「In a spin」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To suppress read disturbance in a reference element in a magnetic random access memory performing spin injection writing.例文帳に追加

スピン注入書き込みを行う磁気ランダムアクセスメモリにおいて、参照素子における読み出しディスターバンスの発生を抑制する。 - 特許庁

An etching liquid nozzle 307 in the shape of a straight line when viewed in a plane is disposed on the top surface of the spin base 302.例文帳に追加

スピンベース３０２の上面には、平面視で一文字形状のエッチング液ノズル３０７が配置されている。 - 特許庁

To minimize drop in players' desires for games in a spin drum type game machine represented by a slot machine.例文帳に追加

スロットマシンに代表される回胴式遊技機において、遊技者の遊技意欲を低下させにくい遊技機を提供する。 - 特許庁

To provide a spin processor in which an inertial force occurring in a rotary table can be reduced.例文帳に追加

この発明は回転テ−ブに生じる慣性力を低下させることができるようにしたスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

The forming method of the doped PCMO thin-film layer which can be applied to RRAM and includes a process that prepares a PCMO precursor solution having a transition metal additive in it, a process that spin-coats a doped PCMO spin coating solution onto a wafer surface and anneals the same after sintered, a process that repeats spin coating several number of times and a process that further performs annealing.例文帳に追加

ＲＲＡＭに適用出来るドープされたＰＣＭＯ薄膜層の形成方法であって、その中に遷移金属添加物を有するＰＣＭＯ前躯体溶液を準備する工程と、ドープされたＰＣＭＯスピンコーティング溶液をウェハ表面上にスピンコーティングし焼成後アニーリングする工程と、前記スピンコーティングを複数回繰り返す工程と、さらにアニーリングする工程とを含む。 - 特許庁

A spin chuck 1 is arranged at a liquid treatment height WH and liquid treatment by treatment liquid is carried out by supplying a treatment liquid to a wafer W from a nozzle 3 and a treatment liquid supply opening 17a, while rotating a spin chuck 1 holding the wafer W with a cup 2 arranged in the circumference of the wafer W held by the spin chuck 1.例文帳に追加

スピンチャック１を液処理高さＷＨに配置して、スピンチャック１に保持された基板Ｗの周囲にカップ２を配置させた状態で、基板Ｗを保持したスピンチャック１を回転させつつノズル３や処理液供給口１７ａから処理液を基板Ｗに供給して処理液による液処理を行う。 - 特許庁

To prevent a spin suppression effect from being reduced due to contribution of a second-order differential value of a vehicular body slip angle when abrupt steering is repeated, in a behavior controller for suppressing a spin behavior of a vehicle, using a spin state quantity calculated based on the vehicular body slip angle, a differential value thereof and the second-order differential value thereof as controlled variables.例文帳に追加

車体スリップ角及びその微分値並びにその２階微分値に基づいて算出されるスピン状態量を制御量として車両のスピン挙動を抑制する挙動制御装置に於いて、急操舵が繰り返されたとき車体スリップ角の２階微分値の寄与によるスピン抑制効果の低減を回避すること。 - 特許庁

In the method for manufacturing the spin chuck of the center gate system consisting of a combination of the spin chuck made of the resin and the insert fitment embedded on the central axial line of the spin chuck, the resin is filled in a round condition by providing a resin retention part at a position just below an injecting gate of the insert fitment.例文帳に追加

樹脂製スピンチャックとスピンチャックの中心軸線上に埋設されるインサート金具との組み合わせよりなるセンターゲート方式のスピンチャックの製造方法において、インサート金具の注入ゲート直下位置に樹脂滞留部を設けることで、樹脂を真円状態に充填することにした。 - 特許庁

To prevent a defect due to redeposit of a coated substance in a spin coat method which is implemented to solve a problem of depositing a solid substance solidified with a coating liquid scattered in a device to a coated surface in the coating by the spin coat method.例文帳に追加

本発明はスピンコート法による塗布において、装置内部に飛散した塗布液が固化した固形物が塗布面に付着するという問題を解決するためになされたものであり、スピンコート法において塗布物の再付着による欠陥を防止することを目的とする - 特許庁

The spin torque oscillator includes an oscillation layer comprising a magnetic body, a spin injection layer comprising a magnetic body and injecting spin into the oscillation layer, and a current constriction layer having an insulation part comprising an oxide or a nitride and a conductive part comprising a nonmagnetic metal penetrating the insulation part in the lamination direction.例文帳に追加

実施形態に係るスピントルク発振子は、磁性体からなる発振層と、磁性体からなり前記発振層にスピンを注入するスピン注入層と、酸化物または窒化物からなる絶縁部および前記絶縁部を積層方向に貫通する非磁性金属からなる導電部を有する電流狭窄層とを有する。 - 特許庁

There is a point of view that in such a case it is more natural to consider it a spin-off of the shrine that has given it the 'goshintai' than to regard it as a kamidana. 例文帳に追加

その場合は神棚ではなく「御神体」を授与した神社の分社とみなすほうが自然だ、とする考え方もある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A spin chuck 3 includes a holding electrode plate 5 for holding a wafer W in approximately horizontal attitude by absorbing the backside (a lower surface) thereof.例文帳に追加

スピンチャック３は、ウエハＷをほぼ水平な姿勢でその裏面（下面）を吸着して保持する保持電極板５を備えている。 - 特許庁

A cleaning fluid discharge nozzle 2 is prepared in a position closer to a spin chuck 3 than a cleaning fluid discharge nozzle 1.例文帳に追加

洗浄液吐出ノズル１よりもスピンチャック３に近い位置に、洗浄液吐出ノズル２が設けられている。 - 特許庁

To suppress a spin-torque effect, to achieve a high magnetoresistance effect and to reduce a gap between shields in a magnetic field detecting element.例文帳に追加

磁界検出素子において、スピントルク効果を抑えると共に、高い磁気抵抗効果の実現とシールド間ギャップの低減を図る。 - 特許庁

In the outward of a spin chuck 21, a cleaning pot 210 corresponding to a chemical nozzle 50 and a pot 220 for predispensing are provided.例文帳に追加

スピンチャック２１の外方には、薬液ノズル５０に対応する洗浄用ポット２１０およびプリディスペンス用ポット２２０が設けられる。 - 特許庁

To uniformly form a thick film consisting of a high-viscosity photoresist on the surface of a substrate and without involving bubbles in the thick film by the operation of one time of a spin coating.例文帳に追加

高粘度フォトレジストの厚膜を基板表面に均一に、かつ気泡が巻き込まれることなく、１回のスピンコート操作で成膜する。 - 特許庁

A wafer W is rotated around a vertical rotation axis in a state where the wafer W is held by a spin chuck.例文帳に追加

ウエハＷは、スピンチャックに保持されて鉛直方向に沿う回転軸線まわりに回転される。 - 特許庁

On the laminate formed in such a manner, a final layer having a film thickness T=λ/(4n) is formed according to a spin coat method, wherein n is refractive index and λ is wavelength of light.例文帳に追加

このように形成した積層上に、スピンコート法により、膜厚T=λ/(4n)（屈折率n、光の波長をλ）の最終層を形成する。 - 特許庁

To provide a method of generating a thin film for use in the spin valve of a magnetoresistive (MR) sensor having a nano-constricted spacer.例文帳に追加

ナノ狭窄スペーサを有する磁気抵抗（ＭＲ）センサのスピンバルブ内に使用する薄膜の生成方法を提供する。 - 特許庁

A resist coating device 20 is provided with a spin chuck 130 which holds and rotates a wafer W and freely moves in a vertical direction.例文帳に追加

レジスト塗布装置２０には、ウェハＷを保持して回転させ、且つ上下方向に移動自在のスピンチャック１３０が設けられている。 - 特許庁

To provide a spin coating method which applies a resist uniformly to the surface of a circle-shaped disk substrate with a hole opened in the center thereof.例文帳に追加

中心に穴の開けられた円盤状ディスク基板の表面にレジストを均一に塗布するスピンコート方法を提供する。 - 特許庁

To provide a spin treating device prevented in the flying up of a treating liquid for cleaning the back surface of a substrate to a front surface.例文帳に追加

この発明は基板の裏面を洗浄する処理液が表面側に舞い上がるのを防止したスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

In a process a1, a resist whose thickness is at least 5 μm is applied on a substrate by a spin-coating method, and the like, for pre-baking.例文帳に追加

まず工程ａ１で、スピンコート法などによって、厚さが５μｍ以上のレジストを基板に塗布し、プリベークを行う。 - 特許庁

A wafer W as an article being cleaned is supported by means of a spin chuck 12 and turned at a constant speed in a horizontal plane.例文帳に追加

被洗浄体としてのウエハＷは、スピンチャック１２によって支持され、水平面内で一定の速度で回転駆動される。 - 特許庁

To reduce the swelling of a resist liquid in the peripheral part of a wafer which is generated when a resist film is formed on the wafer by a spin coating method.例文帳に追加

スピンコーティング法によりウェハにレジスト膜を形成する際に生じる，ウェハ外縁部のレジスト液の盛り上がりを軽減する。 - 特許庁

In both end sections of the memory device MM1, a fixed layer 1, the direction of magnetization fixed in one direction, and a free layer 2 with changeable, the direction of magnetizing orientation when the spin-polarized electrons flow in, are respectively included by using a carbon nanotube 10 as one constituent unit and the central part of the tube 10 in the axial direction as a spin conductive layer 3.例文帳に追加

カーボンナノチューブ１０を１構成単位とし、その軸方向における中央部をスピン伝導層３とし、両端部に、磁化配向が一定方向に固定された固定層１，偏極スピン電子の流入によって磁化配向が変化する自由層２がそれぞれ内包されている。 - 特許庁

Substrate treatment equipment has a spin chuck 1 holding a wafer W in approximately horizontal manner and being rotated, a sulfuric-acid nozzle 2 for supplying the surface of the wafer W held to the spin chuck 1 with sulfuric acid (H_2SO_4) and a hydrogen-peroxide solution nozzle 3 for supplying the surface of the wafer W, held to the spin chuck 1 with a hydrogen-peroxide solution.例文帳に追加

ウエハＷをほぼ水平に保持して回転するスピンチャック１と、このスピンチャック１に保持されたウエハＷの表面に硫酸（Ｈ２ＳＯ４）を供給するための硫酸ノズル２と、スピンチャック１に保持されたウエハＷの表面に過酸化水素水を供給するための過酸化水素水ノズル３とを備えている。 - 特許庁

any of a small order of slender typically tropical insects that nest in colonies in silken tunnels that they spin 例文帳に追加

紡いだ絹のようなトンネルの中のコロニーで巣を作る、典型的に熱帯性のほっそりした各種の昆虫小目 - 日本語WordNet

In the case of performing washing processing and drying processing, the substrate W is rotated in a state horizontally held by the spin chuck 11.例文帳に追加

基板Ｗは、洗浄処理および乾燥処理を行う場合に、スピンチャック１１により水平に保持された状態で回転される。 - 特許庁

A labeling means performs labeling by inverting the spin contained in some labeling areas in the imaging area.例文帳に追加

標識化成手段は、撮像領域内の一部の標識化領域に含まれるスピンを反転させて標識化を行う。 - 特許庁

In the following spin-drying and drying processes, evaporation and removal of moisture are performed using the drop of a boiling point in decompression.例文帳に追加

次の脱水工程及び乾燥工程は、減圧時の沸点低下を利用して水分の蒸発、除去を行う。 - 特許庁

To prevent a ball from being largely decreased in spin amount in the case of bad weather or shooting from the rough while preventing the ball from being damaged.例文帳に追加

ボールに傷がつくことを防止しながら、雨天時やラフからのショットの場合にボールのスピン量が大きく低減することを防止すること。 - 特許庁

When all of the drives in the enclosure enter a spin-down state, the supply of power from the power supply 2C in the enclosure to the respective drives 2B is stopped.例文帳に追加

筐体内の全ドライブ２Ｂがスピンダウン状態になると、筐体内電源２Ｃから各ドライブ２Ｂへの電源供給が停止される。 - 特許庁

Further a second opening 12 is communicated to the spin-drying space 2 to take in and out the umbrella 2 from the vertical direction, while holding the handle in the approximately dropping state.例文帳に追加

又、脱水処理空間２に柄を持って略垂下状態で縦方向から傘１を出し入れできる第２の挿抜口１２を連絡する。 - 特許庁

To form a fine element while suppressing photo shifting between a spin torque oscillator and a main magnetic pole and preventing end damaging, in microwave assist recording.例文帳に追加

マイクロ波アシスト記録において、スピントルク発振器と主磁極のホトズレを抑え、かつ端部ダメージを防ぎながら微細な素子を形成する。 - 特許庁

To provide a golf ball that stops to roll due to a great spin when shot from a rough or in the rain.例文帳に追加

ラフからのショットや、雨天時のショットにもスピンが大きく止まりやすいゴルフボールを提供する。 - 特許庁

To obtain a spin transfer oscillator (STO) structure which can oscillate a field generation layer (FGL) under a low current density in MAMR application.例文帳に追加

ＭＡＭＲ用途において、低電流密度下で磁界生成層（ＦＧＬ）を発振させ得るスピントランスファー発振器（ＳＴＯ）構造を得る。 - 特許庁

An alignment jig 30 is formed into the same shape as that of a spin chuck for retaining a wafer W in a resist coating device.例文帳に追加

位置合わせ用治具３０は，レジスト塗布装置におけるウェハＷを保持するスピンチャックと同形状に形成される。 - 特許庁

The substrate W is supported nearly in a horizontal posture while the substrate W is separated upward from a spin base 15 by a prescribed distance.例文帳に追加

スピンベース１５から所定距離だけ上方に離間させた状態で基板Ｗを略水平姿勢で支持する。 - 特許庁

When forming a double gate insulating film, an organic insulating film is formed on the metal oxide film in a self-assembly process or a spin coating process.例文帳に追加

二重ゲート絶縁膜とする場合には、有機絶縁膜を、自己組立工程またはスピンコーティング工程で金属酸化膜の上に形成する。 - 特許庁

A substrate W is held on a spin chuck 2 in a substantially horizontal position while directing the front surface Wf upward.例文帳に追加

基板Ｗは、表面Ｗｆを上方に向けた略水平姿勢の状態でスピンチャック２に保持される。 - 特許庁

A resist 86 is spin-coated on a main surface of a semiconductor substrate that includes trenches 50 in which projection parts 70 are disposed.例文帳に追加

凸部７０が配列された溝５０を含む半導体基板主面にレジスト８６をスピンコートする。 - 特許庁

A thickness of the first magnetic layer connecting between the first electrode and the second electrode in a first direction is larger than twice a spin infiltration length of the first magnetic layer.例文帳に追加

第１電極と第２電極とを結ぶ第１方向における第１磁性層の厚さは、第１磁性層のスピン侵入長の２倍よりも厚い。 - 特許庁

Resist solution discharge nozzles 56a-56d are attached to the tip end part of a nozzle arm 55 and a substrate G is set in a spin chuck 51.例文帳に追加

レジスト液吐出ノズル５６ａ〜５６ｄがノズルアーム５５の先端部に設けられ、基板Ｇはスピンチャック５１に装着されている。 - 特許庁

The direction of the magnetization of a magnetic material 5_R for reading for composing a spin filter in reading is the same as that of the magnetization of a fixed layer 1.例文帳に追加

読み出し時のスピンフィルタを構成する読み出し用強磁性体５_Ｒの磁化の向きは、固定層１の磁化の向きと同一である。 - 特許庁