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M[[w]]の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 893



例文

The heat-conductive sheet 1 comprising plate-like boron nitride particles 2 has a coefficient of thermoconductivity of ≥4 W/m K in the plane direction SD of the heat-conductive sheet 1, and does not come off from an adherend in an initial adhesion force test (1).例文帳に追加

板状の窒化ホウ素粒子2を含有する熱伝導性シート1であって、熱伝導性シート1の面方向SDの熱伝導率が、4W/m・K以上であり、初期接着力試験(1)において、被着体から脱落しない。 - 特許庁

The matrix-(16) material has a thermal conductivity of about 10 W/m/K or higher, and a functional material (20) is disposed within at least a portion of the plurality of micropores (14).例文帳に追加

マトリックス(16)材料は約10W/m/K以上の熱伝導率を有しており、複数の細孔(14)の少なくとも一部に機能性材料(20)が設けられている。 - 特許庁

A forest of the fuel assemblies 1 arrayed adjacently are disposed underwater W in a state each exposing the identification marking M of a fuel number or the like, and an image of the fuel assemblies is photographed.例文帳に追加

各別に燃料番号刻字等の識別標示Mが表出された隣装配列状態で林立している水中Wの原子炉燃料集合体1を撮影する。 - 特許庁

To provide an insulating material used for bonding a thermal conductor having a thermal conductivity of10 W/m-K to a conductive layer, having high heat releasability and high processability of a cured product after being cured.例文帳に追加

熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられ、硬化後の硬化物の放熱性及び加工性が高い絶縁材料を提供する。 - 特許庁

例文

The alphabet of 26 characters are divided in a vowel group 'A, I, U, E, O', a first consonant group 'K, S, T, N', a second consonant group 'W, R, Y, M, H' and a remaining alphabet group.例文帳に追加

アルファベット26文字は、母音群「A、I、U、E、O」、子音第1群「K、S、T、N」、子音第2群「W、R、Y、M、H」、残りのアルファベット群に分けられている。 - 特許庁


例文

The resin composition and the resin sheet are each used for adhering a heat conductor having a thermal conductivity of10 W/m-K to an electroconductive layer.例文帳に追加

本発明に係る樹脂組成物及び樹脂シートはそれぞれ、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられる。 - 特許庁

The Fe-based amorphous alloy ribbon having small own magnetostriction has the exciting power VA of 1.5 W/kg or less, and the magnetic flux density B1 of 1.3 T or higher when the magnetic field of 80 A/m is applied.例文帳に追加

励磁電力VAが1.5W/Kg以下であって、かつ、80A/mの磁場を印加したときの磁束密度B1が1.3T以上であることを特徴とする動作磁歪が小さなFe基非晶質合金薄帯。 - 特許庁

The laser beam machine M is equipped with: a laser light source 10 of outputting laser light; a condensing lens of condensing the laser light emitted from the laser light source 10 on a work W; and a control unit 30.例文帳に追加

レーザ加工装置Mは、レーザ光を出力するレーザ光源10と、レーザ光源10から出射されたレーザ光を加工対象物Wに集光させる集光レンズと、コントロールユニット30を備えている。 - 特許庁

Clamping positions for clamping the string W by the bias in the penetration hole 1 of the male tool M are positioned at a biasing front side Sb at the other hole opening 1b side rather than one side hole opening 1a of the penetration hole 1.例文帳に追加

雄具Mの通し孔1における前記付勢により紐Wを挟持する挟持箇所が、この通し孔1の一方の孔口1a側よりも他方の孔口1b側において、前記付勢先側Sbに位置されるようになっている。 - 特許庁

例文

More preferably, the inorganic filler 1 is a scale-shaped boron nitride having50 W/m×K heat conductivity, and is contained so as to occupy 10-60 vol.% in the volume of the total of the solid component of the thermosetting resin and the inorganic filler 1.例文帳に追加

さらに好ましくは、無機フィラ1が、熱伝導率50W/m・K以上である鱗片状の窒化ホウ素であり、熱硬化性樹脂固形分と無機フィラ1を合わせた体積中に10〜60体積%占めるように含有される。 - 特許庁

例文

A substrate stage 11 of the exposure device PE includes a substrate holding plate where a substrate W is mounted and a plurality of mask holding pins that are disposed as freely approaching and retreating from above the substrate holding plate and that hold a mask M.例文帳に追加

露光装置PEの基板ステージ11は、基板Wが載置される基板保持板と、基板保持板の上面から進退自在に配置され、マスクMを保持する複数のマスク保持ピンとを備える。 - 特許庁

The anisotropic epoxy resin cured product has a thermal conductivity of 0.4-30 W/(m×K) and a coefficient of thermal expansion of -10×10^-6-50×10^-6 [/K] in the direction that the mesogenic group is oriented.例文帳に追加

異方性エポキシ樹脂硬化物は、メソゲン基が配向されている方向において、0.4〜30W/(m・K)の熱伝導率と、−10×10^-6〜50×10^-6[/K]の熱膨張係数とを有する。 - 特許庁

Prior to a step for grinding the rear surface of a semiconductor wafer W, a step for making a cut groove M in the rear surface corresponding to a street formed on the surface is carried out.例文帳に追加

半導体ウェーハWの裏面研削工程の前に、表面に形成されたストリートに対応させて裏面に切削溝Mを形成する裏面切削溝形成工程を行う。 - 特許庁

To provide a curvature correction mechanism capable of suppressing deformation of a main scanning line into M-shape or W-shape and to provide an optical scanner and an image forming apparatus.例文帳に追加

主走査線がM字状やW字状になるのを抑制することができる湾曲補正機構、光走査装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The invention is especially effective when an exterior wall or a roof constituting the exterior finishing face of a building has a heat insulation property of 5.0 W/(m^2 K) or lower in heat transmission coefficient.例文帳に追加

本発明は、建築物外装面を構成する外壁または屋根が、熱貫流率5.0W/(m^2・K)以下の断熱性を有するものである場合において、特に有効である。 - 特許庁

The star winding includes a second U phase winding, a second V phase winding and a second W phase winding which are wound around the armature core m turns, one ends of them are connected to coupling parts of the Δ winding, respectively.例文帳に追加

スター巻線は、それぞれ電機子鉄心をm周し、その一端がΔ巻線の結線部に接続された第2U相巻線、第2V相巻線及び第2W相巻線を含む。 - 特許庁

A double fluid nozzle 30 mixes an N_2 gas and pure water supplied by supply ducts 51b, 52b and discharges a mixed fluid M to a substrate W.例文帳に追加

二流体ノズル30は供給管路51b,52bにより供給されるN_2 ガスおよび純水を混合し、その混合流体Mを基板Wへ吐出する。 - 特許庁

In order to adjust the polarization distribution of light on the pupil surface of an illumination optical apparatus which illuminates irradiated surfaces M, W based on the light from a light source 1, a polarization distribution adjustment member 9 is provided.例文帳に追加

光源1からの光に基づいて被照射面M、Wを照明する照明光学装置の瞳面における光の偏光分布を調整するために、偏光分布調整部材9を備えている。 - 特許庁

A lower die has a main punch 13 for punching a workpiece W from a material M, and an upper die has an ejector 23 which is arranged opposite to the main punch and constantly urged via a second elastic member 24.例文帳に追加

下型には、被加工材MからワークWを打ち抜くための主パンチ13を備え、上型には、主パンチ13に向けて対向配置されると共に常時附勢されるように第2の弾性部材24を介してエジェクタ23を備えている。 - 特許庁

The embodiment in which the molding is sintered at ≥1,700°C in a nitrogen atmosphere, the embodiment in which the content of the sintering assistant in the mixture is 1 to 50 wt.%, the embodiment in which the thermal conductivity is180 W/M.°K, etc. are more preferable.例文帳に追加

窒素雰囲気下、1700℃以上で焼結する態様、混合物における焼結助剤の含有量が1〜5重量%である態様、熱伝導率が180W/m・°K以上である態様、等が好ましい。 - 特許庁

Also, silica borate S1, S2, etc., and zinc oxide Z1, Z2, etc., are incorporated into the active water to improve the gloss of the film M formed on the surface W of the material to be washed by the zinc oxide Z1, Z2, etc.例文帳に追加

又、活性水にホウ酸シリカS1、S2…及び酸化亜鉛Z1、Z2…を含有させ、酸化亜鉛Z1、Z2…で被洗浄物の表面Wに形成する被膜Mの光沢を向上させる。 - 特許庁

In the temperature range of 500 degree C or less on the surface of the metal strip, an average grain diameter of the drops of water obtained through atomization shall be adjusted so that coefficient of heat transfer shows 580 W/(m2.°C) or less.例文帳に追加

金属ストリップの表面温度が500 ℃以下の温度域では熱伝達係数が580 W/(m^2・℃)以下となるように、微粒化して得られる水滴の平均粒径を調整する。 - 特許庁

To obtain a thermally conductive composition having a thermal conductivity of 2.0 W/(m×K) and a viscosity of 10,000-80,000 mPa s, which enables screen printing and need not be kept by cold storage.例文帳に追加

熱伝導率が2.0W/m・K以上であり、粘度が10000〜80000mPa・sのスクリーン印刷可能で冷蔵保管が不必要である熱伝導性組成物を提供する。 - 特許庁

In the exposure method, the pattern of a mask (M) disposed on the object surface of a projection optical system (PL) is exposed on the photosensitive substrate (W) disposed on the image surface of the projection optical system to form the pattern of a desired line width on the photosensitive substrate.例文帳に追加

投影光学系(PL)の物体面に設置されたマスク(M)のパターンを、投影光学系の像面に設置された感光性基板(W)上に露光して、感光性基板上に所望線幅のパターンを形成する露光方法。 - 特許庁

This sleeve is constituted by shrinkage-fitting the inner cylinder made of a ceramic sintered compact consisting essentially of silicon nitride the thermal conductivity of which is50 W/(m×K) at the room temperature on the inner surface of an outer cylinder made of a metal material.例文帳に追加

金属材料からなる外筒の内面に、常温における熱伝導率が50W/(m・K)以上の窒化ケイ素を主成分とするセラミックス焼結体からなる内筒を焼嵌めて構成したことを特徴とする。 - 特許庁

A first light intensity measuring device 8 measures, out of several beams of the monitor light L_M, intensity of external outgoing light L_M0 reflected on the surface of the wafer W and is emitted to an external part of the chamber 1 through the window 2.例文帳に追加

第1の光強度計測器8が、モニタ光L_Mのうち、基板Wの表面で反射し、窓2を通してチャンバ1の外部に出射した外部出射光L_M0の強度を計測する。 - 特許庁

R=one or two kinds of Lu and Yb, M=one or two kinds of Ga and Al, 0.25≤w≤0.7, 0≤x≤0.05, and 0≤y≤0.24.例文帳に追加

化学式:(Bi_wR_1-wーxPb_x)_3(M_yFe_1-y)_5O_12 ただし、 R=Lu、Ybから選ばれる1種または2種 M=Ga、Alから選ばれる1種または2種 0.25≦w≦0.7、 0≦x≦0.05、 0≦y≦0.24 - 特許庁

Moreover, it is desirable that the material of the low thermal conduction base has a thermal conductivity not larger than 5 W×m^-1×K^-1 and a thermal expansion coefficient not larger than10^-6/°C.例文帳に追加

前記低熱伝導ベースは熱伝導率が5W・m^−1・K^−1以下で且つ熱膨張係数が1×10^−6/℃以下の材料とすることが望ましい。 - 特許庁

A dual winding coil C pulls out a winding start W1 and a winding end W2 of a wire W of a coil main body 1 wound around a request layer M and a request width Q to a peripheral side of the coil main body 1 to form lead wire portions 2A, 2B.例文帳に追加

二元捲きコイルCは、所望層M、所望幅Qに捲回するコイル本体1のワイヤWの捲き始めW1と、捲き終わりW2とをコイル本体1の外周側に引き出してリード線部2A,2Bを形成した。 - 特許庁

The guide bar 20 protruded to the position higher than the height position of the warp line L forms the weaving passage M of the woven fabric W between a cloth fell W1 and the main sucking cylinder 22 into a chevron shape in the view from the width direction in weaving of the woven fabric.例文帳に追加

ワープラインLの高さ位置よりも上に突き出た案内バー20は、織前W1と主吸引筒22との間の織布Wの織布経路Mを織布の織り幅方向に見て山形となる形状にする。 - 特許庁

An edge WE of the wafer W, supported by a rotary shaft, is irradiated with light from a detection means 10A, and the position of a notch (or orientation flat) N and the position of the identification code M are measured.例文帳に追加

回転軸に支持されたウェハWのエッジWEに、検出手段10Aから光を照射して、ノッチ(又はオリフラ)Nの位置と識別コードMとの位置を測定する。 - 特許庁

When a conductive path A is mounted on a motor M (the apparatus), an electric wire connector portion 33 faces a downward opening of a storing space Fc so that electric wires W can easily be connected to the electric wire connector portion 33.例文帳に追加

導電路AをモータM(機器)に取り付けると、電線用コネクタ部33が収容空間Fcの下方への開口部に臨むので、この電線用コネクタ部33に対する電線Wの接続を容易に行える。 - 特許庁

The nozzle 32 is moved relative to a work W with the aperture 49 directing backward and the viscous material M is delivered from the port 48 and the aperture 49 to coat the material in bead pattern along an almost tangent closed loop tracing.例文帳に追加

ノズル32は開口部49が後向きとなる状態でワークWに対して相対移動し、吐出口48と開口部49から粘性材料Mを吐出して平面視略閉ループ状の軌跡に沿ってビード状に塗布する。 - 特許庁

The nesting device is applied to metal plate machining equipment 3 having a metal plate machining unit 2 for cutting a parts-metal plate m from a metal plate workpiece W and various types of post-process devices 3 such as bending and welding as a post-process.例文帳に追加

素材板材Wから部品板材mを切り取る板材加工機2、およびその後工程となる曲げ,溶接等の複数種類の後工程装置3を備えた板材加工設備3に適用される。 - 特許庁

The red phosphor has a chemical formula (1) A_2Eu(MO_4)(PO_4), wherein A is Li, Na, K, Rb, Cs, or Ag, and M is Mo, W, or a combination thereof (Mo_xW_(1-x)).例文帳に追加

赤色蛍光体は、以下に示す化学式(1) A_2Eu(MO_4)(PO_4)を有し、ここでAがLi,Na,K,Rb,CsまたはAgであり、MがMo,Wまたはその組み合わせ(Mo_xW_(1−x))である。 - 特許庁

The invention is especially effective in the case that an outer wall or a roof constituting an exterior finishing face of a building has a heat insulation property of 5.0 W/(m^2 K) or lower in heat transmission coefficient.例文帳に追加

本発明は、建築物外装面を構成する外壁または屋根が、熱貫流率5.0W/(m^2・K)以下の断熱性を有するものである場合において、特に有効である。 - 特許庁

In addition, preferably, the heat-conductive polymer molding is formed like a sheet, and its width-direction thermal conductivity (λ_T) is set at 1.0-50 W/(m×K).例文帳に追加

さらに、熱伝導性高分子成形体はシート状をなし、その厚さ方向の熱伝導率(λ_T)が1.0〜50W/(m・K)であることが好ましい。 - 特許庁

The stack 3 formed with a plurality of through holes 301a is formed by densely arranging a plurality of small diameter pipes 301 made of material having thermal conductivity not exceeding 10[W/m×K].例文帳に追加

複数の貫通孔301aが形成されたスタック3は、熱伝導率が10[W/m・K]を超えない材料からなる複数の細管301を稠密に配設することにより形成される。 - 特許庁

This thermally conductive resin composition contains a matrix resin, pitch-based carbon fibers or vapor-grown carbon fibers, and a foaming agent, and has a specific gravity of ≤1.1, and a thermal conductivity of ≥0.4 W/(m-K).例文帳に追加

マトリックス樹脂と、ピッチ系炭素繊維または気相成長炭素繊維と、発泡剤とを含み、比重が1.1以下であり、かつ、熱伝導率が0.4W/(m・K)以上であることを特徴とする熱伝導性樹脂組成物。 - 特許庁

The halftone generating part 68 converts the inputted white toner image W into image formation data similar to normal image data Y, M, C and K (yellow, magenta, cyan and black) and transfers the image formation data to a white toner printing part of an image formation unit 30.例文帳に追加

中間調生成部68は、入力された白トナー画像Wを、通常の画像データY,M,C,Kと同様に画像形成データに変換し、画像形成ユニット30の白トナー印字部に渡す。 - 特許庁

The support member at least whose surface exposed to the ink is composed of a graphite material with a heat conductivity of 50 W/(m K) or higher containing a carbon of 99.9 wt% or higher is provided.例文帳に追加

少なくともインクに曝される表面が、炭素を99.9重量%以上含有して成る熱伝導率が50W/(m・K)以上の黒鉛材から成る支持部材を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an insulating sheet used for bonding a heat conductor whose thermal conductivity is10 W/m K to a conductive layer, wherein a cured product after curing has a low elastic modulus, and the cured product has high heat resistance and voltage resistance.例文帳に追加

熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられ、硬化後の硬化物の弾性率が低く、かつ硬化物の耐熱性及び耐電圧性が高い絶縁シートを提供する。 - 特許庁

A negative pressure ordinary operation mode opens the shutter 5 and closes the damper 13 and a flow is executed at a speed of 0.3-0.6 m/sec without outflow of an air amount Q1 in a working space 4 to the worker W side.例文帳に追加

陰圧通常運転モードはシャッタ5を開きダンパ13を閉じて、作業空間4内の空気量Q1をを作業者W側に流出させることなく、0.3〜0.6m/秒の速度で流通させる。 - 特許庁

A chamfering process is carried out to position the center P in the thickness direction of the peripheral edge of a wafer W at the center M of the grinding groove 110 of an outer periphery grinding wheel 108 constantly.例文帳に追加

ウェーハWの周縁の厚さ方向の中心Pが、常に外周研削砥石108の研削溝110の中央Mに位置するように面取り加工する。 - 特許庁

The produced porous body has a thermal conductivity of 50 to 230 W/(m*K) when the relative density is in a range of 70 to 98%, and a Young's modulus of 15 to 73 GPa when the relative density is in a range of 70 to 98%.例文帳に追加

作製された多孔質体は、熱伝導率が、相対密度で70〜98%の範囲の場合50〜230W/(m・K),ヤング率が、相対密度で70〜98%の範囲の場合15〜73GPaである。 - 特許庁

The obtained material for the terminal has the heat conductivity of40 W/m, and the heat is efficiently absorbed from a circuit substrate with the material for the terminal soldered thereto, and radiated therefrom.例文帳に追加

このようにして得られる端子用材料は、40W/m・K以上の熱伝導率を有しており、端子材をハンダ付けする回路基板などから熱を効率的に吸収して放熱することができる。 - 特許庁

In the crystallizing method of the succinic acid crystal from a solution containing succinic acid, the ratio (Pv) of the power required for stirring is set to 70-350 W/m^3 and the dimensionless supersaturation degree (Sc) is set to 1-1.3.例文帳に追加

上記課題は、コハク酸を含有する溶液からコハク酸の結晶を晶析させる方法において、攪拌所要動力比(Pv)を70〜350W/m^3、無次元過飽和度(Sc)を1〜1.3とするコハク酸の晶析方法により解決される。 - 特許庁

The production method contains a step to treat a synthetic rubber with ultrasonic wave and the obtained synthetic rubber (B) has a weight-average molecular weight (M_w) lower than that of the original synthetic rubber (A).例文帳に追加

本製造方法は超音波を使った合成ゴムの処理を含み、得られた合成ゴム(B)は、使用した合成ゴム(A)より低い重量平均分子量(M_w)を有する。 - 特許庁

The focal position P of a laser beam L on an object W to be welded is offset by a distance R1 from the emitting optical axis Q using the wedge plate 6 and rotatably displaced on the circumference M of the radius R1.例文帳に追加

被溶接物W上でのレーザ光Lの焦点位置Pをウエッジ板6にて発射光軸Qから距離R1だけオフセットさせ、半径R1の円周M上で回転変位させる。 - 特許庁

例文

The molded articles W after the primary drying are taken out from the plaster molds M by means of a demolding mechanism 5 and are forwarded to the secondary drying room 6 by means of a conveyor 18 and are dried again in the different region from the circulation mechanism 1.例文帳に追加

一次乾燥後の成形品Wを脱型機構5により石膏型Mから取り出し、コンベア18で二次乾燥室6に送り、循環機構1と異なる領域で再び乾燥する。 - 特許庁

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