「調整ふん囲気」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

真空雰囲気とされる移載室の底部に設けられた基体に支持された移載アームにより当該移載室に接続された真空処理室への基板の受け渡しを行うにあたり、例えばセンサを用いて移載アームの傾きを検知し、この検知結果に基づいて傾き調整機構により移載アームの傾きを調整する構成とする。例文帳に追加

When transferring the board to a vacuum processing chamber connected to the transferring chamber by the transferring arm supported by the base susbtance provided at a bottom of the vacuum transferring chamber, for instance, an inclination of the transferring arm is detected with the use of sensors and adjusted by an inclination-adjusting mechanism on the basis of the detected result. - 特許庁

本発明に係る露光装置１０１は、レチクルチャンバ１１１内において、雰囲気減圧時のメインボディ１０３の変形に伴う曲げ力は、レチクル定盤１１５下面側３箇所の脚部１１５ａの球面軸受けで逃がすことができ、さらに調整機構１１５Ｘを作動させて調整することができる。例文帳に追加

In the reticle chamber 111 of this aligner 101, the bending force caused by the deformation of a main body 103 when the atmospheric pressure is reduced can be relieved through the spherical bearings of three legs 115a provided on the bottom surface side of a reticle stool 115 and, in addition, can be adjusted by actuating an adjusting mechanism 115X. - 特許庁

投入口６５から処理容器３内に投入された可燃物に着火し、エアーバルブ９により空気量を調整すると、磁化空気の存在により無炎に近い状態で燃焼が持続し、有害物は処理容器３内の還元雰囲気により無害化される。例文帳に追加

When the combustible charged into the treatment container 3 from a charging port 65 is ignited, and the amount of air is adjusted by an air valve 9, the combustion is continued in an almost flameless state by the existence of magnetized air, and a harmful substance is detoxified by the reduction atmosphere in the treatment container 3. - 特許庁

微粒子が浮遊する雰囲気内に置かれた物品１０、１２、１４に対して、物品表面における相対的な気流速度が１.５〜２.５ｍ／ｓとなるように、気流の速度ｖ、ｖ２や物品の移動速度ｖ１、ｖ３を調整する。例文帳に追加

This method comprises the following practice: the velocities v and v2 of an airflow and/or the moving velocities v1 and v3 of respective articles 12 and 14 are regulated so that the relative airflow velocity on the respective surfaces of the articles 10, 12 and 14 placed in an atmosphere where microparticles are suspended comes to 1.5-2.5 m/s. - 特許庁

たとえば、針葉樹を１３０℃〜２３０℃の温度範囲で加熱圧縮してその密度が０．４ｇ／ｃｍ^３〜１．０ｇ／ｃｍ^３のいずれかになるように調整した原料を、最高温度が８００℃〜１３００℃である所定の雰囲気温度で炭化処理する。例文帳に追加

For example, the raw material obtained by heat compressing the conifer at 130°C-230°C for its density to be adjusted to 0.4 g/cm^3-1.0 g/cm^3 is carbonized in a predetermined temperature of the atmosphere having a maximum temperature of 800°C-1,300°C. - 特許庁

ガス温調装置１５は、不活性ガスＧの温度と、不活性ガスの供給領域の外側であってレーザ光の光路を囲む空間（部屋Ｒ）の雰囲気温度との温度差が小さくなるように、レーザ照射領域に供給される不活性ガスＧの温度を調整する。例文帳に追加

The gas temperature controller 15 controls the temperature of the inert gas G supplied to the laser radiation area so as to reduce difference between the temperature of the inert gas G and the ambient temperature of a space (room R) locating outside an inert gas supply area and surrounding the optical path of the laser light. - 特許庁

本発明の活性炭の製造方法は、炭素原料に賦活処理する賦活工程；得られた賦活炭を、平均粒子径１μｍ〜２０μｍに調整する粉砕工程；および、粉砕後の賦活炭を不活性ガス雰囲気下で５００℃〜１２００℃に加熱する熱処理工程；をこの順序で含むことを特徴とする。例文帳に追加

The manufacturing method of the activated carbon includes: an activating step of activating a carbon raw material; a pulverizing step of adjusting the activated carbon to have 1-20 μm average particle diameter; and a heat treatment step of heating the pulverized activated carbon at 500-1,200°C under an inert gas atmosphere in this order. - 特許庁

本発明は、半導体基板を揺動させながら成膜を行う常圧ＣＶＤ装置において、原材料ガス噴出ノズルの噴出口３１と該噴出口を囲むごとくその周囲に設けた排気口３２とからなるガス噴出ノズルユニット部３０を多数有し、各々のノズルユニット部における原材料ガス噴出量、排気量の調整が可能な散布機構部である。例文帳に追加

The spray mechanism has a number of gas blow-off nozzle unit parts 30 consisting of a spout 31 of a raw gas spouting nozzle, and an exhaust opening 32 provided around a spout to enclose it in a normal pressure CVD system for forming a film while oscillating a semiconductor substrate, and can adjust a raw gas spouting amount and an exhaust amount in each nozzle unit part. - 特許庁

ＥＣＵ３０は、ＮＯ_Ｘ吸蔵還元触媒の雰囲気条件が排気中のＳＯ_Ｘを吸収しにくい条件になっている場合には、ポンプ５３の吐出量を調整し、添加剤のコモンレールへの注入量を減量、または注入を停止する。例文帳に追加

ECU 30 adjusts a pumping volume of the pump 53 to reduce a volume for pouring the additive to the common rail, or stop the pouring, when an atmospheric condition of the NOx occlusion reducing catalyst is a condition for difficultly absorbing SOX in the exhaust. - 特許庁

ヒ素を含有する半導体層をエピタキシャル成長により形成する成膜方法であって、成膜初期に、大気圧に調整されたエピタキシャル成長雰囲気内に供給する成膜ガスのうちアルシン（ＡｓＨ_3）の流量を０から所定流量にまで上昇させる期間を有する。例文帳に追加

The film forming method, which forms a semiconductor layer containing arsenic by epitaxial growth, has a term when elevates a flow of an arsine (AsH_3) among film forming gases supplied into an epitaxial growth atmosphere adjusted to the atmospheric pressure from zero to a predetermined flow in the beginning of film forming. - 特許庁

センサウエハとキャップウエハとを吸着材の活性化しない温度，希ガス，活性ガスの大気雰囲気下で接合した後、分割した吸着材を順次活性化させて、活性ガスを吸着させて、角速度センサ内圧力を調整して、複合センサウエハを作製する。例文帳に追加

After the sensor wafer and the cap wafer are bonded to each other at a temperature of the inactivation of the adsorbent and in an atmospheric pressure ambience of noble gas and activated gas, adsorbent divisional portions are activated in sequence to adsorb the activated gas so as to adjust pressure in the angular velocity sensor, thus manufacturing a combined sensor wafer. - 特許庁

粒状物質に対して、気密雰囲気で昇温させる第１工程と、圧力調整弁にて内部圧力をコントロールしながら昇温させる第２工程と、真空ポンプにて吸引しながら所定温度を維持させる第３工程とを含んで構成される真空乾燥装置である。例文帳に追加

The vacuum dryer includes a first process of raising temperature in an airtight atmosphere with respect to the particulate matter, a second process of raising the temperature while controlling internal pressure by a pressure regulating valve, and a third process of maintaining a predetermined temperature while sucking by a vacuum pump. - 特許庁

大気圧の還元ガスの雰囲気中で，接触式温度測定部の測定値により非接触式温度測定部における放射率の設定の調整と対象物の温度制御とをしつつ，予熱温度まで対象物を加熱する（時刻ｔ０〜時刻ｔ１）。例文帳に追加

The object is heated to a preheating temperature (time t0 to time t1) while the adjustment of the setting of the emissivity of a non-contact type temperature measurement section and the temperature control of the object are performed by a measurement value of a contact type temperature measurement section in an atmospheric-pressure reducing gas atmosphere. - 特許庁

基板処理装置において、レジスト液の塗布が行われている間、調整機構７が回転モータ６５の回転速度を落とすことによって送風機構６により送風される雰囲気の送風量を減少させて、送風による気流の乱れを減少させる。例文帳に追加

In the substrate processing equipment, the rotational speed of the rotating motor 65 is dropped down by the regulating mechanism 7 so as to reduce the flow rate of air fed by the air-blower mechanism 6 while resist liquid is applied, so that the air flow is less disturbed by the blower. - 特許庁

これにより、炭化炉４では、還元雰囲気中で熱分解を推し進めるので、従来のような空気調整が不要であり、かつ温度制御が容易で熱効率もよく、有機性廃棄物１を安定して炭化させることができ、ダイオキシン類の発生も抑制できる。例文帳に追加

Since hereby in the carbonizing furnace 4 thermal decomposition is promoted in a reducing atmosphere, there is eliminated the need of an air adjustment as in prior art, temperature control is facilitated with good heat efficiency, and the organic waste 1 can be stably carbonized together with suppression of production of dioxins. - 特許庁

焼成時におけるセラミックス生成形体を覆う構造と焼成雰囲気用ガスの供給方法とを適切に調整することによって、収縮ばらつきや配線導体の電気特性等の品質ばらつきを有効に抑制できるセラミックス生成形体の焼成方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of firing a ceramic produced body by which the fluctuation of shrinkage or quality such as the electric characteristics of a wiring conductor is effectively suppressed by properly controlling a structure for covering the ceramic produced body and a supply method of a firing atmospheric gas in firing. - 特許庁

易黒鉛化性炭素材料を原料として、酸化性ガス雰囲気下で焼成処理して得られる炭素材を粒度調整した後に賦活処理して製造して得られることを特徴とする電気二重層キャパシタ電極用活性炭の製造方法。例文帳に追加

The method for producing the activated carbon for an electric double layer capacitor electrode includes: subjecting a graphitizable carbon material as raw material to a firing treatment in an oxidizing gas atmosphere; regulating the particle size of the resultant carbon material; and subjecting the carbon material to an activation treatment. - 特許庁

また、ある程度閉塞された空間を有する恒温槽３０に絶対湿度が調整された空気を供給してハードコート組成物の焼成を行なうので、雰囲気中の水分量を安定させることができ、より硬化状態のばらつきの少ないハードコート層を得ることができる。例文帳に追加

In addition, because calcination of a hard coat composition is performed while supplying air of which the absolute humidity is adjusted to a thermostatic oven 30 having a space sealed to an extent, the moisture content in the environment can be stabilized and the hard coat layer almost free from unevenness of the cured state can be obtained. - 特許庁

コークス炉に装入する石炭を、その装入前に調湿炭設備の乾燥機に導入して石炭の水分を調整する際に、乾燥機とコークス炉との間において石炭の水分を測定するに当たり、該測定箇所の雰囲気中に発生した水蒸気を排除する。例文帳に追加

In controlling moisture content contained in coal by introducing the coal charged into a coke oven into a dryer of the humid coal equipment before charging, steam generated in the atmosphere of a position to undergo moisture content measurement is eliminated to measure the moisture content of the coal midway between the dryer and the coke oven. - 特許庁

有機エレクトロルミネッセンス装置などを製造するための基板処理装置１１は、大気と異なる雰囲気に調整された複数の固定チャンバ１５ａ〜１５ｆと、複数の固定チャンバ１５ａ〜１５ｆに被処理基板１の搬送を行う基板搬送室１４とを有している。例文帳に追加

The substrate processing apparatus 11 manufacturing the organic electroluminescent device includes a plurality of fixed chambers 15a-15f adjusted to have atmospheres different from the air, and a substrate conveying chamber 14 conveying a substrate 1 to be processed to the plurality of fixed chambers 15a-15f. - 特許庁

蒸着材４の周辺雰囲気の圧力が圧力センサ８によって測定され、コントローラ９は圧力センサ８から入力された圧力の測定値が予め設定されている設定値となるように、電気ヒータ６に供給する電力量を調整する。例文帳に追加

The pressure of the peripheral atmosphere of the material 4 is measured by a pressure sensor 8 and a controller 9 regulates the electric energy to be supplied to the electric heater 6 in such a manner that the measured value of the pressure inputted from the pressure sensor 8 attains a previously set value. - 特許庁

予め炭化調整された木竹炭材料を一定の条件で安定した不活性ガス或いは還元性ガスの雰囲気下で且つ１０００℃以上の再加熱処理を施すことにより連続的に電気抵抗値が１０Ω−ｃｍよりも小さい高品位な導通木竹炭を得る。例文帳に追加

The high grade conductive wood and bamboo charcoal having electric resistance lower than 10 Ω-cm is continuously obtained by applying re-heating treatment to a previously carbonized and adjusted wood and bamboo charcoal material under a fixed condition in a stable atmosphere of an inert gas or a reducing gas at ≥1,000°C. - 特許庁

湿度調整制御部１０４及び熱気供給制御部１０５により、乾球温度１２０℃、湿球温度９０℃の高温低湿度に制御された雰囲気下で木材Ｗを乾燥し、木材表層部にドライングセットを形成する。例文帳に追加

The wood W is dried in an atmosphere controlled to have a high temperature and low humidity, a dry-bulb temperature of 120°C and a wet-bulb temperature of 90°C, by a temperature adjustment control part 104 and a hot air supply control part 105, and thereby a drying set is formed in a surface layer part of the wood. - 特許庁

この改質ふっ素樹脂は、融点が調製されていない重合上がりのふっ素樹脂の粉末原料に、酸素濃度１００ｔｏｒｒ以下の雰囲気、および調整されたふっ素樹脂の融点以上の温度の下で照射線量１ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの電離性放射線を照射して形成される。例文帳に追加

This modified fluororesin is obtained by irradiating a fluororesin powder material, soon after being polymerized and having an unmodulated melting point, with 1 kGy-10 MGy radiation dose of an ionizing radiation in ≤100 torr oxygen atmosphere at a temperature above the melting point of a modulated fluororesin. - 特許庁

所定の組成に調整された原料粉末混合物（好ましくはスプレードライヤにより造粒粉とする）の圧粉成形体（好ましくは冷間静水圧加圧成形体）を、真空又は不活性雰囲気中、１５００℃以上で焼結処理することにより製造される。例文帳に追加

A powder compact (preferably the compact pressed by a cold hydrostatic pressure) of the mixture of the raw material powders regulated to the prescribed composition (preferably a granulated powder by a spray drier) is subjected to a sintering treatment at ≥1,500°C in a vacuum or inert gas atmosphere to provide the objective sintered compact of the titanium diboride. - 特許庁

被洗浄物を洗浄する洗浄媒体を有する複数の洗浄槽と、前記洗浄槽が設置された洗浄室と、前記洗浄槽の中の所定の洗浄槽内の洗浄媒体の温度および前記洗浄室内の雰囲気の温度をそれぞれ測定する各温度センサーと、前記各温度センサーの信号に基づいて前記洗浄媒体の温度および前記洗浄室内の雰囲気の温度調整する温度調整手段と、前記洗浄槽の中で最終洗浄工程で用いる洗浄槽に隣接するように前記洗浄室に連結して配置された紫外線光洗浄室と、を有する洗浄装置を提供する。例文帳に追加

An ultraviolet light washing chamber 48 is connected to the fifth washing chamber 39 of the final process to arrange them, and in the washing chamber 48, material to be washed 20f is subjected to ultraviolet washing by an ultraviolet lamp 49. - 特許庁

気液混合流の噴射装置に対する圧力気体の導入部における流路抵抗の増大を回避するとともに、簡単な構成により、圧力気体に関する均質な流れがより円滑に得られるように改良し、これによりノズルから噴射される気液混合流の均質性及び安定性を改善するとともに、噴射状態に関する調整可能な範囲を拡大する。例文帳に追加

To improve the homogeneity and the stability of a gas liquid mixture steam jetted from a nozzle by evading the increase of the flow resistance in an introducing part of a compressed gas into a jetting device of the gas liquid mixture stream and more smoothly obtaining the homogeneous stream of the compressed gas. - 特許庁

ポルトランドセメントクリンカーと石膏を高温の水蒸気ガスの雰囲気下で同時に粉砕するセメントの製造方法であって、水蒸気ガス中の水分量が、該ポルトランドセメントクリンカーに対して0.5〜4.0％であり、かつ、水蒸気ガスの温度を、粉砕直後のセメントの温度が120〜135℃になるように調整することを特徴とするセメントの製造方法。例文帳に追加

The manufacturing method for cement wherein Portland cement clinker and plaster are simultaneously crushed in a high temperature steam atmosphere is characterized in that the water content in the steam is 0.5-4.0% to the Portland cement clinker and the temperature of the steam is adjusted so that the cement just after crushing has 120-135°C. - 特許庁

このオリゴマーはナフタレン類１モルに対し、フェノール類０〜１モルとホルムアルデヒド類０．２〜２モルを酸触媒の存在下に、実質的に無酸素雰囲気で反応させることにより得られ、これは樹脂に配合して屈折率が調整された樹脂組成物とするために有用である。例文帳に追加

The oligomer is obtained by reacting 1 mole of the naphthalene with 0-1 mole of the aldehyde in the presence of the acidic catalyst in a substantially oxygen- free atmosphere, and is useful in producing a resin composition with a regulated refractive index by blending it in the composition. - 特許庁

アンクールドＤＦＢからの光信号は光ファイバ１２によって外部へ取り出され、ヒーターと放熱フィンによる温度調整機構によってアンクールドＤＦＢレーザの温度を雰囲気温度より高い一定温度に保つことによって波長を安定化させる。例文帳に追加

A light signal from the uncooled DFB is taken out to the outside by an optical fiber 12, the temperature adjustment mechanism comprising the heater and radiation fin maintains the temperature in the uncooled DFB laser at a fixed temperature that is higher than an atmosphere temperature to stabilize a wavelength. - 特許庁

一方の電極触媒層に加湿された水素ガスを供給し、他方の電極触媒層を無酸素雰囲気にし、前記燃料電池に印加する印加電圧を調整することにより、前記他方の電極触媒層の電極触媒の酸化物を除去する。例文帳に追加

An evaluation method of an electrode catalyst for fuel cell includes removing oxide on the electrode catalyst of one electrode catalyst layer by supplying humidified hydrogen gas to the other electrode catalyst layer, bringing the one electrode catalyst layer under non-oxygen atmosphere, and adjusting an application voltage applied to the fuel cell. - 特許庁

金属単体はニッケルもしくは銅であり、該金属元素を含む前駆体化合物と、コア粒子とを含む組成物を調整し、該組成物を還元ガス雰囲気下、該前駆体化合物の熱分解温度を超える温度で焼成することにより、該正極活物質が作成される。例文帳に追加

The metal simple substance is nickel or copper, the cathode active material is manufactured by preparing a precursor compound containing the metal element and a composition containing the core particles, baking the composition under reducing gas atmosphere at a temperature higher than thermal composition temperature of the precursor compound. - 特許庁

本発明はグリッドを用いた試料ホルダに関し、隔膜型ガス雰囲気試料ホルダの試料の上下に配置する隔膜を貼り付けたグリッドのアライメント調整を容易に行なうことができるグリッドを用いた試料ホルダを提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide a specimen holder using grids capable of facilitating alignment adjustment of grids with a diaphragm that are disposed over and under a specimen of a diaphragm type gas atmosphere specimen holder. - 特許庁

チャンバの内部の空間には、窒素ガスを含有する処理ガスが供給され、当該空間の雰囲気は、圧力が５０Ｔｏｒｒ以上常圧以下となり窒素ガスの分圧が全圧の５０％以下となる状態に調整される。例文帳に追加

The space inside a chamber is supplied with processing gas containing nitrogen gas, and the atmosphere of the space is controlled to a state in which pressure falls within the range of 50 Torr or above to normal pressure or below and the partial pressure of the nitrogen gas falls within the range of ≤50% of the whole pressure. - 特許庁

製造時に高温雰囲気に調整可能な大型の加熱炉が不要で、しかも高い圧力がかかる部位を接合しても液密な状態を維持可能な積層型熱交換器、及び積層型熱交換器の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a laminated type heat exchanger eliminating the necessity of a large heating furnace adjustable to a high temperature atmosphere during manufacturing and capable of maintaining the liquid-tight state even when portions to which high pressure is applied are jointed, and a method of manufacturing the laminated type heat exchanger. - 特許庁

次に、測定セル８の湿度調整ピン１４を緩め、試料７の樹脂基材１の表面を高湿雰囲気に晒し、一定時間後に原子間力顕微鏡２０により始めに測定した乾燥状態と同じ箇所の表面形状を測定する。例文帳に追加

Next, the humidity-adjusting pin 14 of the measuring cell 8 is loosened to expose the surface of the resin base material 1 of the sample 7 to a high-humidity atmosphere and the surface shape of the same place as a dry state measured first by the atomic force microscope 20 is measured, after a fixed interval. - 特許庁

繊維基材、摩擦調整材、結合材及び無機材料よりなる摩擦材において、結合材としてケイ素含有ポリマーを配合し、熱成形の後、１６０〜３５０℃の温度で、１〜１０時間の間、酸化雰囲気で熱処理して、酸素と架橋させた後、焼成して、摩擦材を製造する。例文帳に追加

A silicon-containing polymer is added as a binder to a friction material formed from a fiber base, a friction regulator, a binder, and an inorganic material, the mixture is heated and molded, the product is heat treated at a temperature between 160°C and 350°C for 1 to 10 hours in an oxidizing atmosphere to crosslink with oxygen, and the product is then fired to produce a friction material. - 特許庁

繊維からなる担体に抗体を含有する液を付着させること、前記担体の含水率を３００％以下に調整すること、及び前記担体を７０℃以下の雰囲気で乾燥させて含水率を１％以下にすることをこの順に含む抗体を担持した担体を含む有害物質除去材の製造方法。例文帳に追加

The method for producing the toxic substance removing material containing the antibody-supported carrier comprises the steps of: sticking an antibody-containing liquid to the carrier comprising a fiber; adjusting the water content of the carrier to ≤300%; and drying the water content-adjusted carrier in an atmosphere of ≤70°C so that the dried carrier has ≤1% water content. - 特許庁

これにより、揺動管６ａに、オーステンパダクタイルアイアンとしての耐摩耗性を付与させると共に、所謂オーステンパ処理の前に雰囲気調整副温に所要時間保持することで、熱処理に伴う歪量を、単なるオーステンパ処理を行う場合に比して低減させる。例文帳に追加

This process imparts abrasive resistance as austemper ductile iron to the oscillating pipe 6a, and the cast iron article is held at the atmosphere adjusting sub-temperature for a predetermined time prior to so-called austemper processing, thereby reducing the distortion amount due to thermal treatment as compared with the case where austemper treatment is merely performed. - 特許庁

あるいは、無電解メッキ処理薬液として、メッキ膜の主成分を供給する第１金属材料１モルに対してそれぞれ３モル以上の錯化剤と還元剤を含有し、ｐＨ９以上に調整された処理薬液を不活性ガスあるいはアンモニアガス雰囲気下に収容して用いる。例文帳に追加

Alternatively, the plating chemical containing the complexing agent and the reducing agent of ≥3 mols based on a first metal material of 1 mol mainly constituting a plating film, and prepared to ≥pH 9 is accommodated and used under the inert gas or ammonium atmosphere. - 特許庁

加熱炉の予熱帯から雰囲気温度を適正に調整することで、オーステナイト系ステンレス鋼片の熱間圧延に際し、δ−フェライトの可及的な低減を図って熱間加工性の向上を達成し、熱間加工割れ起因のヘゲ疵発生をほぼ完全に防止すること。例文帳に追加

To achieve an improvement in hot workability and to nearly completely prevent the occurrence of scabs due to hot working cracks by reducing δ-ferrite as far as possible in hot rolling an austenitic stainless steel billet by adequately regulating an atmospheric temperature from a preheating zone of a heating furnace. - 特許庁

また、イチョウ葉抽出成分を含む分離液の濃縮を、(a)８０℃以下の温度で、(b)ｐＨ６〜８に調整して、又は(c)不活性ガス雰囲気下で行うことにより、イチョウエキス中のクエルセチン及び／又は着色成分含量を著しく低減できる。例文帳に追加

The contents of the quercetin and/or colored components in the extract from the Ginkgo biloba L. can remarkably be reduced by carrying out concentration of the separated liquid containing the extracted components of the leaf of the Ginkgo biloba L. (a) at ≤80°C temperature, (b) at a regulated pH of 6-8 or (c) in an inert gas atmosphere. - 特許庁

減圧した雰囲気が調整できる真空装置にターゲットを貼り付けた２つのスパッタリングカソードを近接設置し、前記ターゲットを同時にスパッタリングして、基体に前記ターゲットの材料を含む成分の被膜を同時に被覆する。例文帳に追加

Two sputter cathodes, on which targets are stuck, are disposed in close vicinity to each other in a vacuum system in which reduced pressure atmosphere can be regulated, and the above targets are co-sputtered to concurrently deposit films having compositions containing the materials of the targets respectively onto a substrate. - 特許庁

成膜室内にスパッタリングガスを導入して基板上に膜を成膜するスパッタリングによる成膜方法において、前記成膜室内における雰囲気中のＨ_2Ｏ分圧を所定の条件に調整することによって、所定の反射率を有する反射層を前記基板上に成膜する。例文帳に追加

The film forming method by sputtering which forms a film on a substrate by introducing a sputtering gas in a film forming room, includes forming a reflection layer having a predetermined reflectivity on the above substrate, by adjusting a H2O partial pressure in the atmosphere in the above film forming room to a predetermined condition. - 特許庁

炉（浸炭炉）３内に変成ガスを供給し、炉３内で被処理体６０を熱処理する熱処理装置１の炉３内において、各工程（各熱処理室２１，２２，２３，２４）ごとに、それぞれ所定のカーボンポテンシャルに生成された変成ガスのみが供給されて炉３内の雰囲気が調整される。例文帳に追加

In the furnace 3 as the heat-treatment apparatus 1 for heat-treating a material 60 to be treated in the furnace 3 by supplying converted gas into the furnace 3 (carburizing furnace); every respective processes (each heat-treatment chamber 21, 22, 23, 24), the atmosphere in the furnace 3 is adjusted by supplying only converted gas generated in respectively prescribed carbon potential. - 特許庁