「alignment process」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

In this process, a second level difference 23 is formed for a polycrystalline silicon film 22, and the second level difference 23 is used as an alignment mark.例文帳に追加

この工程により、多結晶シリコン膜２２に対し、第２の段差部２３を形成することができ、該第２の段差部２３をアライメントマークとして利用することができる。 - 特許庁

To provide a plating apparatus which can achieve an automatic process of plating a region having wiring formed thereon in a state that a peripheral part (such as alignment mark portion) of a substrate is masked.例文帳に追加

基板の周縁部（アライメントマーク部など）をマスクした状態で配線形成領域にめっきを行う工程を自動化によって達成できるめっき装置を提供する。 - 特許庁

As a result, a margin for only one time is required for alignment of masks in an exposure and development process, which reduces the size of a nonvolatile semiconductor memory device itself.例文帳に追加

この結果、露光現像工程の合わせマージンが1回分だけで済むこととなるため、不揮発半導体記憶装置の素子自体も小さくすることが可能である。 - 特許庁

In this process, the wiring part 51, 71, substrate mounting terminal 28, alignment mark 55 and driving IC 13 formed in a protruding region 25 are covered with a protective layer.例文帳に追加

その際、張り出し領域２５に形成されている配線部分５１、７１、基板実装端子２８、アライメントマーク５５、および駆動用ＩＣ１３を保護層で覆っておく。 - 特許庁

To provide a liquid crystal aligning agent to produce a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display device, the agent having high reliability without depending on process conditions such as film thickness and rubbing conditions.例文帳に追加

膜厚、ラビング条件などの工程条件に依らず信頼性の高い、液晶表示素子用液晶配向膜を与える液晶配向剤を提供すること。 - 特許庁

To prevent cracks from reaching to an element forming region on the occurrence of the cracks in an SOG film in a trench forming a process mark, an alignment mark or the like.例文帳に追加

工程マークやアライメントマーク等を形成するトレンチ内のＳＯＧ膜にクラックが発生した場合に、そのクラックが素子形成領域に到達するのを防止する。 - 特許庁

To provide waveguide type light components capable of simplifying an alignment process for matching an optical axis and materializing a excellent collimation state at low loss.例文帳に追加

光軸をあわせるための調心工程を簡単に行うことができ、低損失で良好なコリメート状態を実現することが可能な導波路型光部品を提供する。 - 特許庁

Therefore, the current non-injection region 115 and the window-structure region 112 can be formed in a self-aligned manner without using an alignment process where the regions are aligned with each other.例文帳に追加

両領域の位置合わせ工程等を行わなくても、セルフアラインで電流非注入領域１１５と窓構造領域１１２とを形成することができる。 - 特許庁

The shape of the working region is measured (step 6) with the alignment mark as a standard in the correction process (step 5), and the correction work is applied in accordance with the result of measurement (step 8).例文帳に追加

修正工程（ステップ５）では、アライメントマークを基準にして、加工領域の形状を測定し（ステップ６）、この測定結果に基づいて修正加工を施す（ステップ８）。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a multilayer printed-wiring board wherein the accuracy of the alignment of a mask with a wiring board is increased in an exposure process, and the reliability of a via hole part is not lowered.例文帳に追加

露光工程でのマスクと配線板との位置あわせ精度を高め、バイアホールの信頼性が低下することがない多層プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The liquid crystal alignment processing method further includes a process of performing rubbing treatment on the alignment layer 7 by using the rubbing roller 5, wherein the rubbing cloth 3 is provided with first piles 2 formed on a region near the seam 4 and second piles 1 formed on a region except the first piles 2 and the first piles 2 have smaller alignment control power than the second piles 1.例文帳に追加

ラビングローラ５を用いて配向膜７にラビング処理を施す工程をさらに備えており、ラビング布３は、継ぎ目４に近い領域に形成された第１のパイル２と、第１のパイル２を除く領域に形成された第２のパイル１とを備え、第１のパイル２は第２のパイル１よりも小さい配向規制力を有する。 - 特許庁

To provide the process of fabricating a semiconductor device which ensures planarization and alignment marker level difference reliably by forming the alignment marker level difference only once, by providing an optimal combination of the alignment marker level difference and the amount of polishing planarization and checking the amount of polishing required for planarization concretely and simply before polishing.例文帳に追加

アライメントマーカ段差と平坦化研磨量の最適な組み合わせを提供し、かつ平坦化に必要な研磨量を研磨前に具体的かつ簡便に確認することにより、アライメントマーカ段差の形成が１回のみで平坦化とアライメントマーカ段差の確保を確実に行うことができる半導体素子の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To realize a structure of a liquid crystal display device capable of preventing dielectric breakdown of an alignment layer during a manufacturing process without worsening a utilization efficiency of a substrate, moreover, without making the manufacturing process complex.例文帳に追加

製造工程中の配向膜の静電破壊を防止することができるとともに、基板の利用効率を悪化させることがなく、しかも製造工程を複雑化させることもない液晶表示装置の構造を実現する。 - 特許庁

When a metal film is utilized as an alignment mark in the middle of a manufacturing process, the width of the metal film is widened twice the amount of side etching, so that the metal film an be removed by the side etching contained in the process to be performed later such as photolithography, etc.例文帳に追加

製造工程の途中で、金属膜をアライメントマークとして利用する際には、ホトリソグラフ等の後工程に含まれるエッチング処理で、サイドエッチで除去可能なように、幅をサイドエッチ量の２倍未満にしておく。 - 特許庁

A plastic film 4 adhered to a hard glass supporting member 2 is subjected to the processes of forming a plastic film substrate including processes P1 to P7 of forming electrodes and a process P8 of baking an alignment film as a heat-treatment process.例文帳に追加

硬質のガラス支持部材２に粘着された状態のプラスチックフィルム４に対して、電極形成工程Ｐ１〜Ｐ７及び加熱処理工程である配向膜焼成工程Ｐ８を含むプラスチックフィルム基板形成工程を実行する。 - 特許庁

Further, by forming the contact layer all over the window layer, the etching process can be omitted for the contact layer, and precise alignment of the surface electrode becomes unnecessary so that the manufacturing process of the solar cell can be simplified.例文帳に追加

また、さらに、コンタクト層を窓層上全面に形成することにより、コンタクト層のエッチング工程を省略できるとともに、表面電極の精密な位置あわせが不要となり、太陽電池の製造工程を簡略化することができる。 - 特許庁

The wafer processing device 100 comprises a lower electrode 112 serving as a table for mounting a wafer 200, a process gas introduction tube 120 supplying process gas for etching the periphery, and an etching block gas introduction tubes 118 supplying etching block gas for blocking process gas supply to the central portion of the wafer, and a movable alignment mechanism 102 performing alignment of the wafer on the lower electrode 112.例文帳に追加

ウェハ処理装置１００は、ウェハ２００を載置する載置台である下部電極１１２と、周辺部をエッチングするプロセスガスを供給するプロセスガス導入管１２０と、ウェハの中心部にプロセスガスが供給されるのを阻止するエッチング阻止ガスを供給するエッチング阻止ガス導入管１１８と、下部電極１１２上で、ウェハの位置合わせを行う可動式の位置合わせ機構１０２と、を含む。 - 特許庁

To provide a grating element and a manufacturing method thereof, using a high molecular liquid crystal by a simple and easy process, wherein the flexibility of the element constitution is improved by stabilizing the alignment of the liquid crystal without depending on an alignment layer requiring high temperature treatment.例文帳に追加

簡素かつ容易なプロセスにて高分子液晶を使用したグレーティング素子およびその製造方法を提供し、さらに、高温処理を必要とする配向膜によることなく液晶配向を安定化することにより、素子構成の自由度を高める。 - 特許庁

In the method for manufacturing alignment layer by depositing an inorganic alignment layer on a substrate inside a chamber with predetermined atmosphere, the method includes alkylation treatment and deposition process S4a to alkylate an inorganic material flying from an inorganic material supplying means and deposit it on the substrate.例文帳に追加

所定雰囲気のチャンバ内において基板上に無機配向膜を成膜する配向膜の製造方法において、無機材料供給手段から飛来する無機材料をアルキル化して基板上に堆積させるアルキル化処理・堆積工程Ｓ４ａを含む。 - 特許庁

To provide a method for determining process alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask to be used for the manufacture of a semiconductor device, and to provide a method for determining photoresist pattern alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask.例文帳に追加

半導体装置の製造で用いられる位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時の処理アライメントの決定方法、位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時のフォトレジストパターンアライメントの決定方法を提供する。 - 特許庁

Film thicknesses of the etched cap layers 16 are reduced in the case of the self-alignment process forming the via plugs 22 in a self-alignment manner to the wiring layers 15 and the protective films 16 and 17 for the wiring layers, and design spaces of the via plugs 22 are decreased, thus fining the semiconductor device 10.例文帳に追加

ビアプラグ２２を、配線層１５及びその保護膜１６、１７と自己整合的に形成するセルフアラインプロセスに際して、エッチングされるキャップ層１６の膜厚を小さくし、ビアプラグ２２の設計間隔を縮小することで、半導体装置１０を微細化する。 - 特許庁

The manufacturing method of an element contains a plurality of patterning processes patterning a layer structuring an element on a flexible board 10 as well as forming alignment marks 16, 26 simultaneously, and further, a process patterning another layer selecting an alignment mark formed in some process in the above plurality of patterning processes based on the selected alignment mark when another layer structuring the element is patterned.例文帳に追加

可撓性基板１０上に素子を構成する層をパターニングすると同時にアライメントマーク１６，２６を形成するパターニング工程を複数回含み、さらに、前記素子を構成する別の層をパターニングするときに、前記複数回のパターニング工程において形成したアライメントマークのうち、いずれかの工程で形成したアライメントマークを選択し、該選択したアライメントマークに基づいて前記別の層のパターニングを行う工程を含むことを特徴とする素子の製造方法。 - 特許庁

The method comprises a first process of obtaining information regarding the specific regions C, E based on design information of the device pattern, and a second process of fixing an alignment condition when performing alignment based on information obtained.例文帳に追加

局所的に特定領域Ｃ，Ｅを歪ませながら、その上にデバイスパターンが形成される基板Ｐの、所定処理位置に対するアライメント方法であって、デバイスパターンの設計情報に基づいて、特定領域Ｃ，Ｅに関する情報を取得する第一工程と、取得された情報に基づいて、アライメントを行う際のアライメント条件を決定する第二工程と、を有する。 - 特許庁

The alignment sealing room 6 includes a positioning mechanism as well as a heating mechanism, in which a front panel and a rear panel are heated to be sealed after positioning is processed, and the positioning process and the sealing process can be carried out in one treatment chamber.例文帳に追加

アライメント封着室６は位置合わせ機構の他に加熱機構を有しており、位置合わせが終了した後にフロントパネル及びリアパネルを加熱して封着することができ、位置合わせ工程と封着工程とを一つの処理室で行うことができる。 - 特許庁

This manufacturing method is equipped with a nozzle hole covering process by forming a liquid repellent resin layer by lamination on the surface of the nozzle plate with nozzle holes and a process for removing the liquid repellent resin layer at the nozzle hole by self-alignment.例文帳に追加

ノズル孔を有するノズルプレートの表面に撥液性樹脂層をラミネートによって形成してノズル孔を覆う工程、ノズル孔の撥液性樹脂層をセルフアライメントで除去する工程を含む撥液性樹脂層付きノズルプレートの作製方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a polarizing element which has an alignment structure of dichroic pigment developed and is further improved in polarizing performance, by controlling the vaporizing speed of a solvent in a film forming process, after alignment thin film of the dichroic pigment is formed by coating.例文帳に追加

本発明における課題は、二色性色素の配向薄膜を塗布で形成したのちの製膜プロセスにおいて、溶媒の蒸発速度を制御することにより、二色性色素の配向構造を発達させた、偏光性能をより向上させた偏光素子を製造する方法を提供するものである。 - 特許庁

When a core 7 of an optical waveguide W is formed on a surface of an electric circuit board E, the core 7 and optical element positioning alignment marks A are simultaneously formed from a photosensitive resin layer including a core 7 formation region and an alignment mark A formation region by a single photolithography process.例文帳に追加

電気回路基板Ｅの表面に光導波路Ｗのコア７を形成する際に、コア７形成領域とアライメントマークＡ形成領域とをもつ感光性樹脂層から、１回のフォトリソグラフィ法により、コア７と同時に、光学素子位置決め用のアライメントマークＡを形成する。 - 特許庁

An electric discharge machine 10 is equipped with machine base 14 capable of supporting a work to be machined, a y-axis alignment assembly 60 mounted on the machine base and having a first moving direction 66, and an electrode alignment assembly 62 mounted on the machine base and holding an electrode 46 during the process of machining.例文帳に追加

放電加工機（１０）は、被加工品を支持する構成の機械ベース（１４）と、機械ベースに装着され、第１移動方向（６６）を有するｙ軸アライメントアセンブリ（６０）と、機械ベースに装着され、加工プロセスの間電極（４６）を保持する構成とされた電極アライメントアセンブリ（６２）とを備える。 - 特許庁

The control unit 10 calculates an alignment correction for correcting a relative positional shift of the stage 2 from the light irradiating unit 6 when the aligner is adjusted, and the aligner carries out an exposure process controlling the position of the stage 2 on the basis of the calculated alignment correction.例文帳に追加

制御部１０は、露光装置の調整を行なった際に、光照射部６に対するステージ２の相対的位置ずれを補正するためのアライメント補正量を計算により求め、算出したアライメント補正量に基づいてステージ２の位置を制御しながら露光処理を行なう。 - 特許庁

To provide a polymerizable liquid crystalline compound containing no functional group difficult to synthesize, and also to provide a cholesteric aligned liquid crystal film which does not require a complicated process such as photoirradiation under an inert gas atmosphere, and has excellent alignment retention properties and mechanical strength after the liquid crystal alignment is fixed.例文帳に追加

合成困難な官能基を含まない重合性の液晶化合物を提供し、不活性ガス雰囲気下での光照射のような煩雑な工程を必要とせず、液晶配向固定化後の配向保持能、機械的強度に優れたコレステリック配向液晶フィルムを提供。 - 特許庁

For the purpose of removing extremely smaller foreign matters than a component C, which are mixed in a component stored in a component storage case 10, in the alignment process by the first and second disks 24, 25 of a component alignment section 20, a groove 26e is arranged in a movable plate 26 that counters the second disk 25.例文帳に追加

部品収納ケース１０に収納された部品Ｃに混入している該部品Ｃよりも極めて小さな微小異物を、部品整列部２０の第１，第２ディスク２４，２５による整列過程で取り除くための溝２６ｅを、第２ディスク２５と向き合う可動プレート２６に設けた。 - 特許庁

The functions of a protective layer and the alignment layer can be simultaneously performed by patterning the pixel electrode on a source and a drain electrodes and then immediately vapor-depositing polyimide resin on the entire surface of the pattern from a stage for forming a substrate to a stage for forming the alignment layer in the manufacturing process of the liquid crystal display device.例文帳に追加

本発明によると、液晶表示装置の製造過程の中、基板から配向膜まで形成する段階でソース及びドレイン電極上に画素電極をパターンニングしてすぐポリイミド樹脂を全面蒸着することで保護層及び配向膜の機能を同時に遂行できるようになる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device which can suppress degradation of yield by forming marker for alignment without increasing an additional process, can provide alignment with high accuracy, can reduce a time required for inspection and, thereby, permits high visibility.例文帳に追加

新たな工程を増やすことなく位置合わせの為のマーカーを形成して歩留まりの低下を抑えると共に、精度の高い位置合わせおよび検査工程にかかる時間の短縮化を可能とすることにより視認性の高い液晶表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

When forming a via hole in the insulating layer or the like in the succeeding process, a corresponding alignment mark among the plurality of alignment marks is detected by the light made to pass through the openings by using the light irradiation member, and positioning is performed with the detected mark as a position reference.例文帳に追加

以降の工程において絶縁層にビアホールの形成等を行う際に、上記の光照射用部材を用いて上記の開口部を通過させた光により、上記の複数のアライメントマークのうち対応するアライメントマークを検出し、検出したマークを位置基準として位置合わせを行う。 - 特許庁

To provide a simple configuration of the body 100A of an image forming apparatus employing a side orientation system and using an LED as a light source of an exposure means, the configuration ensuring the alignment accuracy between a process cartridge P and the body 100A and between the process cartridge P and an LED unit 6, and also achieving usability in inserting and removing the process cartridge.例文帳に追加

露光手段の光源としてＬＥＤが使用されるサイドオリエントの画像形成装置において、プロセスカートリッジＰと本体１００Ａ、プロセスカートリッジＰとＬＥＤユニット６の位置決め精度を保証し、かつ、プロセスカートリッジ挿抜のユーザビリティ性を両立できる簡潔な本体構成を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of preventing an alignment mark used for overlapping in a manufacturing process from being deformed asymmetrically in a heat-treatment process, such as activation annealing treatment and epitaxial growth in a manufacturing process in the semiconductor device using SiC for a substrate.例文帳に追加

本発明は、ＳｉＣを基板に用いた半導体装置において、製造工程の重ね合わせに用いるアライメントマークが、製造工程中の活性化アニール処理やエピタキシャル成長などの熱処理工程で非対称に変形することを防止することができる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To make magnetic elements among resin magnetic materials comprising a rotating body portion anisotropic so as to place them in uniform alignment in predetermined direction, and allow them to be magnetized in subsequent magnetizing process.例文帳に追加

回転本体部を構成する樹脂磁性材料中の磁性体を所定方向に均一に整列させるよう異方化し、後の着磁工程において効率的に着磁可能とする。 - 特許庁

Even after the fusion splicing process is completed and the optical fibers are taken out of a fusion splicing apparatus, the alignment V-shaped grooves of the V-shaped groove substrate (3) are cleaned with the optical fiber stick cleaner (11).例文帳に追加

融着接続工程が終了し、光ファイバを装置外に取出した後においても、Ｖ溝基板（３）の整列用Ｖ溝を光ファイバスティッククリーナ（１１）によりクリーニングを行う。 - 特許庁

To control the liquid crystal molecules in a liquid crystal layer of a liquid crystal display device so as to have various alignment directions in a simple production process and to increase the viewing angle of the liquid crystal display device.例文帳に追加

簡単な製造プロセスで液晶表示器の液晶層内の液晶分子が多種な排列方向を有することを制御し、よって液晶表示器の視角を広げる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device which has a projection for domain restriction and an alignment control layer and whose manufacturing process can be simpler compared with conventional device, and its manufacturing method.例文帳に追加

ドメイン規制用突起と配向制御層とを有し、従来に比べて製造工程をより一層簡略化できる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process to inexpensively prepare within few minutes a precise alignment of hundred-thousands of electrical contacts covering the entire surface of a 12 inch (30.48 cm)-wafer for preparing a flip chip.例文帳に追加

フリップチップ製造のために、１２インチ（３０．４８ｃｍ）のウェーハ全面に広がる数十万個の電気接点の精密な配列を、安価かつ数分以内で製造する方法の提供。 - 特許庁

If the center coordinate of the alignment symbol can not be calculated (S150: N0), or the record position of the GR code is not appropriate (S180: N0), an alert process is performed (S200).例文帳に追加

一方、位置決め用シンボルの中心座標が算出できない場合（Ｓ１５０：ＮＯ）、又はＱＲコードの記録位置が適正でない場合には（Ｓ１８０：ＮＯ）警告処理を実行する（Ｓ２００）。 - 特許庁

To provide a color filter or the like, wherein a transparent protective layer does not disturb alignment of liquid crystal in a display region while the number of processes is reduced in the manufacturing process of the color filter.例文帳に追加

カラーフィルタの生産工程において工程数が削減されながら、表示領域において透明保護層が液晶の配向を乱すことがないカラーフィルタなどを提供する。 - 特許庁

Consequently, alignment of the recess 62 and an opening surface surrounded by the wall part 24A needed in a manufacturing process where the recess 62 is formed before bonding the interconnecting hole plate 24 is not required.例文帳に追加

このため、連通孔プレート２４を接合する前に凹部６２を形成する製造方法では必要となる、凹部６２と壁部２４Ａに囲まれた開口面との位置合わせが不要となる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor element which is suitable for minimizing the vanishing of a gate electrode and a hard mask by using a comparatively simple process when a self alignment contact is formed.例文帳に追加

自己整列コンタクト形成時に比較的簡単な工程によりゲート電極及びハードマスクの消失を最小化するのに好適な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁