「Measuring microscope」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The thickness measurement means 51 is constituted by a non-contact laser length-measuring device 51A and a thickness-calculating means 51B, wherein the laser length-measuring device 51A is attached on a biobjective microscope 12, enabling measurement of the whole surface.例文帳に追加

また、厚さ測定手段５１は、非接触のレーザ測長器５１Ａと厚さ演算手段５１Ｂとから構成し、レーザ測長器５１Ａを双体物顕微鏡１２に取付け、ワーク全面に亘って測定できるように構成した。 - 特許庁

To provide a method of measuring the height of a sample that is not affected by the reflection factor of the sample by reducing the traveling count of a Z stage without reducing the travel amount per one time of the Z stage in a confocal scanning type microscope, and to provide the confocal microscope, a record medium with the height measurement program of the conical microscope recorded thereon, and the program.例文帳に追加

共焦点走査型顕微鏡のＺステージの１回当りの移動量を小さくすることなくＺステージの移動回数を少なくし、試料の反射率の影響を受けない試料の高さ測定方法及び共焦点顕微鏡及び共焦点顕微鏡の高さ測定プログラムを記録した記録媒体およびそのプログラムを提供する。 - 特許庁

The measuring instrument for microorganisms is provided with a micro-flow cytometer furnished with a nozzle channel flowing a sample liquid containing microorganisms as a micro-flow, a fluorescent microscope detecting the microorganisms in the nozzle channel, and a photographing means to photograph the microorganisms with the fluorescent microscope.例文帳に追加

微生物の測定装置が、微生物を含むサンプル液がマイクロフローとして流されるノズル流路を備えたマイクロフローサイトメータと、ノズル流路中の微生物を検出する蛍光顕微鏡と、蛍光顕微鏡を介して微生物を撮影する撮影手段とを含む。 - 特許庁

Then, if the reticle microscope is necessary to be focused when measuring a positional relationship between a specified n-th or later wafer and the reticle, it is focused by using the stored information on focus state of the reticle microscope (step 428).例文帳に追加

そして、所定枚目以降のウエハとレチクルとの位置関係の計測を行う際に、レチクル顕微鏡の合焦動作が必要な場合には、記憶しておいたレチクル顕微鏡の合焦状態の情報を利用して合焦状態の調整を行う（ステップ４２８）。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope that accurately specifies the measuring region of a sample having a minute pattern that cannot be observed easily by an optical microscope, is capable of alignment, and can correct measuring profile distortion caused by the variation of a probe shape or probe wear, based on the state of the probe shape and probe wear.例文帳に追加

光学顕微鏡では観察が困難であるような微細パターンを有する試料の計測領域を正確に特定し、位置合わせすることができ、探針形状および探針磨耗の状態に基づいて、探針形状のばらつき、もしくは探針磨耗に起因する計測プロファイル歪みの補正を行うことのできる走査プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

This method is applied for the scanning type probe microscope provided with a measuring part for measuring atomic force or the like as to the sample surface by scanning a sample 12 using a probe 25, a fine motion mechanism 24 for moving the probe finely, a prove approaching mechanism 11 for changing a space between the probe and the sample, the optical microscope 22, and a focusing driving mechanism 21.例文帳に追加

この焦点合せ方法は、探針２５で試料１２を走査して試料表面に関する原子間力等を測定する測定部と、探針を微動させる微動機構２４と、探針と試料の間隔を探針接近機構１１と、光学顕微鏡２２と、その焦点合せ用駆動機構２１を備える走査型プローブ顕微鏡に適用される。 - 特許庁

This grinding machine is provided for grinding the work by relatively moving the rotating grinding wheel to the work set on a chuck upper surface, and includes a microscope movable in the vertical direction, a CCD camera for photographing an image of the microscope and an image processing device for measuring the vertical directional distance between a reference surface of the microscope and an observation object of the microscope by processing the image photographed by the CCD camera.例文帳に追加

チャック上面にセットされるワークに対して、回転する研削砥石を相対移動させることで当該ワークを研削する研削盤であって、鉛直方向に移動可能な顕微鏡と、前記顕微鏡の画像を撮影するＣＣＤカメラと、前記ＣＣＤカメラで撮影された画像を処理することによって、前記顕微鏡の基準面と当該顕微鏡の観察対象物との鉛直方向距離を測定する画像処理装置と、を備える。 - 特許庁

To provide a method for measuring frictional force and a friction coefficient by using a scanning probe microscope for measuring frictional force as an absolute value not depending on the slope or shape of a specimen with respect to friction between a probe given arbitrary physical properties and a surface of the specimen.例文帳に追加

任意の物性を付与した探針と試料面間の摩擦について試料の傾き・形状によらない摩擦力を絶対値として測定する走査型プローブ顕微鏡による摩擦力および摩擦係数測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transmission electron microscope for highly efficiently and highly accurately correcting differences in electron energy-loss spectra between measuring positions on electron energy-loss spectral images formed of two axes of the amount of an energy loss and measuring position information.例文帳に追加

エネルギー損失量と測定位置情報の二軸で形成される電子エネルギー損失スペクトル像について、各測定位置間での電子エネルギー損失スペクトルの相違点を高効率かつ高精度に補正する透過型電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

To obtain a scanning probe microscope capable of expanding a measuring range in the measurement of a sample of which the surface irregularities are severe and capable of measuring accurate physical characteristics not affected by the unstable deformation of the leading end of the laser reflecting surface of a cantilever.例文帳に追加

表面凹凸の激しい試料の測定において測定範囲を広げること および カンチレバーのレーザ反射面先端の不安定変形の影響の無い正確な物理特性を測定可能な走査型プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

The grinding machine with the distance measuring function is characterized in that the image processing device measures the vertical directional distance between the reference surface of the microscope and the observation object based on sharpness being a degree of whether or not a focus of the microscope is adjusted.例文帳に追加

前記画像処理装置は、前記顕微鏡のピントが合っているか否かの程度である鮮鋭度に基づいて、当該顕微鏡の基準面と観察対象物との鉛直方向距離を測定するようになっていることを特徴とする距離測定機能付きの研削盤である。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope having a space resolution up to the periphery centered at 10 nm, capable of acquiring quantitatively information on a film thickness or its distribution of a dielectric thin film, and an (extremely thin dielectric) film thickness distribution measuring method using the microscope.例文帳に追加

誘電体薄膜の膜厚もしくはその分布に関わる情報を定量的に取得可能な、１０ｎｍを中心としてその近傍までの空間分解能を持つ走査型プローブ顕微鏡及びそれを用いた（極薄誘電体）膜厚分布測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a probe for a scanning probe microscope that sets contact resistance to low impedance of the same degree as a bulk metal and measures the position of the probe, which traces the surface of a sample being a target measuring article by a means other than an optical means, and to provide the scanning probe microscope using the same.例文帳に追加

接触抵抗をバルク金属と同程度の低インピーダンスにすると共に、光学的手段以外の手段により、対象測定物である試料表面をトレースするプローブの位置を計測する走査型プローブ顕微鏡用プローブ及びそれを用いた走査型プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

To provide a measuring device of dust for photographing scattered dust by a microscope, and discriminating the dust by image processing, and to provide the measuring device of dust and an estimation method of a generation source for estimating the generation source of each dust based on a result acquired by the measuring device of the dust.例文帳に追加

飛散した粉塵について、それらを顕微鏡で撮影し、画像処理によって識別する粉塵の測定装置、およびこの粉塵の測定装置によって得られた結果に基づいてそれぞれの粉塵の発生源を推定する、粉塵の測定装置および発生源の推定方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The sample holder 10 for an electron microscope loaded with a measuring target has a housing 16 having openings 28 and 28' permitting the electron beam applied to the measuring target and the detection means provided in the housing 16 to measure the position and flight time of the element dissociated from the measuring target.例文帳に追加

被測定体を搭載する電子顕微鏡用の試料ホルダ１０において、前記被測定体に照射される電子線が通過可能な開口２８、２８’を有する筐体１６と、前記筐体１６の内部に設けられ、前記被測定体から離脱した元素の位置および飛行時間を測定する検出手段とを有する。 - 特許庁

According to the method, a machining probe 1a (or 1b) of a scanning probe microscope, which has a vertical surface or a vertical edge and is harder than a sample material, is press-fitted into a dent measuring sample to form a dent.例文帳に追加

垂直面または垂直な稜を持った試料材質よりも硬い加工用の走査プローブ顕微鏡探針1a(または1b)を圧痕測定用の試料に押し込んで圧痕を形成する。 - 特許庁

To provide a probe control device of a scanning type probe microscope capable of enhancing measuring precision by eliminating rise and fall characteristic difference brought from servo followability, and to provide a probe control method.例文帳に追加

サーボ追従性からくる上り・下りの特性差を解消して計測精度を向上できる走査型プローブ顕微鏡の探針制御の装置および方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technique capable of restraining the charges generated by electron beam irradiation from accumulating in a measuring sample, in a probing device that uses an SEM (scanning electron microscope) as the observation means.例文帳に追加

ＳＥＭを観察手段として用いるプロービング装置において、電子線照射により生じる測定試料への電荷の蓄積を抑制することのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a system capable of covering an imaging head by the other imaging head, when any of the imaging heads gets abnormal, in a microscope imaging device and a dimension measuring instrument having the plurality of imaging heads.例文帳に追加

複数の撮像ヘッドを有した顕微鏡撮像装置及び寸法測定装置において、いずれかが異常になったときに、他の撮像ヘッドでカバー可能なシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a measuring microscope that achieves accurate overall measurement by using an optical system lens such as a comparatively inexpensive and narrow-field telecentric lens.例文帳に追加

本発明は、比較的安価で狭視野なテレセントリックレンズなどの光学系レンズを使用して高精度、かつ全体を見渡した測定を行うことが可能となる測定顕微鏡に関するものである。 - 特許庁

To prevent the action of excessive force to a sample and to enhance measuring accuracy in the observation of a surface shape and the measurement of adsorbing power by a scanning probe microscope.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡による表面形状観察及び吸着力測定において、試料に対する過剰な力の作用を防止すると共に測定精度を高める。 - 特許庁

PROBE SCANNING CONTROL DEVICE, SCANNING PROBE MICROSCOPE AND WORKING DEVICE BY THE SAME, PROBE SCANNING CONTROL METHOD, AND MEASURING AND WORKING METHOD BY THE SCANNING CONTROL METHOD例文帳に追加

プローブの走査制御装置、該走査制御装置による走査型プローブ顕微鏡及び加工装置、並びにプローブの走査制御方法、該走査制御方法による測定方法及び加工方法 - 特許庁

To provide a scanning electron microscope (SEM) capable of shortening a time for length measuring inspection at a deficiency analysis time by a manual work or the like, and its image display method.例文帳に追加

手作業による不具合解析時などにおける測長検査の時間短縮を図ることが可能な走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）およびその画像表示方法を提供する。 - 特許庁

To highly accurately measure a pattern dimension of a photomask upon measuring a dimension with the use of a microscope even when the objective pattern for measurement or adjacent patterns cause insufficient resolution.例文帳に追加

顕微鏡を用いた寸法測定において、測定対象パターンや隣接するパターンにて解像度不足が生じる場合にあっても、フォトマスクのパターン寸法を精度良く測定する。 - 特許庁

Column diameter distribution (B) is obtained by measuring an average column diameter of the columnar crystal on the electron microscope photograph and showing it with relative frequency, and the distribution of average column diameters has two peaks.例文帳に追加

柱径分布（Ｂ）は、電子顕微鏡写真上で柱状結晶の平均柱径を計測し、相対度数で示したもので、平均柱径の分布が、２つのピークを有している。 - 特許庁

To provide an evaluation method of an optical fiber probe capable of measuring and evaluating the diameter of the leading end of a core by a simple constitution without using a scanning electron microscope.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡を用いることなく、簡易な構成によりコア先端の直径を測定、評価することのできる、光ファイバプローブの評価方法を提供すること。 - 特許庁

Concretely, selecting any 20 particles from the images of electron microscope pictures that are used for measuring the average diameter of particles, the projected area of each particle was measured by an image analyzer. 例文帳に追加

具体的には、平均粒子径の測定に用いた電子顕微鏡写真の像から任意の20個の粒子を選び、それぞれの粒子について投影断面積を画像解析装置で測定した。 - 特許庁

To provide a recipe preparation apparatus and method for preparing a recipe for highly accurately measuring the dimension of an oblique or elongate pattern without using a scanning electron microscope.例文帳に追加

本発明は、斜めや細長いパターンを高精度に寸法測定するレシピを、走査型電子顕微鏡を使用しないで作成するレシピ作成装置及び方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an electron microscope capable of easily grasping parameters such as energy widths or resolution without measuring these parameters each time beam conditions change.例文帳に追加

本発明は、ビーム条件が変化するごとにエネルギー幅や分解能等を測定することなく、これらのパラメータを容易に把握することが可能な電子顕微鏡の提供を目的とする。 - 特許庁

A projection aligner 10 is provided with an atomic force microscope(AFM) for measuring a latent image formed on a wafer W with a surface-reaction type resist subjected to silylation as a photosensitive layer.例文帳に追加

露光装置１０に、表面反応型のシリル化レジストを感光層としたウエハＷに形成される潜像を計測するため、原子間力顕微鏡ＡＦＭを備える構成とした。 - 特許庁

To provide a cantilever control device preventing the stop of the self-oscillation of a cantilever and the contact of the probe of the cantilever with a measuring target in an atomic force microscope.例文帳に追加

原子間力顕微鏡において、カンチレバーの自励振動の停止を防止でき、カンチレバーの探針が測定対象物と接触することを防止できるカンチレバー制御装置の提供。 - 特許庁

The photogravure plate cell shape measuring apparatus has a camera microscope 2 having a polarization angle changing means 20, and picks up a plurality of cell images at different polarization angles.例文帳に追加

グラビア版セル形状測定装置には、偏光角度変更手段２０を備えたカメラ顕微鏡２が備えられ、それぞれ異なる偏光角度で複数枚のセル画像を撮像する。 - 特許庁

In this length measuring method by the scanning electron microscope, the scanning electron microscope is auto-focused with a measuring point, using an output from a sensor for detecting a distance from an objective lens to the sample, and a change of a sample signal emitted from the sample is monitored while changing an excitation current of the objective lens, to detect the excitation current ΔIobj of the objective lens corresponding to a focus shift.例文帳に追加

本発明の走査形電子顕微鏡による測長方法は、対物レンズから試料までの距離を検出するセンサの出力を用いて走査形電子顕微鏡を測定ポイントにオートフォーカスさせ、対物レンズの励磁電流を変化させながら試料から放出された試料信号の変化をモニターしてフォーカスずれに相当する対物レンズの励磁電流ΔIobjを検出する。 - 特許庁

This scanning type probe microscope is provided with a cantilever 21 having a probe 20 opposed to a sample 12, a measuring part (optical lever type optical microscope and feedback servo control loop) for measuring interatomic force or the like generated between the probe and the sample when the probe scans a surface of the sample, and a moving mechanism for varying relatively positions of the probe and the sample to conduct a scanning operation.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡は、試料１２に対向する探針２０を有するカンチレバー２１、探針が試料の表面を走査するとき探針と試料の間で生じる原子間力等を測定する測定部（光てこ式光学顕微鏡やフィードバックサーボ制御ループ）、探針と試料の位置を相対的に変化させ走査動作を行わせる移動機構を備える。 - 特許庁

To provide a probe control method of a scanning probe microscope capable of measuring an irregular shape or the like of the sample surface by a step-in method relative to a measuring point determined beforehand, heightening throughput of measurement, and reducing breakage or damage caused by collision of the probe.例文帳に追加

試料表面の凹凸形状等を予め決められた測定点についてステップイン方式で測定し、測定のスループプットを高め、探針の衝突による破損・ダメージを減少できる走査型プローブ顕微鏡の探針制御方法を提供する。 - 特許庁

The surface irregularity measuring device for measuring the irregularity of the surface using a scanning probe microscope is configured to measure the irregularity of the surface of the measured sample, calculate a gray-level histogram of the measured data and perform the calibration of the sample measurement.例文帳に追加

走査プローブ顕微鏡を用いた試料の表面の凹凸を測定する表面凹凸測定装置であって、測定した試料表面の凹凸を測定し、この測定したデータのグレイレベルヒストグラムを算出して試料測定のキャリブレーションを行なうように構成する。 - 特許庁

This scanning probe microscope is equipped with a cantilever 21 having a probe 20, measuring parts 24, 32 for measuring physical quantities generated between the probe and the sample 12, and moving mechanisms 14, 15, 29 for allowing to perform scanning operation by changing relatively positions of the probe and the sample.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡は、探針２０を有するカンチレバー２１と、探針と試料１２の間で生じる物理量を測定する測定部（２４，３２）と、探針と試料の位置を相対的に変化させ走査動作を行わせる移動機構（１４，１５，２９）とを備える。 - 特許庁

The physical quantity measuring instrument is so constituted as to be capable of two-dimensionally or three-dimensionally measuring the physical quantities of a sample to be measured, by adapting a laser-induced fluorescence method to the confocal microscope which uses a confocal scanner, having a two-port disk type pinhole array.例文帳に追加

ニポウディスク型のピンホールアレイを有する共焦点スキャナを用いた共焦点顕微鏡にレーザ誘起蛍光法を適応して、測定対象中の測定試料の物理量の２次元または３次元分布を測定することができるように構成する。 - 特許庁

To solve the point at issue that the feedback of a scanning probe microscope responds to the resonance frequency of a tube scanner to exert an effect on a measuring image as noise.例文帳に追加

本発明が解決しようとする問題点は、チューブスキャナの共振周波数に走査形プローブ顕微鏡のフィードバックが応答し、測定画像にノイズとして影響してしまうという点である。 - 特許庁

To provide a system for measuring a signal-light by a near-field optical microscope that allows a user to find dependency of signal light, emitted from a sample by near-field light, on the distance between a probe and the sample.例文帳に追加

近接場光により試料から放射される信号光のプローブ・試料間距離依存性を調べることができる近接場光学顕微鏡の信号光測定システムを提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive scanning laser microscope with a film thickness measuring function which requires only small memory capacity for image data and does not require highly accurate high resolution in Z-axis drive.例文帳に追加

画像データのメモリ容量が少なくて済み、さらにＺ軸駆動分解能も高精度、高分解能である必要のない、安価な膜厚測定機能付き走査型レーザ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

The measuring apparatus 100 includes the confocal optical microscope 110, an excitation light source 130 which emits excitation light for generating fluorescence from a fluorescent substance, and the light-receiving unit 140.例文帳に追加

測定装置１００は、共焦点光学顕微鏡１１０と、蛍光物質から蛍光を発生させるための励起光を発する励起光源部１３０と、受光ユニット１４０とを有している。 - 特許庁

To provide an anisotropic friction data acquisition method of a scanning probe microscope capable of acquiring anisotropic friction data in a minute region on the sample surface, when measuring various characteristics on the surface of a wafer or the like.例文帳に追加

ウェハ等の表面上の各種特性を測定するとき試料表面の微小領域で異方摩擦データを取得できる走査型プローブ顕微鏡の異方摩擦データ取得方法を提供する。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope technique for highly accurately measuring a distance between a desired position in an image and a reference position, assuming that at least one point outside the visual field of the measurement image is the reference position.例文帳に追加

測定画像の視野外の少なくとも１点を基準位置としてその画像内の所望とする位置との距離を高精度に測定することができる走査型プローブ顕微鏡技術を提供する。 - 特許庁

To provide a wrong measurement verification method capable of verifying accurately wrong measurement such as measuring start position deviation, when performing inline automatic inspection of a sample such as a wafer by utilizing a scanning probe microscope.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡を利用してウェハ等の試料をインライン自動検査を行うとき測定開始位置ずれなどの誤測定を正確に検証できる誤測定検証方法を提供する。 - 特許庁