「M[[w]]」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

A mixture of a woody material W and a melt of a thermoplastic resin R is sprinkled over a form 10 to form a mat M having a double-layered structure and the mat M is press-molded to manufacture the woody molded product.例文帳に追加

型枠１０上に木質材料Ｗと熱可塑性樹脂Ｒ溶融物との混合物を散布して複層構造のマットＭをフォーミングし、該マットＭをプレス成形して木質成形体を製造する。 - 特許庁

When a magnification setting circuit 107 sets a reduction rate (m), a control coefficient generating circuit 108 generated a control coefficient (k) in response to the reduction rata (m), and an interpolation coefficient calculation circuit 109 calculates an interpolation coefficient (w).例文帳に追加

倍率設定回路１０７が縮小倍率ｍを設定すると、制御係数発生回路１０８は倍率ｍに応じて制御係数ｋを発生させ、補間係数算出回路１０９が補間係数ｗを算出する。 - 特許庁

A M_xV_2O_5 crystal is selectively deposited in V-based glass, where M is either of metallic elements Fe, Sb, Bi, W, Mo, Mn, Ni, Cu, Ag, alkaline metals, and alkaline earth metals, and 0<x<1.例文帳に追加

Ｖ系ガラス中に、Ｍ_xＶ_2Ｏ_5結晶（Ｍ：Ｆｅ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｗ，Ｍｏ，Ｍｎ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ａｇ，アルカリ金属，アルカリ土類金属）のいずれかの金属元素、０＜ｘ＜１）を選択的に析出させる。 - 特許庁

The antenna weight processing part 140A calculates the antenna weight w^*_1-w^*_R using the optimization algorithm at a state that the calculated equalization weight c^*_0-c^*_M are held in a feedforward part 120A.例文帳に追加

アンテナウェイト処理部１４０Ａは、算出された等化ウェイトｃ^*_0〜ｃ^*_Mがフィードフォワード部１２０Ａにおいて保持された状態で、最適化アルゴリズムを用いてアンテナウェイトｗ^*_1〜ｗ^*_Rを算出する。 - 特許庁

Before bend forming is performed on the workpiece W with the hole part A, formed part or the like hear the bending line M, a designated groove G is formed in the bending line M position.例文帳に追加

曲げ線Ｍの近傍に穴部Ａ、成形部等を有するワークＷに対して曲げ加工を行う前に、該曲げ線Ｍ位置に、所定の溝Ｇを加工する。 - 特許庁

The saw wire has a wire diameter of 0.05 to 0.30 mm, and a residual amount of a wire-drawing lubricant m (lubricant residual) attaching to the surface of the wire w is 15 to 40 mg/m^2.例文帳に追加

線径が０．０５〜０．３０ｍｍで、ワイヤｗ表面に付着した、伸線潤滑剤ｍの残留量（残留潤滑剤量）が１５〜４０ｍｇ／ｍ^２ であるソーワイヤ。 - 特許庁

In the apparatus for manufacturing a silica crucible comprising a carbon mold for manufacturing the silica crucible by a rotating mold method, the carbon mold has thermal conductivity of not more than 125 W/(m×K).例文帳に追加

回転モールド法により石英ルツボを製造するためのカーボン製モールドを有する石英ルツボ製造装置であって、前記カーボン製モールドは、熱伝導率が１２５W/(m・K)以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The fabric reducing the load of exercise has an increasing rate of friction coefficient of 100% or less when applied with moisture on at least one side surface thereof, and has a contact cool feeling value of 240 W/m^2×°C or less when applied with moisture of 200 g/m^2.例文帳に追加

少なくとも一方の面の水分付与時の摩擦係数増加率が１００％以下であり、かつ、２００ｇ／ｍ^２水分付与時の接触冷感値が２４０Ｗ／ｍ^２・℃以下であることを特徴とする運動負荷軽減布帛。 - 特許庁

The exposure system is equipped with a lighting system (1 to 9) illuminating a mask (M), and a projection optical system (PL) which projects the image of a pattern provided on the mask (M) onto a photosensitive substrate (W) for exposure.例文帳に追加

マスク（Ｍ）を照明する照明系（１〜９）と、マスクのパターン像を感光性基板（Ｗ）上に投影露光する投影光学系（ＰＬ）とを備えた露光装置。 - 特許庁

If an electronic watermark embedding part 202 reads out the data for embedding X(i) from the storage device 122, it divides the read out data for embedding X(i) to create m pieces of divided data W(i, j) (j=1, 2, ..., m).例文帳に追加

電子透かし埋め込み部２０２は、埋め込み用データＸ（ｉ）を記憶装置１２２から読み取ると、読み取った埋め込み用データＸ（ｉ）を分割してｍ個の分割データＷ（ｉ，ｊ）（ｊ＝１，２，・・・，ｍ）を生成する。 - 特許庁

In interpolating operation 21 using a 3D-LUT, conversion to outputs K, Lk, C_UCR, M_UCR, and Y_UCR corresponding to eight grating points (points W, Y, M, R, C, G, B, and K) of C_0M_0Y_0, is performed.例文帳に追加

３Ｄ−ＬＵＴを用いた補間演算２１では、Ｃ_０Ｍ_０Ｙ_０の８格子点（点Ｗ，Ｙ、Ｍ，Ｒ，Ｃ，Ｇ，Ｂ，Ｋ）に対応する出力Ｋ、Ｌｋ、Ｃ＿ＵＣＲ、Ｍ＿ＵＣＲ、Ｙ＿ＵＣＲに変換する。 - 特許庁

As the woven fabric of an inorganic fiber, use is made of the one formed of a fiber comprising a highly heat-conductive substance consisting of an insulating inorganic material that has a heat conductivity of ≥20 W/m×K.例文帳に追加

無機繊維織布として、熱伝導率が２０W／m・K以上である絶縁性無機材料からなる高熱伝導性物質を含む繊維から形成されるものを用いる。 - 特許庁

The M^2 may be also at least one selected from rare-earth elements In, Pd, Sb, Ti, As, Al and Ga, and the M^3 may be also at least one selected from Si, Ge, Ti, Mo, W, Pt and Zr.例文帳に追加

Ｍ^２は希土類元素、Ｉｎ，Ｐｄ，Ｓｂ，Ｔｉ，Ａｓ，Ａｌ，Ｇａの中から選ばれる少なくとも一種、Ｍ^３はＳｉ，Ｇｅ，Ｔｉ，Ｍｏ，Ｗ，Ｐｔ，Ｚｒの中から選ばれる少なくとも一種からなるものであってもよい。 - 特許庁

An estimation matrix storage part 17 prestores estimation matrixes W_1, W_2, to W_M predetermined by M types of light sources to be used for providing an illuminating environment.例文帳に追加

推定行列格納部１７は、照明環境を提供するために用いられ得るＭ種類の光源毎に予め定められた推定行列Ｗ_１，Ｗ_２，・・・，Ｗ_Ｍを予め格納する。 - 特許庁

The cleaning device is equipped with an ultrasonic wave atomization device 1 which atomizes the cleaning liquid W into the mist M by ultrasonic vibration, and a supply portion 5 which supplies the mist M atomized by the ultrasonic wave atomization device 1 to the surface of the material H.例文帳に追加

洗浄装置は、洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭに霧化する超音波霧化機１と、この超音波霧化機１で霧化されたミストＭを被洗浄物Ｈの表面に供給する供給部５とを備える。 - 特許庁

The sealing amount M (mg/cc) of iron as the sealing material is set to a value which satisfies the relation of 0.001<M<0.15 relative to the capacity of the discharge space 10 when the lamp input per unit length is 50-160 W/cm.例文帳に追加

封入物である鉄の封入量Ｍ（ｍｇ／ｃｃ）を、単位長さ当たりのランプ入力が５０〜１６０Ｗ／ｃｍがあるとき、放電空間１０の容積に対して、０．００１＜Ｍ＜０．１５の関係になる値に設定した。 - 特許庁

The irradiation object W with a photoresist R applied to a mask M is placed on the stage 21 with a side of the mask M in close contact with the light incident section 32 of the liquid-proof member 30.例文帳に追加

マスクＭ上にレジストＲを塗布した被照射物Ｗはステージ２１に載置され、被照射物ＷのマスクＭ側が防液部材３０の光入射部３２に密接するように配置される。 - 特許庁

(2) The sputtering target according to (1) further includes (M) and O, (wherein (M) represents at least one element selected from among Mg, Al, Si, Cr, Co, Ti, Ge, Y, Zr, Ta, W and rare earth elements).例文帳に追加

（２）更にＭとＯを含む（１）記載のスパッタリングターゲット（但し、ＭはＭｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｇｅ、Ｙ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｗ、希土類元素から選ばれる少なくとも１つの元素）。 - 特許庁

The pair of leg parts 23 and 23 of the male member 2 are formed with insertion holes 28 for easy-operation string body W', which are provided in an object M to be used respectively so that the clasp T is engaged with the object M.例文帳に追加

雄部材２の一対の脚部２３、２３にそれぞれ、留め具Ｔを使用対象物Ｍに係留させるように使用対象物Ｍに備え付けられる易操作用紐状体Ｗ’の挿通穴２８が形成してある。 - 特許庁

The thermally conductive emulsion is used as a high thermally conductive coating agent or adhesive, and shows high thermal conductivity of ≥5 W/m×K.例文帳に追加

本発明に係る熱伝導性エマルジョンは、高熱伝導性コート剤または接着剤として使用されるが、5W／m・k以上といった高い熱伝導性を示す。 - 特許庁

The mold M is immersed in the washing liquid W housed in a washing tank B to be washed in order to remove adherends adhering to the outer surfaces 1b and 2b and a vapor hole 22 of the mold M.例文帳に追加

洗浄槽Ｂに収容された洗浄液Ｗ内に成形型Ｍを所定時間浸漬させて、前記成形型Ｍの外面１ｂ，２ｂ、及び蒸気孔２２に付着した各付着物を除去すべく洗浄する。 - 特許庁

Even after wear of forming tool 1, an angle between the tool axis M and the central axis of the work W, i.e., a tool relative angle, maintains the inclination angle θ0 of the tool axis M and there is no need to correct the position of the tommy bar 5 or the like.例文帳に追加

総型工具１の摩耗後でも、工具軸ＭとワークＷの中心軸の角度すなわち工具相対角度が工具軸Ｍの傾斜角度θ_0 を維持し、カンザシ５等の位置を修正する必要はない。 - 特許庁

This prevents application of a residual pressure of a M/C (master cylinder) pressure generated in an M/C 13a to the W/Cs 14b, 15b of the driving rear wheels RL, RR, thus prevents the vehicle from becoming unstable.例文帳に追加

このため、そのときにＭ／Ｃ１３ａ内に発生しているＭ／Ｃ圧の残圧が駆動輪となる後輪ＲＬ、ＲＲのＷ／Ｃ１４ｂ、１５ｂに加えられないようにすることができ、車両が不安定になることを防止することが可能となる。 - 特許庁

The pattern drawing device includes n light sources 41 and m (m=n-1) optical units 32 that deform pulse beams emitting from the light sources 41 into a prescribed pattern to irradiate the surface of a substrate W with the deformed beams.例文帳に追加

パターン描画装置は、ｎ個の光源４１と、光源４１から入射されたパルス光を所定のパターン形状に変形して基板Ｗの表面に照射するｍ個（ｍ＝ｎ−１）の光学系ユニット３２とを備える。 - 特許庁

In the cleaning method; cleaning liquid W is atomized into mist M by ultrasonic vibration, and the mist M is supplied to the surface of the material H for cleaning the material H.例文帳に追加

洗浄方法は、洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭとし、このミストＭを被洗浄物Ｈの表面に供給して被洗浄物Ｈを洗浄する。 - 特許庁

The element M is at least one kind of element selected from the group consisting of B, Na, Mg, Al, Si, S, P, K, Ca, Mo, W, Cr, Mn, Co, Ni, and Fe.例文帳に追加

０＜ M/Ti ≦０．５ (I) １≦ Nb/Ti ≦５ (II) 前記元素Ｍは、Ｂ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｐ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ及びＦｅから成る群から選択される少なくとも１つである。 - 特許庁

Suction information groups 19 are provided in which designated values of suction positions Q being stopping positions at the time of sucking plate material parts M cut out with a plate processing machine 1 are set for each of the parts M in each blank material W.例文帳に追加

板材加工機１により切り出された板材部品Ｍを吸着するときの停止位置である吸着位置Ｑの指定値を、１枚の素材板材Ｗ毎の各板材部品Ｍについて定めた吸着情報群１９を設ける。 - 特許庁

When the distance between adjacent nozzles, and the contact angle between the discharged liquid and the substrate are denoted by l [m] and ϕ, respectively, the discharge volume W [m^3] of the liquid drops satisfies a numeric expression 1.例文帳に追加

隣接ノズル間距離をl［ｍ］、吐出した液体と基板との接触角をφとするとき、液滴の吐出体積Ｗ[ｍ^３]が以下の式を満たすものとする。 - 特許庁

The method for removing ethylene gas using fine water droplets by electrostatic atomization includes: subjecting water W to electrostatic atomization so as to generate fine water droplets by electrostatic atomization M containing active species; and making the active species falling in the fine water droplets by electrostatic atomization M react with the ethylene gas so as to decompose the ethylene gas into carbon dioxide and water.例文帳に追加

水Ｗを静電霧化して、活性種を含む帯電微粒子水Ｍを生成し、前記帯電微粒子水Ｍに含まれる活性種とエチレンガスを反応させ、二酸化炭素と水に分解する。 - 特許庁

The sportswear is such that the contact cold sense value of at least part of a skin-side surface layer when having moisture of 200 g/m^2 is ≤240 W/(m^2°C).例文帳に追加

少なくとも一部の肌側表面層の２００ｇ／ｍ^2水分付与時の接触冷感値が２４０Ｗ／ｍ^2・℃以下であることを特徴とするスポーツウエア。 - 特許庁

A glass substrate W coated with a photosensitive agent Pa is mounted on a substrate stage 20; and the glass substrate W is exposed through a mask M while varying energy irradiating the glass substrate W so that the photosensitive agent Pa forms three resist layers R, G, B in different thicknesses.例文帳に追加

感光剤Ｐａが塗布されたガラス基板Ｗを基板ステージ２０に載置し、感光剤Ｐａが厚さの異なる３つのレジスト層Ｒ，Ｇ，Ｂを形成するように、ガラス基板Ｗに照射されるエネルギーを変えながらマスクＭを介してガラス基板Ｗを露光する。 - 特許庁

A mask stage 23 that mounts a mask M, a wafer stage 25 that mounts a wafer W, a focusing mechanism 26 that detects the surface position information of the wafer W, and adjustment means 27 and 42 that adjust the surface position of the wafer W based on the detected result of the focusing mechanism 26 are provided.例文帳に追加

マスクＭを載置するマスクステージ２３と、ウエハＷを載置するウエハステージ２５と、ウエハＷの面位置情報を検出する合焦機構２６と、合焦機構２６の検出結果に基づいてウエハＷの面位置を調整する調整手段２７，４２とを備える。 - 特許庁

The exposure of the glass substrate W is conducted by continuously conveying the glass substrate W with a substrate conveying mechanism 10 and making irradiation portions 13 emit pulsed light in synchronization with coincidence of the black matrix layers BM of the glass substrate W and the mask patterns 51 of a mask M.例文帳に追加

このガラス基板Ｗの露光は、基板搬送機構１０によってガラス基板Ｗを連続搬送しながら、ガラス基板Ｗのブラックマトリクス層ＢＭと、マスクＭのマスクパターン５１との一致に同期させて、照射部１３をパルス発光させて行う。 - 特許庁

A mask M held by exposure mechanisms 3A and 3B is brought into contact with a substrate W held by substrate holder mechanisms 3A and 3B of exposure processing parts 1A and 1B of an automatic exposure device and the substrate W is automatically exposed to a specified pattern through the mask W.例文帳に追加

自動露光装置１の各露光処理部１Ａ，１Ｂの基板ホルダ機構３Ａ，３Ｂに保持された基板Ｗに、各露光機構５Ａ，５Ｂに保持されたマスクＭを接触させ、このマスクＭを通して基板Ｗ上に所定のパターンを自動的に露光処理する。 - 特許庁

The substrate holding means 13 holds the substrate W so that the film deposition face Wa in the substrate W is almost vertically held, and is provided with driving means relatively moving the substrate W and the mask member M to the film deposition gas G ejected from the gas feeding means 20, and a temperature control means.例文帳に追加

基板保持手段２０は、基板Ｗの成膜面Ｗａが略垂直に保たれるように基板Ｗａを保持すると共に、ガス供給手段２０から噴き出される成膜ガスＧに対して基板Ｗおよびマスク部材Ｍを相対的に移動させる駆動手段や温度調整手段を備えている。 - 特許庁

When the projecting strips 6 of a wheel W are fitted into the recessed grooves M2 of the moving passage M, a braking body 4 is brought into contact with the road surface M1 of the moving passage M, and also an auxiliary wheel 5 is fitted into the recessed grooves M2 of the moving passage M.例文帳に追加

車輪Ｗの凸条６が移動通路Ｍの凹条溝Ｍ2 に嵌り込んだときに、制動体４を移動通路Ｍの路面Ｍ1 に接触するようにすると共に、補助輪５を移動通路Ｍの凹条溝Ｍ2 に嵌り込むようにしている。 - 特許庁

The marking device 1 forming the identification mark M on the work W having a grip possible area H includes a gripping arm 6 gripping the work W in a grip-possible area H; and a marking grip 6b provided at the gripping arm 6 to grip the work W, and forming at least a part of the identification mark M at a gripping position.例文帳に追加

把持可能領域Ｈを有するワークＷに識別マークＭを形成するマーキング装置１であって、把持可能領域ＨにおいてワークＷを把持する把持アーム部６と、把持アーム部６に設けられ、ワークＷを把持するとともに、把持した位置に識別マークＭの少なくとも一部を形成するマーキング把持部６ｂと、を備えるものを用いる。 - 特許庁

This processing method is one which removes fine particles adhering to the surface, while physically bringing particles X into contact with the surface W of many sheets of semiconductor wafers W soaked and stored in immersed form in treatment liquid M, making use of high-speed shower and bubbles arising in the treatment liquid M while sending gas into the treatment liquid M where the particles X are mixed.例文帳に追加

粒子Ｘを混入させた処理液Ｍ中に気体を送り込みながら、それにより処理液Ｍ中に発生す高速シャワー並びに泡を利用して、処理液Ｍ中に没入状に浸漬収容されている多数枚の半導体材料Ｗの表面に前記粒子Ｘを物理的に接触させながら、該表面に付着している微粒子を取り除くようにしたことである。 - 特許庁

A relay server device 10 acquires web data W, including moving image data (video contents) M to be provided by a WWW server device 20, embeds a control code C, constituted of scripts or byte codes in the web data W for preparing web data W' for linking, and distributes the web data W' to each client device 30.例文帳に追加

中継サーバ装置１０は、ＷＷＷサーバ装置２０が提供する動画データ（映像コンテンツ）Ｍを含んだウェブデータＷを取得して、スクリプトやバイトコードによりなるコントロールコードＣを埋め込むことにより、連動用のウェブデータＷ’を作成し、各クライアント装置３０へ配信する。 - 特許庁

In the steering device provided with an actuator M capable of controlling a wheel steering angle ϕ of the wheels W, W in the vehicle, the wheel steering angle ϕ is controlled based on a wheel steering angle ϕ1 at at least returning of the wheel and a phenomenon that the wheels W, W are returned to a neutral position by self aligning torque is duplicated at returning of the wheel.例文帳に追加

車両における車輪Ｗ，Ｗの車輪操舵角φを制御可能なアクチュエータＭを備えたステアリング装置において、車輪戻り時に、少なくとも車輪戻り時の車輪操舵角φ１に基づいて車輪操舵角φを制御して、セルフアライニングトルクにより車輪Ｗ，Ｗが中立位置に戻される現象を再現するようにした。 - 特許庁

Here is the full list of supported escapes: % the escape character itself a either 'am' or 'pm' A either 'AM' or 'PM' c current time HH:MM in 24h format C current time HH:MM in 12h format d day number D weekday name f flags of the window F sets %? to true if the window has the focus h hardstatus of the window H hostname of the system l current load of the system m month number M month name n window number s seconds t window title u all other users on this window w all window numbers and names. 例文帳に追加

以下にサポートされているエスケープの完全なリストを示す:%エスケープ文字自身a\\(aqam' または 'pm' のどちらかA\\(aqAM' または 'PM' のどちらかc現在の時刻 HH:MM (24h 表記)C現在の時刻 HH:MM (12h 表記)d月内日D曜日fウィンドウのフラグFウィンドウにフォーカスがあると %? を真にするhウィンドウのハードステータスHシステムのホスト名lシステムの現在の負荷 (load)m月 (数値)M月 (名前)nウィンドウ番号s秒tウィンドウのタイトルuこのウィンドウを使っている他のユーザすべてw全ウィンドウの番号と名前。 - JM

The housing made of resin is obtained from a polyphenylene sulfide resin composition having thermal conductivity in the thickness direction of 4 W/m×K or more measured by laser flash method, preferably from a polyphenylene sulfide resin composition comprising polyphenylene sulfide, carbon fibers having thermal conductivity of 100 W/m×K or more, and metallic silicon powders, and is suitably used especially for portable apparatuses.例文帳に追加

レーザーフラッシュ法により測定した厚み方向の熱伝導率４Ｗ／ｍ・Ｋ以上のポリフェニレンスルフィド樹脂組成物、好ましくはポリフェニレンスルフィド、１００Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導率を有する炭素繊維及び金属ケイ素粉末からなるポリフェニレンスルフィド樹脂組成物よりなり、特に携帯機器用として好ましく用いることが出来る樹脂製筐体。 - 特許庁

When a difference between the dynamic torque of the developing device 23 storing the developer G and the dynamic torque of the development device 23 containing no developer G is W(kgf cm) and the mass of toner in the developer G in the development device 23 is M(g), the relationship expressed by W/M≤0.04 is established.例文帳に追加

そして、現像剤Ｇが収納された状態における現像装置２３の動トルクと現像剤Ｇが収納されていない状態における現像装置２３の動トルクとの差をＷ（ｋｇｆ・ｃｍ）とし、現像装置２３内における現像剤Ｇ中のトナーの質量をＭ（ｇ）としたときに、Ｗ／Ｍ≦０．０４なる関係が成立するように構成する。 - 特許庁

In a grid computing system 100, a master M generates a job group by binding jobs (for example, analytic programs) whose execution time is short by the number of jobs calculated based on the processing performance of a worker W at the destination of allocation and a communication time between master M/worker W, and inputs the job group to the destination of allocation.例文帳に追加

グリッドコンピューティングシステム１００では、マスタＭが、実行時間の短いジョブ（例えば、解析用プログラム）を、割当先のワーカＷの処理性能およびマスタＭ／ワーカＷ間の通信時間をもとに求めたジョブ数で束ねたジョブ群を生成し、そのジョブ群を割当先に投入する。 - 特許庁

This hydrogen storage powder is the aggregate of a particle 1, at least a part of the surface of which comprises a metal oxide MxOy (wherein, x is the number of a metal atoms M and is ≥1; and y is the number of oxygen atoms O and is <w when the stoichiometric number of oxygen atoms in the chemical bond of atoms M and O is defined as w).例文帳に追加

水素貯蔵粉末は，少なくとも表面の一部が金属酸化物ＭｘＯｙよりなる粒子１の集合体であって，金属原子Ｍの数ｘがｘ≧１であり，また酸素原子Ｏの数ｙが，金属原子Ｍと酸素原子Ｏとの化学結合における化学量論に基づく酸素原子Ｏの数をｗとしたとき，ｙ＜ｗである。 - 特許庁