「Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(804ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide: a photoresist composition useful for photolithography pattern formation by negative tone development; a method of forming a photolithography pattern by a negative tone development process; and a base substance coated with the photoresist composition.例文帳に追加

ネガティブトーン現像によるフォトリソグラフィパターン形成に有用なフォトレジスト組成物の提供、及び、ネガティブトーン現像プロセスによってフォトリソグラフィパターンを形成する方法、並びに当該フォトレジスト組成物でコーティングされた基体の提供。 - 特許庁

To provide a piezoelectric device for preventing generation of stray capacitance between a piezoelectric vibration element and a wiring pattern, preventing conductive adhesive from flowing onto the wiring pattern, and preventing oscillation frequency from changing.例文帳に追加

圧電振動素子と配線パターンとの間の浮遊容量の発生を防止すると共に配線パターン上に導電性接着剤が流れ出てしまうことを防止し、発振周波数の変動を防止することが可能な圧電デバイスを提供する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes steps of forming a resist film by using the above resist composition for EUV on a substrate, exposing the resist film to EUV light, and forming a resist pattern by developing the resist film.例文帳に追加

支持体上に、前記ＥＵＶ用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜をＥＵＶ露光する工程、および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁

The initial standard coating pattern is corrected from the ratio of the simulation result to the result of a coating experiment by carrying out the coating film thickness simulation using the initial basic coating pattern and conducting the coating experiment using a testing piece.例文帳に追加

初期基準塗装パターンを用いた塗装膜厚シミュレーションを行うと共に、テストピースを用いた塗装実験を行い、シミュレーションの結果と塗装実験の結果との比率に基づき、初期基準塗装パターンを修正する。 - 特許庁

To provide an MR thin film magnetic head manufacturing method capable of very accurately controlling an overlap volume without making manufacturing processes complicated and a new photoresist pattern forming method capable of easily obtaining a photoresist pattern of narrow width.例文帳に追加

工程を複雑化することなくオーバーラップ量を高精度に制御可能なＭＲ型薄膜磁気ヘッドの製造方法、及び狭い幅を有するフォトレジストパターンを容易に得ることができる新規なフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To achieve pattern matching processing having high speed processing by obtaining processing for simply performing registration of a template supposing that size is varied and position precision sufficient in measurement in pattern matching for specifying a measurement position.例文帳に追加

測定位置を特定するためのパターンマッチングにおいて、大きさが変動することを想定したテンプレートの登録を簡便に行う処理及び、測定に十分な位置精度が得られ、なおかつ処理が高速なパターンマッチング処理を実現する。 - 特許庁

The offset cancel control circuit 40 receives a pattern selection signal PSEL prescribing the period of inverting polarities of the offset voltage of the amplifier 38, responds to the pattern selection signal PSEL and generates the offset cancel control signal.例文帳に追加

オフセットキャンセル制御回路４０は、アンプ３８のオフセット電圧の極性が反転される周期を指示するパターン選択信号ＰＳＥＬを受け取り、パターン選択信号ＰＳＥＬに応答してオフセットキャンセル制御信号を生成する。 - 特許庁

A thin push switch comprises a pair of insulating resin films 16, a wiring pattern 12 formed on the resin film 16 and having the electrodes 10 at its end part, and an insulating sheet mounted between the wiring pattern 12 and the electrode 10.例文帳に追加

一対の絶縁性樹脂フイルム１６と、この樹脂フイルム１６上に形成され、端部に電極１０を有する配線パターン１２と、この配線パターン１２及び電極１０間に設けられた絶縁性シート１９とからなる。 - 特許庁

To provide a method of forming a resist pattern, capable of forming a fine resist pattern with good lithography characteristics by a negative development process using a developer containing an organic solvent, and a resist composition for negative development used in the method.例文帳に追加

有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide: a photosensitive resin composition which excels in lithographic properties such as adhesion and in applying properties such as edge film thickness uniformity; a method for producing a cured relief pattern using the composition; and a semiconductor device including the cured relief pattern.例文帳に追加

密着性などのリソグラフィー性能と、エッジ膜厚均一性などの塗布性能に優れた感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有して成る半導体装置の提供。 - 特許庁

To provide a resist material having high resolution and process adaptability, attaining proper pattern shape after exposure, and decreasing line edge roughness, in particular, to provide a chemical amplification positive resist material, and to provide a pattern forming method which uses the same.例文帳に追加

高解像度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A symbol candidate selecting means 138 selects one or a plurality of symbol candidates presented in the expansion type variation pattern from previously prepared symbol kinds when the expansion type variation pattern is selected.例文帳に追加

図柄候補選択手段１３８は、拡張型変動パターンが選択された場合に、予め準備されている図柄種類のなかから該拡張型変動パターンにおいて提示される図柄候補をひとつまたは複数選択する。 - 特許庁

To provide a touch pattern registration device, a touch pattern registration method, and a portable terminal device capable of accepting intuitive, understandable, and easy-to-remember touch patterns to be registered and easily calling up each function by the touch patterns.例文帳に追加

直感的に分かり易く、忘れにくいタッチパターンを登録することができるとともに、タッチパターンによる機能呼び出しを簡便化することができるタッチパターン登録装置、タッチパターン登録方法および携帯端末装置を提供する。 - 特許庁

In addition, the optical waveguide substrate 11 has a wiring pattern 21, which is electrically connected to the light emitting device 40, and a component 41, which is installed on the wiring pattern 21 on the end side of the optical waveguide 30 and supports the light emitting device 40.例文帳に追加

また、光導波路基板１１は、発光素子４０と電気的に接続される配線パターン２１と、光導波路３０の端部側で配線パターン２１上に設けられ、発光素子４０を支持する部品４１と、を有している。 - 特許庁

In S108 and S116, the parameter space consisting of a pattern parameter set in S102 and the illumination shape parameter set in S106 are constituted, and the pattern parameter and the illumination shape parameter are optimized in the parameter space.例文帳に追加

Ｓ１０８乃至Ｓ１１６では、Ｓ１０２で設定したパターンパラメータとＳ１０６で設定した照明形状パラメータとからなるパラメータ空間を構成し、かかるパラメータ空間においてパターンパラメータ及び照明形状パラメータを最適化する。 - 特許庁

To provide an insert which is high design having a picture pattern layer and an internal uneven pattern, does not need a post-process and expensive equipment, keeps a feeling of design even at high temperatures, and has good processability, and a decorative sheet for in-mold molding.例文帳に追加

絵柄模様層と内部凹凸模様を併せ持つ高意匠で、かつ後工程や高価な設備が必要無く、高温下でも意匠感を保持した加工性の良好なインサートおよびインモールド成形用化粧シートを提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which enable formation of a pattern which is superior in the depth of focus (DOF) and in roughness characteristics and having few bridge defects and few chips.例文帳に追加

フォーカス余裕度（ＤＯＦ）及びラフネス特性に優れ且つブリッジ欠陥及び欠けの少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution, roughness properties and temporal stability and enables to form a pattern of good configuration, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To prevent an increase in pattern defects even when repeatedly using a work stamper to be used for transferring a pattern onto a resist formed on a recording surface of a magnetic recording medium by an imprinting method, thereby reducing the manufacturing cost of the magnetic recording medium.例文帳に追加

磁気記録媒体の記録面に形成されるレジストにインプリント法によりパターン転写する際に使用されるワーク用スタンパを繰り返し使用してもパターン欠陥の増加を抑制し、磁気記録媒体の製造コストを低減すること。 - 特許庁

To provide a light projector which scans a light beam while controlling the intensity of the light beam and projects an accurate pattern even when the scanning angle range of a scanner varies when forming a pattern by the intensity variation of light on a face to be projected.例文帳に追加

光線の強度を制御しながら光線を走査し、光の強弱によるパターンを投影面に形成するときに、走査装置の走査角度範囲が変化しても正確なパターンを投影できる光投影装置を提供する。 - 特許庁

The player can determine a game variation pattern apportioning table which allows the player to easily select a game display pattern for achieving the condition to be hardly achieved by operating a presentation button which can be operated by the player.例文帳に追加

遊技者が操作可能な演出ボタンを操作することで、達成するのが困難とした条件を達成するためのゲーム表示パターンが選択されやすくなるゲーム変動パターン振分テーブルを決定することができるようにした。 - 特許庁

At the time, the Pachinko game machine 100 opens the big prize winning opening 109 after a lapse of longer period of time compared to the situation in which a pattern showing the second short winning is stopped when stopping the pattern showing the first short winning.例文帳に追加

このとき、ぱちんこ遊技機１００は第１短当たりを示す図柄を停止させると、第２短当たりを示す図柄を停止させた場合よりも、長い期間が経過してから大入賞口１０９を開放させる。 - 特許庁

A category identification part 405 identifies one display pattern group from the display pattern groups memorized in the memory part 404 based on the information about the prize-winning categories acquired by the category information acquisition part 403.例文帳に追加

種類特定部４０５は、種類情報取得部４０３によって取得された当たりの種類に関する情報に基づいて、記憶部４０４に記憶されている表示パターン群の中から、一の表示パターン群を特定する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution, roughness characteristics and aging stability and enables formation of a pattern of a good shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern of a metal oxide thin film using a precursor solution, which is capable of improving the light application sensitivity without improving any nature of a raw material solution, and improving any disturbance of a pattern form by the development.例文帳に追加

原料溶液の性質を改善をすることなく、光照射感度を向上し、現像によるパターン形状の乱れを改善し得る、前駆体溶液を用いた金属酸化物薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a variable display printed matter that makes visible a printed image for variable view or a printing design and pattern and has a high decoration effect for uniquely changing the image or the design and pattern.例文帳に追加

可変視用の印刷画像もしくは印刷図柄・模様が見えるようにした可変表示印刷物において、画像もしくは図柄・模様に独自の変化を与えることができる加飾効果に優れる可変表示印刷物を提供すること。 - 特許庁

A photosensitive organic system insulating film which serves as a second protection layer is formed on the Ga oxide film, the portion which matches a channel region in the photosensitive organic system insulating film is made to be a pattern, the portion other than that is made to be a non-pattern.例文帳に追加

Ｇａ酸化物膜上に第２の保護層となる感光性有機系絶縁膜を形成し、感光性有機系絶縁膜においてチャネル領域に整合する部分をパターン部とし、それ以外の部分を非パターン部とする。 - 特許庁

In the case of a ready-to-win state variation pattern in a special state A before reaching the defined number of times of variations, or in the case of a variation pattern in a special state B at which the defined number of times of the variations has been reached, mode fall drawing is performed.例文帳に追加

規定変動回数に達する前の特殊状態Ａにおいてリーチ変動パターンである場合、または規定変動回数に達した特殊状態Ｂの変動パターンである場合には、モード転落抽選をおこなう。 - 特許庁

The plurality of the second light sources P2 are arrayed in a second array pattern different from the first array pattern so that an in-plane luminous distribution can be uniform at a prescribed height when the second light source group only is lighted as a whole.例文帳に追加

複数の第２の光源Ｐ２は、第２の光源グループのみを全体的に点灯させた場合に所定の高さでの面内輝度分布が一様となるように、第１の配列パターンとは異なる第２の配列パターンで配列する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a substrate having an electronic circuit, in which a conductive pattern can be formed on the substrate in a stable manner while being image deletion of the pattern suppressed, by a simple method using a DNA or DNA-lipid complex.例文帳に追加

ＤＮＡ又はＤＮＡ−脂質複合体を用いた簡易な方法により、基板上に導電性パターンを、画像流れを抑制しながら安定して形成できる電子回路付き基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Using of the pattern can reduce an exposure step or a development step in a process for forming a conductive pattern (a gate wiring or a source wiring) and reduce the amount of used materials, and remarkable cost reduction can be achieved.例文帳に追加

前記パターンを用いることより、導体パターン（ゲート配線、またはソース配線など）を形成するプロセスにおいて、露光工程や現像工程などが短縮でき、材料の使用量の削減も図れるため大幅なコストダウンが実現できる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition having high solubility in a safe solvent, high sensitivity and giving a favorable resist pattern profile, and to provide a method for manufacturing the composition and a method for forming a resist pattern using the radiation-sensitive composition.例文帳に追加

安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、良好なレジストパターン形状を与える感放射線性組成物、その製造方法および該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The displacement measuring apparatus as one aspect includes a scale 7 in which a grating pattern 6 is formed, a light source for irradiating the scale 7 with light, and a light-receiving element for receiving light diffracted by the grating pattern 6 of the scale 7.例文帳に追加

本発明の一側面としての変位測定装置は、格子パターン６が形成されたスケール７と、スケール７に光を照射する光源と、スケール７の格子パターン６で回折された光を受光する受光素子と、を備える。 - 特許庁

The surface of the pattern is coated with an aqueous solution 6 of a modification material containing a crosslinking agent that permeates into the pattern and can carry out crosslink with the resist resin component by an action of an acid, and a permeation promoter that promotes the permeation of the crosslinking agent.例文帳に追加

次に、その表面に、パターン内に浸透し、酸の作用下でレジスト樹脂成分と架橋反応を行い得る架橋剤と、その浸透を促進する浸透促進剤とを含有する改質材水溶液６を被着させる。 - 特許庁

By contrast, when pattern images Spy to Spk are to be formed on a sheet S in response to the instruction of the main control section 40, the image forming control section 46 does not perform deviation correction in the process of forming a pattern image.例文帳に追加

これに対して、画像形成制御部４６は、メイン制御部４０からの指示に応じて用紙Ｓにパターン画像Ｓpy〜Ｓpkを形成する場合は、パターン画像の形成に際して片寄り補正を実施しないこととしている。 - 特許庁

To provide a technique for an evaporative pattern and a method for manufacturing a casting, which facilitates a sand fill work performed when embedding the evaporative pattern into a sand mold and also improves quality (casting quality) of a molten casting product.例文帳に追加

該消失模型を砂型内に埋設する際の砂込め作業を容易にしつつ、鋳造された鋳物の品質（鋳造品質）を向上させるための、消失模型および鋳物の製造方法の技術を提供することを課題とする。 - 特許庁

At the time, the period for variably displaying the special symbols is the addition of a period represented by a master pattern selected from master patterns P1-P7 and a period represented by a slave pattern selected from slave patterns p1-p8.例文帳に追加

このとき、特別図柄を変動表示させる期間は、親パターンＰ１〜Ｐ７から選択された選択された親パターンが示す期間と、子パターンｐ１〜ｐ８から選択された選択された子パターンが示す期間とを加算した期間とする。 - 特許庁

The thin film 120a of the pattern A and the thin film 120b of the pattern B are laminated and adhered alternately to obtain the optical element having a three-dimensional refractive index periodic structure with refractive index varying according to a change in the crystal structure.例文帳に追加

パターンＡの薄膜１２０ａとパターンＢの薄膜１２０ｂを交互に積層して接合することにより、結晶構造の変化により屈折率が変化する３次元屈折率周期構造を有する光学素子が得られる。 - 特許庁

To correctly extract a ruled line even if a shadow is present in a shading image or the density difference between the ruled line and a background is low, and to correctly extract a necessary pattern when the pattern is extracted from a multiple image.例文帳に追加

濃淡画像に影があったり、罫線と背景の濃度差が少ないような場合であっても、正確に罫線を抽出することと、多値画像からパターンを抽出する際に、必要なパターンを正確に抽出することが課題である。 - 特許庁

The respective metal layers 105 and 107 between them are made to have nearly the same density of a pattern in an optical black area 400 as that of a pattern in an effective pixel area 300.例文帳に追加

半導体部材１０１と保護膜１０８との間に配置された各金属層１０５、１０７において、オプティカルブラック領域４００内のパターンの密度と有効画素領域３００内のパターンの密度とを略同一にする。 - 特許庁

An IC card case 3 covering the periphery of an IC card 7 is composed of conductors such as metal and attached to a ground pattern 2 provided on a substrate 1 by using a fixing screw 4 so that its entire peripheral face can be brought into contact with the pattern 2.例文帳に追加

ＩＣカード７の周りを覆うＩＣカードケース３は、金属等の導体によって構成され、基板１上に設けられたグランドパターン２に固定ネジ４を用いてその周囲全面で接触するように取り付けられている。 - 特許庁

A material ID determination part 133 obtains a material ID 902 corresponding to the failure pattern and a command 903 to be executed to collect it in reference to a related information table 144 by the extracted failure pattern.例文帳に追加

資料ＩＤ決定部１３３は、抽出した障害パターンにより関連情報テーブル１４４を参照して、前記障害パターンに対応する資料ＩＤ９０２と、それを収集するために実行すべきコマンド９０３を取得する。 - 特許庁

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has good line width roughness (LWR) performance and forms a pattern with suppressed application defects, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能が良好であり、且つ塗布欠陥が抑制されたパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A changing unit 302 changes the variation pattern table to be set by the setting unit 301 to a special variation pattern table having the variation time different from the variation time in normal time by changing the game state during the special mode.例文帳に追加

変更部３０２は、特別モード中には、遊技状態を変更することにより、設定部３０１に設定される変動パターンテーブルを、通常時の変動時間とは異なる変動時間を有する特殊変動パターンテーブルに変更する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition having high solubility in a safe solvent and high sensitivity, and ensuring a good resist pattern shape, and also to provide a method for producing the same, and a resist pattern forming method using the radiation-sensitive composition.例文帳に追加

安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、得られるレジストパターン形状が良好な感放射線性組成物、その製造方法、および該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁