「M[[w]]」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

In the plastic working method in which a mandrel M is arranged on the spindle 3, a workpiece W is fit outside this mandrel M and drawing is applied to the workpiece W with a drawing roller, when the work is performed with a drawing roller R1 for working, the starting point of the work is pressed and supported with a drawing roller R2 which is a different roller.例文帳に追加

主軸３にマンドレルＭを配設し、このマンドレルＭにワークＷを外嵌し、絞りローラによってワークＷに絞り加工を施す塑性加工方法において、加工用の絞りローラＲ１による加工の際に、別のローラである絞りローラＲ２によって加工開始点を押圧支持する。 - 特許庁

In the Japanese horseradish type antibacterial deodorization method, the Japanese horseradish gas is generated by mixing the Japanese horseradish solution W and the water M inside the container 30 and the Japanese horseradish gas is forcibly emitted from the container 30 to the outside by introducing air to the liquid mixture of the Japanese horseradish solution W and the water M.例文帳に追加

また、容器３０内でワサビ溶液Ｗと水Ｍとを混合させることによりワサビガスを発生させ、ワサビ溶液Ｗと水Ｍとの混合液に空気を導入することによりワサビガスを容器３０から外部に強制的に放出するワサビ式抗菌脱臭方法である。 - 特許庁

The proximity scanning exposure apparatus 1 is equipped with a plurality of air pads 23, 24, 25a, 25b that float and support the substrate W, and the air pad 25a opposing to the mask M in the plurality of air pads 23, 24, 25a, 25b is larger than the exposure region of the mask M.例文帳に追加

近接スキャン露光装置１は、基板Wを浮上させて支持する複数のエアパッド２３，２４，２５ａ，２５ｂを備え、複数のエアパッド２３，２４，２５ａ，２５ｂのうち、マスクＭと対向配置されるエアパッド２５ａは、マスクＭの露光領域より大きい。 - 特許庁

This electronic book device includes: an electronic book terminal M equipped with a display D; and an input device A having a square frame-shaped optical waveguide W for outputting information input to the frame of the optical waveguide W to the electronic book terminal M, and for displaying the information on the display D.例文帳に追加

ディスプレイＤを備えた電子書籍端末Ｍと、四角枠状の光導波路Ｗを有し、その光導波路Ｗの枠内に入力した情報を上記電子書籍端末Ｍに出力して上記ディスプレイＤに表示する入力装置Ａとを備えている。 - 特許庁

This invention relates to a high molecular-weight copolymer comprising ethylene unit and propylene unit, having 1-10 wt.% ethylene content, and having a melt flow rate (MFR) (230/5) of <5 dg/minute and molecular weight distribution M_w/M_n of 6-20.例文帳に追加

本発明は、エチレン単位およびプロピレン単位を含み、１〜１０重量％のエチレン含量を有し、＜５ｄｇ／分のメルトフローレートＭＦＲ（２３０／５）および６〜２０の分子量分布Ｍ_w／Ｍ_nを有する、高分子量コポリマーに関する。 - 特許庁

In the general formula (1), the Au denotes a monovalent or tervalent gold ion; the W denotes a compound selected from ones represented by specified general formulae; the dotted line denotes the fact that the W is coordinately bonded to the Au; the X denotes a monovalent anion; and the (m) denotes an integer of 1 to 3.例文帳に追加

一般式（１） Ｗ…ＡｕＸ_m（一般式（１）において、Ａｕは１価もしくは３価の金イオンを表し、Ｗはある特定の一般式より選ばれる化合物である。点線は、ＷがＡｕに配位結合していることを表す。Ｘは１価のアニオンを表し、ｍは１から３の整数を表す。） - 特許庁

Heater members 1 and 1A include a base material 3 with the thermal conductivity of 5.0 W/m×K or more, a heat source 2 for heating the base material 3, and amorphous carbon films 4 and 5 with the thermal conductivity of 0.5 W/m×K or less for coating at least one part of the base material 3.例文帳に追加

ヒーター用部材１、１Ａは、熱伝導率が５．０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の基材３、基材３を加熱する熱源２、および基材３の少なくとも一部を被覆する、熱伝導率０．５Ｗ／ｍ・Ｋ以下のアモルファス炭素膜４、５を備えている。 - 特許庁

The low relative dielectric constant heat transfer layer 23 has relative dielectric constant of ≤4 in 50-60 Hz measured frequency, thermal conductivity of ≥2 W/(m K) in the thickness direction, and thermal conductivity of ≥0.35 W/(m K) in the thickness direction of the electrical insulating member as a whole.例文帳に追加

また、低比誘電率熱伝導層２３の、測定周波数が５０〜６０Ｈｚにおける比誘電率が４以下、かつ厚さ方向の熱伝導率が２Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、電気絶縁部材全体における厚さ方向の熱伝導率が０．３５Ｗ／ｍ・Ｋ以上である。 - 特許庁

When a W/C pressure does not follow an M/C (master cylinder) pressure, differential pressure control valves 16, 36 are controlled to a communication condition, so that a path R1 communicating to a main line A is included in a supply path of braking liquid from M/C 13 to W/C 14, 15, 34, 35.例文帳に追加

Ｍ／Ｃ圧に対してＷ／Ｃ圧が追従していないとき、差圧制御弁１６、３６を連通状態に制御することで主管路Ａを通じる経路Ｒ１をＭ／Ｃ１３からＷ／Ｃ１４、１５、３４、３５へのブレーキ液の供給経路に含めるようにしている。 - 特許庁

This resin composition comprises 59.9-90 vol.% of at least one kind selected from the group consisting of a polyurethane elastomer, a polyester elastomer and a polyamide elastomer, 0.1-5 vol.% of a processing auxiliary including polytetrafluoroethylene and 5-40 vol.% of a filler and has 0.4-2.0 W/m.°C coefficient of thermal conductivity at a room temperature.例文帳に追加

ポリウレタンエラストマー、ポリエステルエラストマー、及び、ポリアミドエラストマーからなる群より選ばれる少なくとも１種 59.9〜90体積％、 ポリテトラフロロエチレンを包含する加工助剤 0.1〜5 体積％、及び 充填剤 5〜40体積％ を含み、室温における熱伝導率が0.4〜2.0 W／m・℃である樹脂組成物。 - 特許庁

The film formation device is provided with: a vacuum tank 11 having an N2 gas introduction means; hearths 31, 31 for M (M denotes Ti or Cr) or for Al; hollow cathode-shaped electron guns 20, 20; an electron beam source; a bias source for workpieces W, W, ...; a mass analyzer 50; and a compositional ratio control system.例文帳に追加

Ｎ2 ガスの導入手段を有する真空槽１１と、Ｍ（Ｍは、Ｔi またはＣr ）用、Ａl 用のハース３１、３１と、ホローカソード形の電子銃２０、２０と、電子ビーム電源と、ワークＷ、Ｗ…用のバイアス電源と、質量分析計５０と、組成比制御系とを設ける。 - 特許庁

When defined that M (mg/cc) is the volume of mercury, 9.9≥M≥7.7 is fulfilled, and 25-100 atom% of excessive halogen against the halogen contained in the metal halide is enclosed, here, the tube voltage is 200 V, class and the tube output power is 2000 W class - 3000 W class.例文帳に追加

水銀の量をＭ（ｍｇ／ｃｃ）としたとき、９．９≧Ｍ≧７．７であり、過剰のハロゲンが、ハロゲン化金属に含まれるハロゲンの２５〜１００原子％封入され、管電圧２００Ｖ級で管電力２０００Ｗ級〜３０００Ｗ級とした。 - 特許庁

Next, the liquid crystal glass substrate W is energized to the mask M to prevent the positional deviation by pressing the back side of the liquid crystal glass substrate W on the mask M by a plurality of pressing pins 5 passed through a plurality of apertures Ha made in the holder H, respectively.例文帳に追加

次に、マスクＭ上の液晶ガラス基板Ｗの裏面をホルダＨに設けた複数の開口Ｈａにそれぞれ挿通させた複数の押付ピン５によって押圧することによって、液晶ガラス基板ＷをマスクＭに対して付勢して位置ずれを防止する。 - 特許庁

In the method of plastic working in which drawing is applied to a workpiece W with drawing rollers R by arranging a mandrel M on the spindle 3 and fitting the workpiece W on the mandrel M, the load value of the spindle 3 is measured and the working speed is controlled on the basis of the measured load value.例文帳に追加

主軸３にマンドレルＭを配設し、該マンドレルＭにワークＷを外嵌し、絞りローラＲによってワークＷに絞り加工を施す塑性加工方法において、主軸３の負荷値を計測し、計測した負荷値に基づいて加工速度を制御する。 - 特許庁

When the long workpiece W is cut at predetermined intervals, lengths M of the end materials produced from the long workpiece W at given stages for cutting work are calculated and portions corresponding to the lengths M of the end materials are cut at the given stages for cutting work.例文帳に追加

長尺材Ｗを所定間隔で切断する際に、切断作業の所定段階に長尺材Ｗに生じる端材長さＭを算出し、該切断作業の所定段階に前記端材長さＭに相当する分を切断するものである。 - 特許庁

Where a cut point crossed with the linear cutting edge 10 on the outer peripheral surface of the work W is m, the cut point m is moved continuously also in the work axial direction Q for feed F to cut the outside diameter of the work W so as to form a cut-finished surface with high surface roughness accuracy.例文帳に追加

ワークＷの外周面上で直線状の切れ刃１０が交差する点を切削点ｍとすると、送りＦのために切削点ｍがワーク軸線方向Ｑにも連続的に移動して、ワークＷの外径が切削されて表面粗さ精度の高い切削仕上げ面が形成される。 - 特許庁

The white filler includes, as a first filler, alumina having a thermal conductivity of 10 W/m K or higher and a purity of 99.8% or higher, or crystalline silica having a thermal conductivity of 10 W/m K or higher and a purity of 99.8% or higher.例文帳に追加

上記白色フィラーは、第１のフィラーとして、熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、かつ純度が９９．８％以上であるアルミナを含むか、又は熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、かつ純度が９９．８％以上である結晶性シリカを含む。 - 特許庁

Secondly, the liquid crystal glass substrate W is pressed against the mask M to prevent any positional deviation by pressing the back side of the liquid crystal glass substrate W on the mask M by a plurality of pressing pins 5 respectively inserted in a plurality of apertures Ha made in the holder H.例文帳に追加

次に、マスクＭ上の液晶ガラス基板Ｗの裏面をホルダＨに設けた複数の開口Ｈａにそれぞれ挿通させた複数の押付ピン５によって押圧することによって、液晶ガラス基板ＷをマスクＭに対して付勢して位置ずれを防止する。 - 特許庁

First/second generators G_1, G_2 driven by an engine E are provided, where a battery 4 supplying electric power to electrical equipment is charged with the first generator G_1, and electric power is directly supplied from the second generator G_2 to motors M_L, M_R to assist starting of drive of the rear wheels W_RL, W_RR.例文帳に追加

エンジンＥにより駆動される第１ジェネレータＧ_1 および第２ジェネレータＧ_2 を設け、電装品に給電するバッテリ４を第１ジェネレータＧ_1 で充電するとともに、後輪Ｗ_RL，Ｗ_RRを駆動する発進アシスト用のモータＭ_L ，Ｍ_R に第２ジェネレータＧ_2 から電力を直接給電する。 - 特許庁

The signature generation apparatus for generating a signature for a message m from the i-th user includes a plurality of sub-IPs 302 within the IP core 301 so that any two or three of a[1]^μ[x](mod n), a[2]^μ[s](mod n), and w^μ[t](mod l) are calculated in parallel.例文帳に追加

署名生成装置は、i番目のユーザによるメッセージmに対する署名を生成するものであり、a[1]^μ[x] (mod n)と、a[2]^μ[s] (mod n)と、w^μ[t] (mod l)と、の、いずれか２つもしくは３つを並列に計算するように、ＩＰコア３０１内に複数のサブＩＰ３０２を備える。 - 特許庁

In a method positioning a component W at a prescribed position, the component W supported relatively slidably on a support surface M is made to abut on reference surfaces 5, 6 and 7 for positioning the component W to be slid relatively on the support surface W, thereby arrange, the component W along the reference surfaces 5, 6 and 7.例文帳に追加

本発明は、部品Ｗを所定位置に位置決めする部品の位置決め方法において、前記部品Ｗを相対滑動可能に支持する支持面Ｍに支持された前記部品Ｗを、前記部品Ｗの位置決めの基準となる基準面５、６、７に当接させ、前記部品Ｗと前記支持面Ｍとを相対滑動させることによって、前記部品Ｗを前記基準面５、６、７に沿わせることを特徴とする。 - 特許庁

To manufacture a W-type ferrite compound containing a less amount of a spinel compound and a M-type ferrite compound in manufacturing an anisotropic W-type hexagonal ferrite.例文帳に追加

異方性のＷ型６方晶フェライトを製造するさいに、スピネル化合物およびＭ型フェライト化合物の含有量の少ないＷ型フェライト化合物を製造する。 - 特許庁

The brushless DC motor M is started up by switching-on the specified switching elements U+, W- that correspond to the specified coils 37(U), 37(W).例文帳に追加

そしてブラシレス直流モータＭを始動するときに、前記特定のコイル３７（Ｕ），３７（Ｗ）に対応する前記特定のスイッチング素子Ｕ＋，Ｗ−をオンさせて始動を行う。 - 特許庁

When the first determination means determines possibility of collision of the vehicle, a first pre-tensioner 1 having a motor M rotates a spindle 31 wrapped around with one end of a webbing W in a direction for drawing-in the webbing W.例文帳に追加

第１判定手段１４が車両の衝突の可能性を判定すると、モータＭを有する第１プリテンショナー１は、ウェビングＷの一端が巻回されたスピンドル３１をウェビングＷを引き込む方向に回転する。 - 特許庁

In the nitrogen-containing metal powder, the ratio W/S of the amount of contained nitrogen W[ppm] to the specific surface area S[m^2/g] measured by the BET method is 500-3,000.例文帳に追加

窒素を含有する金属の粉末であり、含有する窒素量Ｗ［ｐｐｍ］と、ＢＥＴ法により測定された比表面積Ｓ［ｍ^２／ｇ］との比Ｗ／Ｓが、５００〜３０００である。 - 特許庁

The quantity M of irradiation light is measured by the sensor array 2 having a width W while the sensor array 2 is moved at feed pitches P smaller than the width W of the sensor array 2 from a boundary of the irradiated surface.例文帳に追加

幅Ｗのセンサアレイ２を照射面の境界からセンサアレイ２を幅Ｗより小さな送りピッチＰ毎に移動しながらセンサアレイ２で照射されている光量Ｍを測定する。 - 特許庁

The powder is that of the nitrogen-containing metal, and the ratio between the amount of contained nitrogen W [ppm] and the specific surface area S [m^2/g] measured by the BET method, W/S ranges from 500 to 3000.例文帳に追加

窒素を含有する金属の粉末であり、含有する窒素量Ｗ［ｐｐｍ］と、ＢＥＴ法により測定された比表面積Ｓ［ｍ^2/ｇ］との比Ｗ／Ｓが、５００〜３０００である。 - 特許庁

A photomask M and a work W placed close and parallel to each other are exposed while both are integrally moved in the direction where the optical axis of light exiting from a light source 2 intersects the normal line of the surface of the work W.例文帳に追加

フォトマスクＭとワークＷとを互いに平行に近接配置した状態で、光源２から出射した光の光軸とワークＷの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させて露光を行う。 - 特許庁

To provide an isoolefin-multiolefin copolymer having a multiolefin content above 2.5 mol%, M_w above 240 kg/mol, and a gel content below 1.2 mass%.例文帳に追加

２.５ｍｏｌ％を超えるマルチオレフィン含有量、２４０ｋｇ／ｍｏｌを超えるＭ_wおよび１.２質量％未満のゲル含有量を有するイソオレフィン・マルチオレフィンコポリマーを提供する。 - 特許庁

When applied for the extensometer or the width meter, the mark bodies M are bonded to the test piece W, and an error caused by motion from an initial test start of a test piece W is corrected based on the three-dimensional position information.例文帳に追加

伸び計または幅計に応用する場合には、試験片Ｗにマーク体Ｍを貼着し、その３次元位置情報から、試験片Ｗの試験開始当初からの移動による誤差を補正する。 - 特許庁

The network part 16 operates predetermined processing to the three-dimensional data x_m based on parameters w_nm, w_pn, θ_n and θ_p set by a parameter setting part 18.例文帳に追加

ネットワーク部１６は、この３次元データｘ_ｍに対して、パラメータ設定部１８から設定されるパラメータｗ_ｎｍ，ｗ_ｐｎ，θ_ｎおよびθ_ｐに基づいて所定の処理を施す。 - 特許庁

The sound absorbing sheet is suspended inside or outside a sound insulation wall W or instead of the sound insulation wall W in a curtain-like manner to shield a space H from a noise source M, whereby sound insulation is performed.例文帳に追加

吸音シートは、防音壁Ｗの内部若しくは防音壁Ｗの外部に、又は防音壁Ｗに代えて、カーテン状に吊り下げ、騒音源Ｍに対する空間Ｈを遮断することにより防音を行う。 - 特許庁

An entrance management gate machine 10 includes a housing 11 which is provided along a passageway W which a management target person M who makes entrance passes, and a door 51 which is provided at a side of the passageway W of the housing 11 so as to be freely opened/closed.例文帳に追加

入場管理ゲート機１０は、入場する管理対象者Ｍが通過する通路Ｗに沿って設けられる筐体１１と、筐体１１の通路Ｗ側に開閉自在に設けられた扉５１とを備える。 - 特許庁

On the surface of the plate material W consisting of a highly brittle material, an outer peripheral part is exposed and a member corresponding with small pieces P cut from the plate material W is covered with a masking material M in a masking step.例文帳に追加

高脆性材料からなる板材Ｗの表面には、板材Ｗから切り出される小片Ｐに対応する部分がその外周部を露出させてマスキング工程においてマスキング材Ｍにより覆われる。 - 特許庁

When a plurality of predetermined positions on the substrate W are to be exposed, the work stage feeding mechanism 2 relatively moves the work stage 2 with respect to the mask stage 1 while keeping the exposure gap between the substrate W and the mask M.例文帳に追加

基板Ｗ上の複数の所定位置で露光する際、ワークステージ送り機構２は、基板ＷとマスクＭとの間の露光ギャップを保持したまま、ワークステージ２をマスクステージ１に対して相対移動する。 - 特許庁

The holder H is then released with the liquid crystal glass substrate W energized to the mask M by the plurality of pressing pins 5, and the holder H is pressed against the liquid crystal glass substrate W.例文帳に追加

次に、複数の押付ピン５によって液晶ガラス基板ＷをマスクＭに対して付勢している状態で、ホルダＨの保持を解除してホルダＨを液晶ガラス基板Ｗに押し付けさせる。 - 特許庁

During a roller 351 is moving along a cam curved part 350a, an impression cylinder 31 presses a web W between the cylinder and a plate cylinder 30, and the ink IM in the printing area 30a is transferred to the web W.例文帳に追加

カム曲線部３５０ａに沿ってころ３５１が移動する間は、圧胴３１は、版胴３０との間でウェブＷを加圧しており、画線部３０ａ内のインキＩ_M がウェブＷに転移する。 - 特許庁

By a cam driving motor 33 rotating a cum plate 320 in the fixed direction C only, the die head 30 is made to approach and is separated from the web W to apply the ink IM to the web W.例文帳に追加

カム駆動用モータ３３は、カム板３２０を一定方向（Ｃ方向）に回転するだけで、ダイヘッド３０をウェブＷに接近及び離間させて、ウェブＷにインキＩ_M を塗布することができる。 - 特許庁

A CPP-GMR sensor comprises a pinning layer 400 and a current channeling layer 401, having large width W+Δ and large surface area M(W+Δ) as same as that of a lower shield/lead layer 30.例文帳に追加

下部シールド／リード層３０と同様に大きな幅Ｗ＋Δおよび大きな表面積Ｍ（Ｗ＋Δ）を有するピンニング層４００および電流チャンネル層４０１を備えるように、ＣＰＰ−ＧＭＲセンサを構成する。 - 特許庁

While a roll 351 moves along a cam curved line part 350a, a pressure cylinder 31 pressurizes a web W to a plate cylinder 30, and transfers the ink I_M in the picture element part 30a to the web W.例文帳に追加

カム曲線部３５０ａに沿ってころ３５１が移動する間は、圧胴３１は、版胴３０との間でウェブＷを加圧しており、画線部３０ａ内のインキＩ_ＭがウェブＷに転移する。 - 特許庁

This alignment table device 10 approaches toward the board material holding device 1, the exposure mask M is brought into contact with the printed board material W and, further, a supporting base 15 is moved to the direction of printed board material W.例文帳に追加

アライメントテーブル装置１０が基板材保持装置１に向けて接近し、露光マスクＭとプリント基板材Ｗが接し、更に支持ベース１５がプリント基板材Ｗ方向に移動される。 - 特許庁

The user equipment 20 selects (t) at random, computes σ=(Y/g_1^R)^1/t, α=w^t-1×h^t, β=s+L mod p and sends (m) and its blind signature (σ,α,β) to a blind signature verifying apparatus 30.例文帳に追加

利用者装置２０はｔをランダムに選択してσ=(Y/g_1^R)^1/t,α=w^t-1・h^t,β=s+L mod pを計算し、ｍとそのブラインド署名（σ，α，β）とをブラインド署名検証装置３０に送る。 - 特許庁

The feed area FL of the mixed fluid M on the substrate W is adjusted by a height H from the lower end of the double fluid nozzle 30 to the surface of the substrate W.例文帳に追加

基板Ｗ上での混合流体Ｍの供給領域ＦＬは、二流体ノズル３０の下端から基板Ｗ表面までの高さＨにより調整される。 - 特許庁

Each camera 230a reads figure information of a game token M visible through a window W while the game token passes through the window W, and outputs the read figure information to an arithmetic operation device 240.例文帳に追加

遊技メダルＭが窓Ｗを通過している間、各カメラ２３０ａは、窓Ｗから見える遊技メダルＭの図形情報を読み取り、読み取った図形情報を演算装置２４０に出力する。 - 特許庁

The Q.931 controller 11 controls F/W 14, opens a port, and transmits the management data to the management device M through a port of the F/W 14 and an IP network 2.例文帳に追加

Ｑ．９３１コントローラ１１はＦ／Ｗ１４を制御してポートを開き、次いで、管理データをＦ／Ｗ１４のポートおよびＩＰネットワーク２を介して管理装置Ｍへ送信する。 - 特許庁