「alignment process」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate for liquid crystal alignment based on a transition nucleus formation process which can be achieved by using the conventional liquid crystal display manufacturing method almost as it is.例文帳に追加

これまでの液晶ディスプレイの製造法をほぼそのまま利用して実現可能な転移核形成法に基づく液晶配向用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a rubbing material capable of deterring static electricity from being generated during a rubbing process and reducing contamination of the surface of an alignment film due to foreign matter.例文帳に追加

ラビング処理中の静電気の発生を抑制すると共に、異物による配向膜表面の汚染を低減することのできるラビング材を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a power device with which a self-alignment forming process of a channel can be simplified and cost can be reduced.例文帳に追加

この発明は、チャネルの自己整合形成工程を簡略化でき、低コスト化が可能なパワーデバイスの製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

In the process of forming a light-shielding pattern, the electrodes which have already been formed are used as a light-shielding pattern, and by giving a self alignment exposure from the rear side of the substrate, the pattern is formed easily.例文帳に追加

既に形成された電極を遮光パターンとして用い、基板背面側よりセルフアライメント露光することにより、容易に形成できる。 - 特許庁

The alignment method is carried out in process of projecting a pattern (34) drawn on a mask (30) onto a first face (10A) and a second face (10B) of a quartz wafer (10) by exposure.例文帳に追加

本アライメント方法は、マスク（３０）に描かれたパターン（３４）を水晶ウエハ（１０）の第一面（１０Ａ）と第二面（１０Ｂ）とに露光する際のアライメントである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a liquid crystal device which requires no rubbing process when forming an alignment layer and is capable of reducing mixing of foreign matters.例文帳に追加

配向膜の形成時にラビング処理が不要であり、かつ異物の混入を低減することが可能な液晶素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a process for fabricating a chip in which wire bonding is required only once, alignment is facilitated in packaging, and man-hour is reduced.例文帳に追加

本発明は、１回のワイヤボンディングで済み、位置合わせの容易な実装が可能で、工数の低減につながるチップを作製することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for analyzing the behavior of front side marks on a substrate, during a process of manufacturing a device, without the need for etching global alignment marks.例文帳に追加

グローバル・アライメント・マークをエッチングする必要なしにデバイス作製プロセス中に基板上の表面マークの挙動を分析する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and device for stacking products yielded from a shearing process capable of stacking even small items or thin and long items in good alignment.例文帳に追加

小さな製品や細長い製品でもうまく揃えて集積することのできるシャーリング加工による製品の集積方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device, dispensing with a tool and alignment of products, and performing continuous processing in deburring a product after a metal mold process.例文帳に追加

金属成型工程後に発生する製品のバリ取り処理において、治具および製品の整列を不要とし、尚且つ連続処理可能な装置を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of an electrode, which permits to form an electrode through self-alignment process with respect to the detailed structure of a carbon nanotube, a quantum dot or the like.例文帳に追加

カーボンナノチューブや量子ドット等の微細な構造に対して自己整合的に電極を形成することを可能とする電極製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the pre-tilt angle of the liquid crystal molecules can be controlled, since the arrangement state of the alignment layer molecules after the drying process can be controlled.例文帳に追加

従って、乾燥処理後における配向膜分子の配列状態を制御することができるため液晶分子のプレチルト角を制御することができる。 - 特許庁

To shorten the time required for posture alignment of a wafer in the transfer process and improve the wafer transfer efficiency in a wafer transfer system.例文帳に追加

ウエハ移載システムにおいて、その移載処理におけるウエハの姿勢合わせに要する時間を短縮化し、ウエハの移載効率の向上を図ることを課題とする。 - 特許庁

To provide a mold for imprinting, an alignment method, an imprinting method, and an imprinting device capable of performing alignment with high accuracy by making it possible to directly and optically recognize an alignment mark made of the same material as a mold material without requiring a complicated process for manufacturing the mold.例文帳に追加

本発明は、モールドの製造に複雑な工程を要することなく、モールド材と同じ材料からなるアライメントマークを直接光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用モールド、アライメント方法、インプリント方法、およびインプリント装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a liquid crystal alignment agent which realizes uniform liquid crystal alignment with a pre-tilt angle via a single step of irradiation process by making a linearly polarized ultraviolet rays, of which the direction of the electric field vector is inclined, with respect to a substrate surface irradiate a liquid crystal alignment layer formed on the substrate surface.例文帳に追加

基板表面に形成した液晶配向膜に、その電場ベクトルの方向が基板面から傾いている、直線偏光された紫外線を照射することにより、１段階の照射プロセスでプレチルト角を有する均一な液晶配向を実現することのできる液晶配向剤を提供すること。 - 特許庁

A substrate 5 can efficiently be manufactured by separating the alignment and the actual processing when an alignment mark 6a fixed with respect to the substrate 5 is provided, and when position information on a position of a process area on the substrate 5 is retrieved with respect to the alignment mark 6a before the substrate 5 is processed.例文帳に追加

基板５は、基板５に対して固定されたアライメントマーク６ａが設けられ、基板５を加工する前に、基板５の加工領域の位置に関する位置情報がアライメントマーク６ａに関連させて取り出された場合に、アライメントと実際の加工とを切り離すことによって効率よく製造することができる。 - 特許庁

In this process, even when the intensity of UV rays irradiating the mixture differs by location to vary the polymerization speed of the polymerizable monomer, the liquid crystal molecules 320 and the polymerizable monomer under and close to wiring lines are less likely to move because of an influence of the alignment regulating force of the alignment layer 180 and of the alignment layer 250.例文帳に追加

この工程において、場所によって照射される紫外線強度が異なり、重合性モノマーの重合速度が異なっても、配向膜１８０及び配向膜２５０の配向規制力による拘束力の影響で、配線下及びその近傍の液晶分子３２０及び重合性モノマーは移動しにくい。 - 特許庁

The process of acquiring an image of an alignment mark M1 on the process substrate and computing the reference position of the process substrate is repeated until the reference position of the mask coincides with the reference position of the process substrate or reaches within a predetermined tolerance, on the basis of the above computed reference position of the mask.例文帳に追加

上記演算したマスク側の基準位置を基準として、マスク側の基準位置と処理基板側の基準位置とが一致若しくは予め設定した許容誤差内となるまで、上記処理基板側のアライメントマークＭ１の画像を取得して当該処理基板側の基準位置を演算する処理を繰り返す。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device using SiC for the substrate comprises: a process for forming an alignment mark 2 on a {0001} plane in the SiC substrate 1; and a process for forming a prescribed pattern on the SiC substrate 1 by aligning a transfer mask and the SiC substrate 1, based on the alignment mark 2.例文帳に追加

本発明は、ＳｉＣを基板に用いた半導体装置を製造する方法であって、ＳｉＣ基板１の｛０００１｝面に、アライメントマーク２を形成する工程と、アライメントマーク２に基づき、転写マスクとＳｉＣ基板１との位置合わせを行いＳｉＣ基板１上に所定のパターンを形成する工程とを備える。 - 特許庁

Merely an oxide film 5 that is deposited, in advance, in a groove 4 for alignment is selectively thinned with photo resist as a mask, thus preventing the region of the groove 4 for alignment from being flattened even in a flattening machining after that, and hence achieving an effective function as the mark for positioning of a process following after an element insulation and isolation process.例文帳に追加

予め位置合わせ用溝４に堆積した酸化膜５のみをフォトレジストをマスクとして選択的に薄くすることにより、その後の平坦化加工においても、位置合わせ用溝４の領域が平坦になることはなく、素子絶縁分離工程に続く工程の目合わせ用マークとして有効に機能させることができる。 - 特許庁

The method of integrating the silicide metal of a CMOS allows incorporation of silicide contacts (S/D and gates) and metal silicide gates using a self-alignment process (salicide) and at least one lithography process.例文帳に追加

自己整合プロセス（サリサイド）と少なくとも１つのリソグラフィ工程を用いてシリサイド・コンタクト（Ｓ／Ｄおよびゲート）と金属シリサイド・ゲートを組み込むことを可能にする、ＣＭＯＳのシリサイド金属を集積化する方法を提供する。 - 特許庁

To form a mark structure capable of being utilized as an alignment mark in subsequent processes on a semiconductor film during the same exposure process in a process for obtaining a semiconductor of a large particle size crystal phase from a semiconductor film.例文帳に追加

半導体膜から粒径の大きな結晶相の半導体を得る工程において、以降の工程で、アライメントマークとして利用可能なマーク構造を、同一の露光工程において半導体膜に形成する。 - 特許庁

To provide a multifunction wafer aligner that can detect the presence or absence of damage in a wafer before an arbitrary semiconductor manufacture process is carried out to the wafer, and while a flat zone alignment process is being carried out in the wafer.例文帳に追加

ウェーハに任意の半導体製造工程が遂行される以前と、ウェーハのセンタリング、ならびにウェーハのフラットゾーンアライメント工程途中とにウェーハの損傷有無を検出できるマルチファンクションウェーハアライナを提供する。 - 特許庁

The glass substrates SUB mounted on the heating stages HST and conveyed is heated, and a process P1 of irradiation with polarized light in a heated state and a process P2 of only heating are alternately performed to provide the alignment control function.例文帳に追加

加熱ステージＨＳＴに載せて搬送されるガラス基板ＳＵＢは加熱しつつ偏光を照射するプロセスＰ１と加熱のみを行なうプロセスＰ２を順次交互に施して配向制御能を付与する。 - 特許庁

Symmetry of the alignment mark formed in the second resist layer is improved by suitably adjusting thicknesses, coating process parameters, and baking process parameters of the first and the second resist layers.例文帳に追加

第２のレジスト内に形成されるアライメントマークの対称性は、第１および第２のレジスト層のそれぞれの厚さ、被覆プロセスパラメータ、およびベーキングプロセスパラメータを適切に調整することによって向上させることができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the liquid crystal display device comprises: a process of forming an electrode layer 120a for pixel electrode on a first substrate 100; a process of forming a prescribed alignment layer pattern 500 on the electrode layer 120a for pixel electrode; and a process of patterning the electrode layer 120a for pixel electrode by using the alignment layer pattern 500 as a mask and forming a pixel electrode pattern 120.例文帳に追加

第１基板１００上に画素電極用電極層１２０ａを形成する工程と、画素電極用電極層１２０ａ上に所定の配向膜パターン５００を形成する工程と、配向膜パターン５００をマスクにして画素電極用電極層１２０ａをパターニングし、画素電極パターン１２０を形成する工程と、を含んで液晶表示素子の製造方法を構成する。 - 特許庁

When the misalignment occurs, the process when the misalignment occurs is changed over by use of a mode variable S306 showing which program is executed, of a program S308 requiring the misalignment restoration process not considering alignment and a program S310 requiring the system restart considering the alignment, and the system restart S305 or the misalignment restoration process S203 is executed.例文帳に追加

ミスアライメントが発生した際に、アライメントを考慮していない、アライメント復帰処理が必要なプログラムＳ３０８と、アライメントを考慮した、システム再起動が必要なプログラムＳ３１０のどちらが実行されているかを示すモード変数Ｓ３０６を用いて、ミスアライメント発生時の処理を切り換えて、システム再起動Ｓ３０５またはミスアライメント復帰処理Ｓ２０３を実行する。 - 特許庁

The method of manufacturing the liquid crystal display panel, having a liquid crystal layer sandwiched between a pair of substrates with alignment layers interposed; comprises a process of heating the surfaces of the substrates on the sides of the liquid crystal layer at 100 to 300°C using a hot plate; and a process of successively forming the alignment layers on the substrate surfaces after the heating process.例文帳に追加

一対の基板間に配向膜を介し液晶層が保持された液晶表示パネルを製造する方法であって、上記製造方法は、ホットプレートを用いて基板の液晶層側の表面を１００〜３００℃に加熱する工程と、上記加熱工程に続けて基板表面上に配向膜を形成する工程とを有する液晶表示パネルの製造方法である。 - 特許庁

Since molecules are aligned in a relief pattern state in the pattern (polyimide film) obtained by this invention, a relief pattern most suitable for a liquid crystal alignment film or the like can be provided without rubbing process for alignment of liquid crystal.例文帳に追加

また、本発明で得られたパターン（ポリイミド膜）は、レリーフパターンとされた状態で分子配向しているので、液晶を配向させるためのラビング処理を施すことなく、液晶配向膜等として最適なレリーフパターンを提供することができる。 - 特許庁

To laminate a wafer electrode and a contact by facilitating alignment of the wafer electrode and a contact probe stably over a long term even in a production process employing a large number of inspection boards and a large number of alignment devices when inspection of wafers is conducted in a block.例文帳に追加

ウエハ一括での検査を行う場合に、多数の検査ボード、多数のアライメント装置を用いる生産工程であっても、長期的に安定してウエハ電極とコンタクトプローブの位置合わせを容易に行いコンタクトと貼り合わせることを目的とする。 - 特許庁

thus, even if a position correcting electron beam is in irradiated to the alignment mark 82 to correct the position in the next electron beam lithographic process, the electrons e of the beam do not stay at the alignment mark 82, but will flow into the multi-layer film 42a.例文帳に追加

したがって、次工程の電子ビームリソグラフィにおける描画位置を補正するためにアライメントマーク８２に位置補正用電子ビームを照射しても、当該電子ビームの電荷ｅはアライメントマーク８２に滞留することなく多層膜４２ａに流れ込む。 - 特許庁

The patterning method includes a step of forming a pattern by using a plurality of patterning steps by use of a photolithographic process on the same substrate, and the method includes steps of preparing a substrate on which an alignment mark to be used for alignment is formed, drawing a first pattern by aligning using the above alignment mark, and drawing a second pattern by aligning using the above alignment mark.例文帳に追加

同一基板上にフォトリソグラフィー法を用いた複数のパターニング工程を用いてパターンを形成する工程を有するパターン形成方法において、位置合わせに用いるアライメントマークが形成された基板を準備する工程と、上記アライメントマークを用いて位置合わせを行い第１のパターンを描画する工程と、さらに上記アライメントマークを用いて位置合わせを行い第２のパターンを描画する工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the liquid crystal display device has a process of forming transparent electrodes 7 for driving a liquid crystal on a counter substrate 11, a process of forming columnar spacers 10 on the transparent electrodes 7 and a process of forming an alignment layer 8 on the entire surface of the counter substrate 11.例文帳に追加

液晶表示装置の製造方法は、対向基板１１上に液晶駆動用の透明電極７を形成する工程と、透明電極７上に柱状スペーサ１０を形成する工程と、対向基板１１上全面に配向層８を形成する工程とをこの順に有する。 - 特許庁

To provide a technique for forming a contact hole of a proper cross section to self-alignment by raising the substrate temperature to a high temperature, without requiring a process of mask removal.例文帳に追加

マスク除去のための工程を必要とせず、基板温度を高温に上昇させてセルフアラインに良好な断面形状のコンタクトホールを形成する技術を提供する。 - 特許庁

In this process, the wiring part 51, 71, substrate mounting terminal 28, alignment mark 55 and driving IC 13 formed in a protruding region 25 are covered with a protective layer.例文帳に追加

その際、張り出し領域２５に形成されている配線部分５１、７１、基板実装端子２８、アライメントマーク５５、および駆動用ＩＣ１３を保護層で覆っておく。 - 特許庁

A fixing member frame 7 has a window shape opening part at a central part, and facilitates the observation of an alignment mark when it is positioned at the web film base material in a second transfer process.例文帳に追加

固定部材フレーム７は中央部に窓状の開口部があり二次転写工程でウェブフィルム基材との位置合わせの際にアライメントマークの観察を容易としている。 - 特許庁

During an alignment process, the visual field movement device 54 moves the visual field against the wafer W, so that it can see at least a part of the edge of the wafer W.例文帳に追加

本発明において、視野の移動装置５４は、整合工程中、ウェーハＷの端縁の少なくとも一部を見得るように視野をウェーハＷに対して移動させる。 - 特許庁

To form precisely and simply an alignment mark having high resistance to a thermal process and stress on the glass substrate of a flat panel display such as a plasma display panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル等のフラットパネルディスプレイのガラス基板上に精度よく、かつ熱プロセスおよび応力に対しての耐性の高いアライメントマークを簡単に形成する。 - 特許庁

The stacked lens module produced by this method allows precise alignment of optical axes of lenses, considerable simplification of the process for manufacturing the lens module, and the reduction in manufacturing costs.例文帳に追加

この製法を利用し、形成する堆積式レンズモジュールは、レンズの光学中心軸を精密に位置合わせでき、レンズモジュールプロセスを大幅に簡易化し、製造コストを低減できる。 - 特許庁

The device can be constructed in a small size by alignment under high density through minimizing an arrangement pitch, and thus transportation to the next process step can be conducted in twice of the cycle time.例文帳に追加

配列ピッチを縮小して高密度化を図って整列させることでコンパクト化を図り、サイクルタイムの２倍の時間を確保して後工程に搬送できるようになる。 - 特許庁

To provide a multilayered fiber aggregate produced by piling up together two or more kinds of fiber aggregates differing in alignment from one another in a continuous process, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

連続した工程で２種類以上の配向性の異なる繊維集合体を積層した多層繊維集合体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent cracks from reaching to an element forming region on the occurrence of the cracks in an SOG film in a trench forming a process mark, an alignment mark or the like.例文帳に追加

工程マークやアライメントマーク等を形成するトレンチ内のＳＯＧ膜にクラックが発生した場合に、そのクラックが素子形成領域に到達するのを防止する。 - 特許庁

To provide a material for a liquid crystal alignment layer in which the effect of irradiation of UV rays is enough developed in the production process and deterioration by UV rays is suppressed and prevented.例文帳に追加

製造工程における紫外線照射の効果が十分に発揮され、且つ、紫外線による劣化が抑制・防止された液晶配向層材料を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal aligning agent to produce a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display device, the agent having high reliability without depending on process conditions such as film thickness and rubbing conditions.例文帳に追加

膜厚、ラビング条件などの工程条件に依らず信頼性の高い、液晶表示素子用液晶配向膜を与える液晶配向剤を提供すること。 - 特許庁

This method 200 includes a process 206 for determining one adjustment out of a plurality of views so as to align the imaging object with at least one alignment marker.例文帳に追加

本方法（２００）は、撮像対象を少なくとも１つの整列マーカと整列させるように複数の画像ビューのうちの１つの調整を決定する工程（２０６）を含む。 - 特許庁