lytic action) on an outer peripheral surface of an electro combination polished aluminum alloy cylindrical tube 1, and increase the manufacturing yield of OPC drums. - 特許庁

砥粒懸濁液３が金属管１の内部を流動することにより、金属管１の内壁と砥粒の間に擦過作用を生じさせ、金属管１の内周面を研磨する。例文帳に追加

The flowing of the abrasive grain suspension 3 through the interior of the metal pipe 1 causes abrasion between the inner wall of the metal pipe 1 and the abrasive grains, thereby polishing the inner peripheral surface of the metal pipe 1. - 特許庁

シール手段の内径側に水が侵入することを阻止し、水と微粒子が混り合って研磨材状に作用し、弾性シール部材が早期に摩耗することを防止する。例文帳に追加

To check water from infiltrating into the inner diameter side of a seal means, and to prevent early abrasion of an elastic seal member since water and particulates mixedly act like an abrasive. - 特許庁

ブレーキドラムの摺擦面形成部および摩擦材における、摩耗粉等の研磨作用による摩耗の過度の進行を抑制し、またその摺擦面形成部の強化を図る。例文帳に追加

To inhibit excessive advancing of abrasion caused by the grinding action of an abrasion powder and to strengthen a slide surface forming portion in the slide surface forming portion and a friction material of a brake drum. - 特許庁

両面研磨に電気化学的に基板表面を酸化する作用を加味して、加工変質層のない、平坦度に優れた半導体基板を製作する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a semiconductor substrate superior in flatness without a work-affected layer by adding operation for electrochemically oxidizing a substrate surface to double-sided polishing. - 特許庁