「Reference mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

This allows sensing the nut slack through sensing of the displacement of the ocular mark from the reference piece.例文帳に追加

これにより基準片からの目印の変位を目視で検出して、ナットの緩みを検知することができる。 - 特許庁

A reference mark A is formed on the opposing surface of the second member 52 to the first member 51.例文帳に追加

また、第二の部材５２の第一の部材５１との対向面には、基準マークＡが形成されている。 - 特許庁

A reticle microscope (observation area 52RA, 52RB) is used to successively observe a plurality of mark pairs on a reticle R and a pair of reference marks on a reference mark plate on a wafer stage, and to measure a positional difference of the respective marks to the reference mark while it moves on a reticle stage RST in Y-axis direction.例文帳に追加

これによれば、レチクルステージＲＳＴをＹ軸方向に移動しながら、例えばレチクルＲ上の複数のマーク対とウエハステージ上の基準マーク板上の一対の基準マークとを、レチクル顕微鏡（観察領域５２ＲＡ、５２ＲＢ）を用いて、順次観察し、各マークの基準マークに対する位置誤差を計測する。 - 特許庁

A PE sensor and a PE2 sensor of the printer are arranged in positions through which the reference mark of the CD-R tray passes.例文帳に追加

プリンタのＰＥセンサ、ＰＥ２センサを、ＣＤ−Ｒトレイの基準マークが通過する位置に配置しておく。 - 特許庁

The publication of reference to the registration of a mark under paragraph (1) shall contain the particulars specified in paragraph (2) (ii) to (vii). 例文帳に追加

(1)に基づく商標の登録の公告は、(2) (ii)乃至(vii)に明記する詳細を記載しなければならない。 - 特許庁

(n) Application for the certificate of the Registrar with reference to the proposed assignment of a trade mark [section 39(6) - regulation 37]例文帳に追加

(n) 商標の予定される譲渡に関する登録官の証明書を求める申請［第39条(6)－規則37］ - 特許庁

The mark 4 is provided at a position 15 mm higher than a ground part 6 of the can barrel 1 as a reference.例文帳に追加

マーク４は、缶胴１の接地部６を基準として１５ｍｍより高い位置に設けられている。 - 特許庁

The surface of the forceps is provided with a mark 36M for displaying a second reference length L_2.例文帳に追加

また、鉗子の表面には、第２の基準長さＬ_２を表示するためのマーク３６Ｍが設けられている。 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM APPLICATION DEVICE AND METHOD FOR DETECTING REFERENCE MARK IN CHARGED PARTICLE BEAM APPLICATION DEVICE例文帳に追加

荷電粒子ビーム応用装置、および荷電粒子ビーム応用装置における基準マークの検出方法 - 特許庁

To correct a position detection error of a reference mark due to variance in a vertical direction, without reducing throughput.例文帳に追加

上下方向の変動による基準マークの位置検出誤差を、スループットを低下させずに補正する。 - 特許庁

To shorten the time required for replacing a base and recognizing a reference position mark by a recognition camera.例文帳に追加

基板の入れ替え及び認識カメラによる基準位置マークの認識に要する時間を短縮する。 - 特許庁

A reference mark configuration for interference type small grid encoder using an optical fiber light-receiving channel is provided.例文帳に追加

光ファイバ受光チャンネルを用いた干渉型小型格子エンコーダ用の基準マーク構造が与えられる。 - 特許庁

A reference wafer WF having a known position relation and a mark M_ijk is placed on a wafer stage WST.例文帳に追加

既知の位置関係にあるマークＭ_ijkが付与された基準ウエハＷＦをウエハステージＷＳＴに載置する。 - 特許庁

A ground reference mark 110 is formed by forming a ground reference mark hole 111 at a predetermined density in an interlayer film 132, depositing tungsten inside the ground reference mark hole 111 and on the interlayer film 132, and creating a recess by erosion produced when chemical mechanical polishing is performed on the tungsten present on the surface of the interlayer film 132.例文帳に追加

下地基準マーク１１０は、層間膜１３２に下地基準マーク用ホール１１１を所定密度で形成し、下地基準マーク用ホール１１１内および層間膜１３２上にタングステンを堆積し、層間膜１３２表面のタングステンを化学機械研磨したときのエロージョンで凹みを生じさせることによって形成される。 - 特許庁

A plurality of instruction marks IM are at rest while the reference mark RM moves to the tempo of the music.例文帳に追加

複数の指示マークＩＭが静止状態にあり、基準マークＲＭが楽曲のテンポに応じて移動する。 - 特許庁

Upon patterning the substantially single crystal semiconductor film, the position of the first alignment mark 21 is utilized as the reference of patterning.例文帳に追加

略単結晶半導体膜をパターニングする際には、第一アライメント・マーク２１の位置を基準とする。 - 特許庁

Subsequently an ITO(indium tin oxide) film is formed (105) and is patterned to form a transparent electrode and a reference mark simultaneously (106).例文帳に追加

その後、ＩＴＯを成膜し（105）、パターニングして、透明電極と基準マークとを同時に形成する（106）。 - 特許庁

To automatically detect a register mark which is a datum reference of a digital image and to calculate its position coordinates.例文帳に追加

ディジタル画像の位置基準であるトンボマークを自動的に検出し、その位置座標を算出する。 - 特許庁

A reference mark distance calculation section 273 calculates an actually measured shortest distance to the intersection P.例文帳に追加

基準マーク間距離算出部２７３は、上記交点Ｐに対して、最短実測距離を算出する。 - 特許庁

To make it possible to automatically register a new reference mark when image recognition is performed by imaging a reference mark on a circuit board with a camera and existence of a part whose shape is closely resemble to the reference mark (hereinafter, referred to as "a closely resemble shape part ") in a photographed image makes it difficult to distinguish and recognize the both.例文帳に追加

回路基板上の基準マークをカメラで撮像して画像認識する際に、撮像画像内に基準マークと形状が酷似した部分（以下「酷似形状部」という）が存在して両者を区別して認識することが困難な場合に、新たな基準マークを自動的に登録できるようにする。 - 特許庁

To shorten a position recognition time of a reference mark even when the kind and size of a workpiece are different.例文帳に追加

ワークの種類や大きさが異なる場合でも、基準マークの位置認識時間を短縮すること。 - 特許庁

The positions of each inherent calibration mark and the common calibration mark are acquired by means of the reference mark camera of the first and second units, and the relative position of both units is acquired previously based on the positions of the calibration mark 160 thus acquired.例文帳に追加

第一，第二の各ユニットにおいて基準マークカメラにより１つずつの固有較正マークと共通較正マークとの位置を取得し、それら取得した較正マーク１６０の位置に基づいて両ユニットの相対位置を予め取得しておく。 - 特許庁

Wobble is formed so that an average value of displacement of a recording mark position basing on the reference locus as reference is made zero for each prescribed data unit of the recorded data.例文帳に追加

ウォブルは基準軌跡を基準とする記録マーク位置の変位の平均値が記録データの所定のデータ単位毎に零となるように形成されている。 - 特許庁

Based on the relation between vertical deviation and the deviation associated value, vertical deviation of the reference mark from a reference position is determined from the deviation associated value.例文帳に追加

上下方向偏差と偏差関連値との関係に基づいて前記偏差関連値から基準マークの基準位置からの上下方向偏差を求める。 - 特許庁

After hardening, a reference mark 10 to be a reference for matching the position of the feed hole 12 with the slit groove 13 formed in a post-process is formed.例文帳に追加

焼入れ後、供給穴１２と後工程で形成するスリット溝１３との位置を一致させるための基準となる基準印１０を形成する。 - 特許庁

Here, the surface shape and the reference surface shape at axially the same position of the evaporation pipe 4 are superimposed, on the basis of the reference mark.例文帳に追加

このとき、基準マークに基づいて、蒸発管４の軸方向の同一位置における表面形状と基準表面形状とを重ね合わせる。 - 特許庁

A reference mark 10 for adjusting the CCD camera 5, and a reference jig 20 for adjusting the hand 4, are mounted on the upper face of the robot body 2.例文帳に追加

そして、ロボット本体２の上面に、ＣＣＤカメラ５の調整用の基準マーク１０と、ハンド４の調整用の基準治具２０とを取り付ける。 - 特許庁

Regulations 4.18 and 4.19 apply in relation to an IRDA as if a reference in those regulations to an application for registration of a trade mark were a reference to the IRDA.例文帳に追加

規則 4.18及び規則 4.19を、これらの規則における商標登録出願についての言及を IRDAについての言及であるとして、IRDAに関して適用する。 - 特許庁

(a) the reference in section 22(1) of the Act to the date of completion of the registration procedure shall be treated as a reference to the date the protected international trade mark (Singapore) became protected;例文帳に追加

(a)商標法第22条(1)にいう登録手続の完了日は，保護国際商標(シンガポール)が保護の対象となった日として扱われ， - 特許庁

the word “registered”; or (b) any other word or symbol importing a reference, either express or implied, to registration, is deemed to be a representation as to registration under this Ordinance unless it is shown that the reference is to registration elsewhere than in Hong Kong and that the trade mark is in fact so registered for the goods or services in question. 例文帳に追加

何人も，当該人の営業所若しくは当該人が発行する書類において又はその他の方法で，「商標 - 特許庁

A tail edge 85a of the reference mark is a front edge 15a of the separated label regardless of whether or not the space between the separated labels is a reference space.例文帳に追加

ラベル個体の間隔が基準の間隔となっているかどうかに関係なく、基準マークの後縁８５ａはラベル個体の先端縁１５ａとなる。 - 特許庁

Since the plastic lens molded in this mold for molding is molded with the mark at the position withdrawn position from the reference surface, it does not affect the surface accuracy of the reference surface.例文帳に追加

この成形金型で成形されるプラスチックレンズは、基準面から引っ込んだ位置にマークが成形されるので、基準面の面精度に影響がない。 - 特許庁

An outermost copper foil layer 1 and an insulating layer 4 that cover the reference mark 3 irradiated with X light, are partially removed to reduce the X light with which a periphery of the reference mark 3 is irradiated to a low transmission amount.例文帳に追加

Ｘ線で照射する基準マーク３を覆っている最外銅箔層１や絶縁層４を部分的に除去することで，基準マーク３周辺に照射するＸ線を低透過量にすることができる。 - 特許庁

To correct a work position with high precision by using only reference mark data on the peripheral region, because if a reference mark is placed on the central region of a printed circuit board, which is a region for picking products, the number of picked products is reduced.例文帳に追加

プリント配線基板の中央部分は製品取りの領域でありここに基準マークを設置すると製品の取数が減るため、周辺の基準マークのデータのみで高精度の加工位置補正を実現する。 - 特許庁

Positioning of a reticle R held to a reticle stage 2 is carried out by overlapping an alignment mark RM of the reticle R with a reticle reference mark SM of a reticle reference part 13 supported above a projection optical system 3.例文帳に追加

レチクルステージ２に保持されたレチクルＲの位置合わせは、レチクルＲのアライメントマークＲＭと、投影光学系３の上方に支持されたレチクル基準部１３のレチクル基準マークＳＭを重ね合わせることで行なわれる。 - 特許庁

A reference mark 32 provided on this screen is received by an image sensors 21 through an input lens 20 and detected as the reference mark position on the image the sensors 21 by an image processing circuit 22 and a CPU 11.例文帳に追加

このスクリーン上に設けられた基準マーク３２は、受光レンズ２０を介してイメージセンサ２１で受像され、画像処理回路２２及びＣＰＵ１１にて、イメージセンサ２１上の基準マーク位置として検出される。 - 特許庁

In this way, if the color of the treating film on the Cu foil 4a is seen through an insulator 3b, the reference mark 5 becomes clear at contours so that the reference mark 5 can be detected surely, by the use of the CCD camera.例文帳に追加

このようにすると、銅箔４ａの処理膜の色が絶縁物３ｂを透過しても、基準マーク５の輪郭が鮮明になり、ＣＣＤカメラにより基準マーク５を確実に検出するすることができる。 - 特許庁

A reference mark group 20, consisting of a plurality of reference marks 16 can be displayed, while being superimposed on the image drawing screen 14, and a distance between the reference marks 16 and 16 is set sufficiently wide, while the reference mark group 20 can be moved as a whole to an optional position on the image drawing screen 14.例文帳に追加

作図用画面１４上に重畳させて、複数の基準マーク１６からなる基準マーク群２０を表示可能とするとともに、その基準マーク１６・１６間の間隔を十分大きく設定する一方、基準マーク群２０を全体として、作図用画面１４上で任意位置に移動可能とする。 - 特許庁

A reference plate whose width is known is supported on a main conveyor 140, an image of a rail reference mark 270 of the movable guide rail 156 is picked up by a reference mark camera to obtain the position, and a target position of the movable guide rail is set according to the obtained position, the width of the reference plate, and the width of a printed wiring board to be conveyed.例文帳に追加

メインコンベヤ１４０に幅が既知である基準板を支持させ、その際の可動ガイドレール１５６のレール基準マーク２７０を基準マークカメラに撮像させて位置を取得し、その位置と、基準板の幅と、搬送するプリント配線板の幅とに基づいて可動ガイドレールの目標位置を設定する。 - 特許庁

The coding pattern comprises a plurality of reference positions, each of the plurality of marks being associated with a reference position and the value of each mark being determined by its location relative to its reference position.例文帳に追加

符号化パターンは、複数の基準位置を備えており、前記マークのそれぞれは、複数の基準位置の１つに関連付けられ、各マークの値は、その基準位置に対するその位置によって決定される。 - 特許庁

The CPU 18 also calculates the display position of a mark that becomes a reference of inspection for determining the degree of deterioration of a deteriorated section by visual inspection of the image, based on the position of the reference point and an inspection reference value.例文帳に追加

また、ＣＰＵ１８は、劣化部分の劣化の度合いを画像の目視により判断する検査の基準となる目印の表示位置を基準点の位置と検査基準値とに基づいて算出する。 - 特許庁

(e) the reference in section 189 of the Act to a trade mark that is not registered in the name of the registered owner included a trade mark that is not a protected international trade mark held by the registered owner.例文帳に追加

(e) 登録所有者の名義で登録されていない商標についての法律第189条における言及は、登録所有者が保有している国際保護商標でない商標を含むものとすること - 特許庁

(b) the reference in section 35(5) of the Act to notification that a trade mark is registered or that an application for registration has been made shall be treated as a reference to notification that a trade mark is a protected international trade mark (Singapore) or is the subject of an international application or international registration designating Singapore.例文帳に追加

(b)商標法第35条(5)にいう商標が登録されている又は登録出願がなされたという通知は，商標が保護国際商標(シンガポール)である又は国際出願若しくはシンガポール指定国際登録の対象であるという通知として扱われる。 - 特許庁

The positioning mark discriminated first after discriminating the caused crack is set as a reference mark, and the exposure start timing of an exposure means is controlled so that the prescribed position from the reference mark whose position is grasped and the edge part of a developer image may be aligned at a 1st transfer position.例文帳に追加

発生したクラックが識別された後、最初に識別される位置決めマークを基準マークとして設定し、位置を把握された基準マークからの所定位置と現像剤像の先端部とが第１転写位置で一致するように露光手段の露光開始タイミングが制御される。 - 特許庁

A TTR sensor 2 observes a reticle alignment mark RM formed on a reticle R, and a wafer alignment mark WM formed on a wafer W via a projection optical system PL or a reference mark formed on a reference member 14, and detects relative positions of these marks.例文帳に追加

ＴＴＲセンサ２０は、レチクルＲに形成されているレチクルアライメントマークＲＭと、投影光学系ＰＬを介してウェハＷに形成されているウェハアライメントマークＷＭ又は基準部材１４に形成されている基準マークとを観察してこれらの相対位置を検出する。 - 特許庁