「Helium-3」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The optical fiber drawing apparatus for successively heating and melting a glass preform 2 while supplying gaseous helium around the glass preform 2 to draw an optical fiber 3 is provided with a gaseous helium recovery mechanism for recovering helium gas at the lower part of the drawing furnace 1.例文帳に追加

ガラス母材２の周囲にヘリウムガスを供給しながら順次加熱溶融して光ファイバ３を線引きする光ファイバ線引装置であって、線引炉１の下部にヘリウムガスを回収するヘリウムガス回収機構を備えている。 - 特許庁

The glass composition is an inorganic glass composition wherein the volume ratio of helium with a mass number of 3 to helium with a mass number of 4, namely ^3He/^4He in the helium contained in the glass (at 0°C, at 1 atm) is smaller than the volume ratio ^3He/^4He in the atmosphere.例文帳に追加

本発明のガラス組成物は、無機ガラスのガラス組成物であって、ガラス中に含有されるヘリウムの内、質量数４のヘリウムに対する質量数３のヘリウムの体積比率である^3Ｈｅ／^4Ｈｅの値（０℃、１ａｔｍ）が、大気中の^3Ｈｅ／^4Ｈｅの値より小さいものである。 - 特許庁

The helium gas recovery mechanism has a plurality of gas suction ports 8a around the optical fiber 3 and further has a helium gas buffering wall part 9 and an inert gas supply part 10.例文帳に追加

ヘリウムガス回収機構は、光ファイバ３を中心に複数のガス吸引口８ａを有し、また、ヘリウムガス緩衝壁部９、不活性ガス供給部１０を有している。 - 特許庁

To provide a cryogenic temperature generation method for generating a cryogenic temperature of 1 K or lower by using helium 4 without using helium 3 which is artificial element expensive and hardly handled.例文帳に追加

高価で取り扱いが難しい人工元素のヘリウム３を用いずに、ヘリウム４で１Ｋ以下の低温を生成する極低温生成方法を提供する。 - 特許庁

The protection resistor 5 is disposed between the main coil 2 and a shield coil 3, and is immersion-cooled with liquid helium 11 stored in a helium container 4.例文帳に追加

保護抵抗体５は、メインコイル２とシールドコイル３との間に配置され、ヘリウム容器４に収容された液体ヘリウム１１で浸漬冷却される。 - 特許庁

The liquid injection piping 4a is arranged such that liquid helium 3 can flow between the first and second containers 2, 5 and the gas return piping 4b is arranged such that helium gas can flow between the first and second containers 2, 5.例文帳に追加

従って、冷凍機１は、液体ヘリウム３を介して離れた場所に置かれている超電導磁石７を冷却することが可能となる。 - 特許庁

An A room 1 has an aligner for exposing a wafer W1 inside and is filled with a pressure-reduced atmosphere of expensive helium and when a gate valve 1a is opened in order to carry the wafer W1 in the A room 1, helium is introduced into a load lock room 3 from a helium source 7a after the load lock room 3 is evacuated through a 1st discharge line 4.例文帳に追加

Ａ室１は、ウエハＷ_1 を露光するための露光装置を内蔵し、高価なヘリウムの減圧雰囲気によって満たされており、ウエハＷ_1 をＡ室１に搬入するためにゲートバルブ１ａを開くときは、第１の排気ライン４によってロードロック室３を真空排気したうえで、ヘリウム源７ａからロードロック室３にヘリウムを導入する。 - 特許庁

(3) An adhesive is applied on the surface in the inert gas (argon, nitrogen, helium, or a gas obtained by mixing hydrogen in the inert gas for suppressing oxidization).例文帳に追加

（３）不活性ガス（アルゴン、窒素、ヘリウムまた、酸化を抑制するため、不活性ガス中に水素を混合させた気体）中で接着剤を塗布する。 - 特許庁

The helium gas 6 is stopped, the lift pin 5 is lowered and the semiconductor device substrate 1 is placed on the stage 3 again.例文帳に追加

その後、ヘリウムガス６を止め、リフトピン５を下げ、再びステージ３の上に半導体装置基板１を載置する。 - 特許庁

As a result, a spraying film 3 is formed on the convexoconcave of the electrode pattern 2 and recesses become a helium gas passage 4.例文帳に追加

これによって、電極パターン２の凹凸に沿って溶射膜３が形成され、その凹部がヘリウムガス通路４となる。 - 特許庁

A cryogenic container 1 comprises: a vacuum container 2; a radiation shield 3; a helium container 4; and a support body 6 which couples and supports the containers.例文帳に追加

真空容器２、輻射シールド３、ヘリウム容器４、およびこれらの容器を連結支持する支持体６を具備してなる極低温容器１である。 - 特許庁

Supeconductive coils 1a and 1b are provided so as to come into contact with the outer side of a helium vessel 3, thus simplifying a manufacturing process.例文帳に追加

また、超電導コイル１ａ、１ｂをヘリウム容器３の外側に接するように構成して製作を単純化する。 - 特許庁

A cryogenic temperature coolant bath 3 stores a superconductivity coil 2, and stores liquid helium 1 which cools the superconductivity coil 2.例文帳に追加

極低温冷媒槽３は、超伝導コイル２を収納し、超伝導コイル２を冷却する液体ヘリウム１を貯液している。 - 特許庁

In Step 3, helium is injected to the water chamber 2a, and in Step 4, the water level of the seawater W in the water chamber 2b is changed.例文帳に追加

ステップＳ３では、水室２ａにヘリウムを注入し、ステップＳ４では、水室２ｂの海水Ｗの水位を変化させる。 - 特許庁

When helium is detected in Step 5, the water level of the water chamber 2b is checked to search the position in the height direction of the cooling pipe 3 with leakage.例文帳に追加

ステップＳ５において、ヘリウムを検出したときに、水室２ｂの水位を確認して漏洩する冷却管３の高さ方向の位置を検索する。 - 特許庁

The cooling apparatus is provided with a compressor 3 for compressing helium gas, an expander 5 for expanding the helium gas compressed by the compressor 3, and an element mount unit 9 connected to the expander 5 and on which a SQUID as the superconducting element is mounted.例文帳に追加

ヘリウムガスを圧縮する圧縮機３と、この圧縮機３で圧縮されたヘリウムガスを膨張する膨張器５と、この膨張器５に接続されると共に超伝導素子としてのＳＱＵＩＤを搭載する素子搭載部９とを備える。 - 特許庁

To carry the wafer W1 out of the A room 1, the wafer W1 is put back in the load lock room 3, which is evacuated through a 2nd discharge line 5, and after the helium is collected to the helium source 7a, air is introduced into the load lock room 3 from an air source 6a and then a gate valve 2a is opened.例文帳に追加

Ａ室１からウエハＷ_1 を搬出するときは、ウエハＷ_1 をロードロック室３に戻して第２の排気ライン５によってロードロック室３を排気し、ヘリウムをヘリウム源７ａに回収したうえで、ａｉｒ源６ａからａｉｒをロードロック室３に導入し、ゲートバルブ２ａを開く。 - 特許庁

The apparatus comprises (1) a helium cluster or a droplet source, (2) a proton source which introduces the protons to the droplet, (3) an AP source which forms a decompressed and low-pressure flow, (4) a capture cell element which protonates compound molecules at a low temperature, (5) a desolvating region for remaining helium removal and (6) the mass spectrometer and a detector.例文帳に追加

装置に（1)ヘリウムクラスター又は液滴源；（2)液滴にプロトンを導入するプロトン源；（3)減圧して低圧の流れを形成するＡＰ源；（4)化合物の分子を低温でプロトン化等する捕獲セル要素；（5)残存ヘリウム除去用の脱溶媒域；及び（6)質量分析計及び検出器を含む。 - 特許庁

Therefore, a cooler 13 for saturating and cooling the liquid helium 3 from a first tube 2 is brought into heat contact with a second tub 4, and a helium takeoff tube 18 is wound on a heat exchanger 20 coming into contact with the cooler 13 for cooling, so that the liquid helium of a superfluid state is stored in the second tub 4 through the filter 21.例文帳に追加

このため、第１の槽２からの液体ヘリウム３を飽和冷却する冷却器１３を第２の槽４と熱接触させ、かつ冷却器１３に接する熱交換器２０にヘリウム取り出し管１８を巻きつけて冷却し、超流動状態の液体ヘリウムをフィルター２１を介して第２の槽４に貯留する。 - 特許庁

A helium gas of 0.3-0.5 MPa is enclosed in a free space inside the fuel rod 2 in manufacturing it, and a helium gas of around 1.0 MPa is enclosed in a free space inside the fuel rod 3 in manufacturing it.例文帳に追加

混合酸化物燃料棒２の内部自由空間には製造時に０．３から０．５ＭＰａのヘリウムガスが封入されており、ウラン酸化物燃料棒３の内部自由空間には製造時に約１．０ＭＰａのヘリウムガスが封入されている。 - 特許庁

The head of a beam introduction pipe 2 and the head of an X-ray introduction sleeve 3a of an X-ray detector 3 are arranged close to each other, and helium gas is introduced into head parts of the beam introduction pipe 2 and the X-ray introduction sleeve 3a, and the helium gas is jetted out from the heads.例文帳に追加

ビーム導入管２の先端とＸ線検出器３のＸ線導入用スリーブ３ａの先端を互いに接近させて配置し、ビーム導入管２とＸ線導入用スリーブ３ａの先端部内にヘリウムガスを導入し、先端からヘリウムガスを噴射する。 - 特許庁

The support members connecting the liquid helium container 1 to the external wall 2 of the cryostat are excluded, and, while a plurality of superconducting magnets 3 are provided at the outer circumferential wall surface of the liquid helium container 1, a plurality of normal conducting magnets 4 are provided at the inner circumferential wall surface of the external wall 2 of the cryostat.例文帳に追加

クライオスタット外壁２と液体ヘリウム容器１を結合する支持部材をなくして、液体ヘリウム容器１の外周壁面に複数の超電導磁石３を設けると共に、クライオスタット外壁２の内周壁面に複数個の常電導磁石４を設ける。 - 特許庁

The control device 8 operates the heating system 9 via the heating control device 10 when detecting the stopping signal of the compressor 4 or when a value of the flowmeter 7 becomes a preset value or less; forcibly vaporizes liquid helium in the heat exchange storage tank 3; and replenishes the helium gas in the compressor 4.例文帳に追加

制御装置８は、圧縮機４の停止信号を検知した時点若しくは流量計７の値が予め設定した値以下になった時点で、加熱制御装置１０を介して加熱装置９を作動させ、熱交換用貯槽３内の液体ヘリウムを強制的に気化させ、圧縮機４にヘリウムガスを補充する。 - 特許庁

The semiconductor device comprises a silicon substrate 1, and an SiON film 3 provided on the silicon substrate 1 and including silicon, oxygen, nitrogen, and helium having a concentration distribution in a film thickness direction of a maximum concentration of helium on the surface part of the silicon substrate 1 and a maximum concentration of nitrogen on the surface of the opposite side of the silicon substrate 1.例文帳に追加

半導体装置は、シリコン基板１と、シリコン基板１上に設けられ、膜厚方向に関し、シリコン基板１側の表面部分にヘリウムの濃度の極大値、シリコン基板１と反対側の表面部分に窒素の濃度の極大値がある濃度分布を有するシリコン、酸素、窒素およびヘリウムを含むＳｉＯＮ膜３とを備えている。 - 特許庁

Helium gas is let flow as a coolant into the sample bed 4 to be cooled, whereby the superconducting electromagnet 3 is also cooled by thermal conductivity.例文帳に追加

試料台４の内部には冷却剤としてヘリウムガスを流入することにより、冷却し、熱伝導により超伝導電磁石３も冷却している。 - 特許庁

In a helium gas hose H, the outer periphery of a stailess steel flexible hose 1 is sealed by forming a space part 8 of a weather resistant and flexible material 3.例文帳に追加

ヘリウムガスホースＨを、ステンレス製フレキシブルホース１の外周を耐候性があり且つ、柔軟性のある材料３で空間部５を形成させて密封したことである。 - 特許庁

A lifetime killer 13 is formed in a p-type base region 3 or an n^--type drift layer 2 by irradiation of an electron beam or a helium beam.例文帳に追加

電子線照射もしくはヘリウム線照射によってｐ型ベース領域３内やｎ^-型ドリフト層２内にライフタイムキラー１３を形成する。 - 特許庁

A superconductive magnet device 1 has a principal structure such as a liquid helium tub 2 containing the superconductive magnet 5, a current lead connection 3, a vacuum insulative tub 12.例文帳に追加

超電導磁石装置１は、超電導磁石５を収容する液体ヘリウム槽２、電流リード接続部３、真空断熱槽１２などを主要な構成部とする。 - 特許庁

The semiconductor device substrate 1 is lifted from a stage 3 once by a lift pin 5 in the semiconductor device substrate 1 in destaticizing treatment, and a helium gas 6 as an inert gas is made to flow for several seconds while being exhausted.例文帳に追加

除電処理にて、半導体装置基板１を、リフトピン５にて、一旦、半導体装置基板１をステージ３から上昇させ、そこに不活性ガスであるヘリウムガス６を排気しながら数秒流す。 - 特許庁

The rapidly cooled strip 8 is produced by injecting the molten metal 6 from the nozzle 3 into inert gas (atmospheric gas) such as helium gas, and colliding to the peripheral surface 53 of the cooling roll 5, cooling and solidifying.例文帳に追加

急冷薄帯８は、ヘリウムガスのような不活性ガス（雰囲気ガス）中で、溶湯６をノズル３から射出し、冷却ロール５の周面５３に衝突させ、冷却固化することにより製造される。 - 特許庁

A cap case 2, which houses an ultraviolet LED 3, a visible light LED 4, a helium neon laser or a power supply part 5 thereof is worn on the head of the man by a mounting band 7.例文帳に追加

紫外線ＬＥＤ３や可視光ＬＥＤ４やヘリウムネオンレーザやこれ等の電源部５を収納するキャップケース２は装着用バンド７により人間頭部に装着される。 - 特許庁

In inert gas (atmospheric gas), such as helium gas, the molten metal 6 is injected from the nozzle 3 and collided against the peripheral surface 53 of the rotated cooling roll 5 and cooled and solidified to produce the rapidly cooled strip 8.例文帳に追加

ヘリウムガスのような不活性ガス（雰囲気ガス）中で、溶湯６をノズル３から射出し、回転する冷却ロール５の周面５３に衝突させ、冷却固化して、急冷薄帯８を製造する。 - 特許庁

If the permeable membrane 1 has a structural defect such as a pinhole, helium flows out to the gas flow passage 3 side through the structural defect portion and reaches the sniffer probe 6 before it permeates the peripheral wall section.例文帳に追加

しかしながら、透過膜１にピンホール等の構造欠陥が存在する場合、ヘリウムは周壁部を透過するよりも先に構造欠陥部分を通じてガス流通経路３側に流出し、スニファープローブ６に入る。 - 特許庁

A CPU 1 reads a helium gas lead-in volume corresponding to an operation mode from a memory 16, controls a trap mass-flow controller 4 through a DA converter 3, and introduces He gas to the ion trap part 12.例文帳に追加

ＣＰＵ１は動作モードに応じたＨｅガス導入量をメモリ１６から読みＤＡ変換器３を介してトラップマスフローコントローラ４を制御しイオントラップ部１２にＨｅガスを導入する。 - 特許庁

One end of a first piping 7 is faced into a helium gas atmosphere which evaporates in the cryogenic temperature coolant bath 3, and the other end of the first piping 7 is installed to the vacuum insulating bath 5.例文帳に追加

第１配管７は、一端が極低温冷媒槽３内で蒸発するヘリウムガスの雰囲気中に臨み、他端が真空断熱槽５に取付けられている。 - 特許庁

One end of a freezer installation cylinder 9 is faced into a helium gas atmosphere which evaporates in the cryogenic temperature coolant bath 3, and the other end of the freezer installation cylinder 9 is installed to the vacuum insulating bath 5.例文帳に追加

冷凍機取付シリンダ９は、一端が極低温冷媒槽３内で蒸発するヘリウムガスの雰囲気中に臨み、他端が真空断熱槽５に取付けられている。 - 特許庁

Helium (with molecular weight of 4.0026 g/mol, a boiling point of 4.215 K, and a density of 0.17847 kg/m^3) is encased in a container in which a detector chip and a heat sink are hermetically housed.例文帳に追加

本願発明においては、検出器チップとヒートシンクが密封収納された容器内に、ヘリウム（分子量４．００２６ｇ／ｍｏｌ、沸点４．２１５Ｋ、密度０．１７８４７ｋｇ／ｍ^３）を封入する。 - 特許庁

Then, this generator is provided with a gas charge region 5 which is filled with a gas being not liquefied in a used temperature region such as gas helium or the like, in the space between the airtight container 1 having the built-in superconducting coil 2 and the superconducting bulk rotor 3.例文帳に追加

そして、超電導コイル２を組み込んだ気密容器１と超電導バルク回転体３の間の空間に、ガスヘリウム等の使用温度領域で液化しないガスを充填したガス充填領域５を設けている。 - 特許庁

A quenched thin belt 8 is manufactured, through quenching and solidifying the molten alloy 6 ejected from the nozzle 3 by bringing the molten alloy 6 into collision with the peripheral surface 53 of the roll 5 in an inert gas (atmospheric gas), such as helium gas, etc.例文帳に追加

急冷薄帯８は、ヘリウムガスのような不活性ガス（雰囲気ガス）中で、溶湯６をノズル３から射出し、冷却ロール５の周面５３に衝突させ、冷却固化することにより製造される。 - 特許庁

Ingredients of discharge gas 3 sealed in the ultraviolet light source 1 are nitrogen gas (N_2), argon (Ar), helium or the like with a mixture ratio of N_2 to Ar of 0.1:99.9 to 30:70, and an internal pressure of 100 to 1,000 Pa.例文帳に追加

紫外線光源１に封入された放電ガス３の成分が、窒素ガス（Ｎ_２），アルゴン（Ａｒ），ヘリウム等であり、Ｎ_２とＡｒとの混合比が０．１：９９．９〜３０：７０、内部圧力が１００〜１０００Ｐａである。 - 特許庁

In the method of correcting a photomask defect, after making an electrical continuity in an isolated pattern by a metal deposition film 7 by use of an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source, the defect 3 is corrected; and after the correction, the metal deposition film 7 is physically removed by an AFM (atomic force microscope) scratch working probe 9.例文帳に追加

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームを用いた金属デポジション膜7で孤立したパターンに導通を作ってから欠陥3を修正し、修正後金属デポジション膜7をAFMスクラッチ加工探針9で物理的に除去する。 - 特許庁

The ceramic substrate formed with conductors on or within the ceramic substrate is characterized in that the ceramic substrate has a leakage quantity of ≤10-7 Pa.m3/sec (The) measured by a helium leak detector.例文帳に追加

セラミック基板の表面または内部に導電体が形成されてなるセラミック基板において、上記セラミック基板は、ヘリウムリークディテクタによる測定で１０^-7Ｐａ・ｍ^3 ／ｓｅｃ（Ｈｅ）以下のリーク量であることを特徴とするセラミック基板。 - 特許庁

To reduce running costs and enable long time continuous operation by eliminating the use of exhaust pressure reduced liquid helium as in the case of the prior arts as a means for cooling 3 He gas to the proximity of 1 K in an initial cooling in a dilution refrigerating machine.例文帳に追加

希釈冷凍機において、３Ｈｅガスを１Ｋ近くまで初期冷却する手段として、従来のような排気減圧液体ヘリウムを用いないようにし、ランニングコストの低減を図るとともに長時間連続運転を可能とする。 - 特許庁

This hot plate comprises a resistant heating body formed on a surface or in an interior of a ceramic substrate, and it is characterized by that the ceramic substrate has a leakage amount ≤10-7 Pa.m3/s (He) by measurement of a helium leakage detector.例文帳に追加

セラミック基板の表面または内部に抵抗発熱体が形成されてなるホットプレートであって、前記セラミック基板は、ヘリウムリークディテクタによる測定で１０^-7Ｐａ・ｍ^3 ／ｓｅｃ（Ｈｅ）以下のリーク量であることを特徴とするホットプレート。 - 特許庁

A fuel rod 10 is vibration-charged with fuel pellets 5 and 6 of different grain size in a metal-made clad 4 sealed with an end plug 7 at the lower end and is produced by installing a pushing jig 3, replacing the inside of the clad 4 with helium gas and welding an end plug 1 at the upper end of the clad 4.例文帳に追加

燃料棒１０は、下端を端栓７で封じた金属製の被覆管４内に粒径の異なる燃料顆粒５，６を振動充填した後、押治具３装填し、被覆管４内をヘリウムガスで置換してから被覆管４の上端に端栓１を溶接して製造される。 - 特許庁